一種真空式激光刻蝕吸附平臺的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空式激光刻蝕吸附平臺，包括真空泵和工作臺，所述真空泵設(shè)置在工作臺的下方，其中，所述真空泵為復合分子泵，所述工作臺包括金屬底板，所述金屬底板上開設(shè)有溝槽，所述金屬底板上設(shè)有聚甲醛板，所述聚甲醛板上設(shè)置有多個吸附孔，所述吸附孔和溝槽相互貫通并和真空泵的吸風口相連。本實用新型提供的真空式激光刻蝕吸附平臺，通過在聚甲醛板和金屬底板上分別設(shè)置吸附孔和溝槽，以便真空泵抽取工作臺內(nèi)部氣體后形成一個負壓空間，從而加大吸附力，大幅降低了因工作臺吸力不足造成加工材料浪費過多、加工偏位以及產(chǎn)品不良等缺陷。
【專利說明】一種真空式激光刻蝕吸附平臺
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種激光刻蝕吸附平臺，尤其涉及一種真空式激光刻蝕吸附平臺，屬于激光微加工【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]在PET薄膜導電膜層放置固定并加工的放料平臺中，現(xiàn)有技術(shù)是利用“潮汐原理”并采用真空發(fā)生器排空平臺內(nèi)的氣體，從而使平臺內(nèi)部形成負壓來吸附待加工材料。所謂真空發(fā)生器在泵體內(nèi)形成高速氣流，氣體的流動速度越高，氣體壓力就越低，因此就具有越強的抽吸能力。但是由于真空發(fā)生器泵體體積有限，一般流量均比較小，這就導致工作過程中，平臺吸附反應(yīng)慢、吸附力小等缺陷，造成生產(chǎn)效率及成品率均比較低。因此，針對現(xiàn)有的不足，有必要提供一種新的技術(shù)以提聞生廣效率和成品率。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種真空式激光刻蝕吸附平臺，加大吸附力，提聞生廣效率。
[0004]本實用新型為解決上述技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是提供一種真空式激光刻蝕吸附平臺，包括真空泵和工作臺，所述真空泵設(shè)置在工作臺的下方，其中，所述真空泵為復合分子泵，所述工作臺包括金屬底板，所述金屬底板上開設(shè)有溝槽，所述金屬底板上設(shè)有聚甲醛板，所述聚甲醛 板上設(shè)置有多個吸附孔，所述吸附孔和溝槽相互貫通并和真空泵的吸風口相連。
[0005]上述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其中，所述吸附孔按陣列方式均勻排列。
[0006]上述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其中，所述吸附孔是孔徑為0.5mm~4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔之間的間距為2mm~20mm。
[0007]上述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其中，所述工作臺的平面度為0.05mm以內(nèi)。
[0008]本實用新型對比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果:本實用新型提供的真空式激光刻蝕吸附平臺，通過在聚甲醛板和金屬底板上分別設(shè)置吸附孔和溝槽，以便真空泵抽取工作臺內(nèi)部氣體后形成一個負壓空間，從而加大吸附力，大幅降低了因工作臺吸力不足造成加工材料浪費過多、加工偏位以及產(chǎn)品不良等缺陷。此外，本實用新型通過縮小吸附孔孔徑、增加吸附孔數(shù)量、增大工作臺底板內(nèi)部氣路的截面面積，并且利用真空泵的流量及壓力均較大的優(yōu)點，從而更好地將待加工材料牢牢地吸附在工作臺上，進一步提高了生產(chǎn)效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型的真空式激光刻蝕吸附平臺整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2為本實用新型的吸附平臺結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中:
[0012]I真空泵2工作臺3聚甲醛板[0013]4金屬底板5吸附孔【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述。
[0015]圖1為本實用新型的真空式激光刻蝕吸附平臺整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型的吸附平臺結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]請參見圖1和圖2，本實用新型提供的真空式激光刻蝕吸附平臺包括真空泵I和工作臺2，所述真空泵I設(shè)置在工作臺2的下方，其中，所述真空泵I為復合分子泵，所述工作臺2包括金屬底板4，所述金屬底板4上開設(shè)有溝槽，所述金屬底板4上設(shè)有聚甲醛板3，所述聚甲醛板3上設(shè)置有多個吸附孔5，所述吸附孔5和溝槽相互貫通并和真空泵I的吸風口相連。
[0017]本實用新型提供的真空式激光刻蝕吸附平臺，通過在POM板3和金屬底板4上分別設(shè)置吸附孔5和溝槽，以便真空泵抽取工作臺內(nèi)部氣體后形成一個負壓空間，從而吸附待加工物料。聚甲醒板(Ρ0Μ板):英文名稱Polyoxymethylene,俗稱賽鋼板,是用POM塑料粒子通過擠出機高溫擠出，經(jīng)過相應(yīng)的模具口擠出得到不同厚度的板材，是一種高熔點、高結(jié)晶性的熱塑性工程塑料。因POM板所具有的良好特性，非常適合在脈沖激光刻蝕中作為加工平臺，用來進行精密定位。
[0018]本實用新型提供的真空式激光刻蝕吸附平臺，所述真空泵I優(yōu)選為復合分子泵，分子泵在國外半導體領(lǐng)域里的許多工藝場合是用來代替低溫泵，尤其是濺射、刻蝕和LCVD等裝置都采用復合分子泵和牽引泵作為主泵；所述吸附孔5優(yōu)選按陣列方式均勻排列；匕匕如所述吸附孔5優(yōu)選孔徑為0.5mm~4mm的圓孔,相鄰兩個吸附孔5之間的間距為2mm~20mm ;所述工作臺2的表面盡量光滑，如平臺平面度精度最好在0.05mm以內(nèi)。通過縮小吸附孔5孔徑、增加吸附孔5數(shù)量、增大工作臺金屬底板4內(nèi)部氣路的截面面積，并且利用真空泵的流量及壓力均較大的`優(yōu)點，從而更好地將待加工材料牢牢地吸附在工作臺上。
[0019]雖然本實用新型已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本實用新型，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的修改和完善，因此本實用新型的保護范圍當以權(quán)利要求書所界定的為準。
【權(quán)利要求】
1.一種真空式激光刻蝕吸附平臺，包括真空泵(I)和工作臺(2)，所述真空泵(I)設(shè)置在工作臺(2)的下方，其特征在于，所述真空泵(I)為復合分子泵，所述工作臺(2)包括金屬底板(4)，所述金屬底板(4)上開設(shè)有溝槽，所述金屬底板(4)上設(shè)有聚甲醛板(3)，所述聚甲醛板(3)上設(shè)置有多個吸附孔(5)，所述吸附孔(5)和溝槽相互貫通并和真空泵(I)的吸風口相連。
2.如權(quán)利要求1所述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)按陣列方式均勻排列。
3.如權(quán)利要求2所述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其特征在于，所述吸附孔(5)是孔徑為0.5mm?4mm的圓孔，相鄰兩個吸附孔(5)之間的間距為2mm?20mm。
4.如權(quán)利要求2所述的真空式激光刻蝕吸附平臺，其特征在于，所述工作臺(2)的平面度為0.05mm以內(nèi)。
【文檔編號】B23K26/70GK203636212SQ201320893368
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年12月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月25日
【發(fā)明者】施心星, 龔楷峰, 劉俊輝, 邵西河 申請人:蘇州鐳明激光科技有限公司