轉(zhuǎn)臺裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種轉(zhuǎn)臺裝置。將轉(zhuǎn)臺裝置的殼體內(nèi)隔成第一空間與第二空間，在穩(wěn)定狀態(tài)下，將第一空間的壓力調(diào)整為比第二空間的壓力更高的壓力，從而在任意的時刻，使壓力的高低關(guān)系逆轉(zhuǎn)，使第二空間的壓力成為比第一空間的壓力更高的壓力。由此，能夠定期地強制關(guān)閉設置于第一空間與第二空間之間的止回閥，從而防止止回閥動作不良。
【專利說明】轉(zhuǎn)臺裝置

【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)臺裝置，該轉(zhuǎn)臺裝置能夠防止轉(zhuǎn)臺裝置所使用的止回閥的動作不良并防止切削油劑等從外部浸入殼體的內(nèi)部。

【背景技術(shù)】
[0002]以往，使用進行NC控制的轉(zhuǎn)臺裝置，該轉(zhuǎn)臺裝置用于使設置于加工臺3上的加工物進行旋轉(zhuǎn)、分度動作，該加工臺3附設在圖8所示那樣的進行切削加工、磨削加工、放電加工等的機床I上。在這種裝置中，在轉(zhuǎn)臺2附設有內(nèi)置有伺服馬達、動作確認用的開關(guān)、電磁閥等電氣部件的殼體，在對安裝于該轉(zhuǎn)臺2上的加工物進行切削加工、磨削加工、放電加工等時，分別一邊將切削油劑、磨削油劑、放電加工液等噴射至加工物使其浸潰，一邊進行切削加工、磨削加工、放電加工等加工。
[0003]在切削油劑、磨削油劑、放電加工液中存在油性與水溶性的溶液，但特別地，水溶性的溶液存在如下趨勢:在對加工物進行切削加工時，為了除去從加工物產(chǎn)生的切屑，從而進行大量噴射。另外，水溶性的切削油劑、磨削油劑、放電加工液不僅比油性的溶液浸透性高，而且往往使密封填料、電纜的覆蓋等所使用的合成樹脂材料產(chǎn)生膨潤、固化等的劣化。
[0004]因此，在設置于機床I的轉(zhuǎn)臺2中，在作為密封部件而使用合成樹脂材料的情況下，在初期階段，即使殼體具有氣密性，若隨著時間的經(jīng)過在合成樹脂產(chǎn)生劣化，則存在如下問題:切削油劑等浸入殼體的內(nèi)部，水分附著在內(nèi)置于殼體內(nèi)部的伺服馬達、動作確認用的開關(guān)、電磁閥等電氣部件上，由此生銹等,從而導致電氣部件的絕緣性被破壞而產(chǎn)生電障礙。
[0005]作為解決上述的問題的方法，在日本特開平11-267939號公報中公開有如下轉(zhuǎn)臺裝置，該轉(zhuǎn)臺裝置向轉(zhuǎn)臺的殼體內(nèi)供給氣體并且設置有僅從殼體內(nèi)部向大氣中的一個方向排出氣體的止回閥，若殼體內(nèi)的壓力成為比大氣壓更高的規(guī)定的壓力以上，則止回閥將氣體向殼體的外部排出，從而始終將殼體內(nèi)保持為比大氣壓更高的壓力，防止切削油劑等浸入殼體內(nèi)。圖9以及圖10是該轉(zhuǎn)臺裝置的整體圖。從連接于氣體供給口 51的氣體供給源61通過氣體供給路57向殼體55的內(nèi)部供給氣體，從而殼體55的內(nèi)部的氣體通過氣體排出路59以及止回閥53排出至大氣中。
[0006]前述的日本特開平11-267939號公報所公開的技術(shù)為了使殼體55的內(nèi)部始終保持比大氣壓更高的壓力,對于止回閥53而言始終持續(xù)使氣體從殼體55的內(nèi)部朝外部的一個方向流動。通過使氣體朝上述一個方向流動，止回閥53長期處于閥打開的狀態(tài)，由此存在止回閥53的O型圈等固定于內(nèi)部的滑動部，從而在殼體55的內(nèi)部的壓力下降時止回閥53也不返回的情況。
[0007]因此，殼體的密封部件因切削油劑等的影響而劣化，從而存在如下?lián)鷳n:在產(chǎn)生氣體從殼體55的內(nèi)部向外部的泄漏的情況下、在切斷向殼體55的內(nèi)部供給氣體的情況下等，在殼體55的內(nèi)部無法維持比大氣壓更高的壓力時，切削油劑等從止回閥53浸入殼體內(nèi)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]因此，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠防止轉(zhuǎn)臺裝置所使用的止回閥的動作不良，并能夠防止切削油劑等從外部浸入殼體的內(nèi)部的轉(zhuǎn)臺裝置。
[0009]本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置具有:殼體:收納于該殼體的馬達；固定于該馬達的輸出軸的一端的工作臺；從上述殼體的內(nèi)部向外部排出氣體的排出口 ；以及壓力調(diào)整單元。并且，在上述殼體內(nèi)具備:被間隔部件隔開而形成的第一空間、第二空間；向上述第一空間供給氣體的第一氣體供給路；向上述第二空間供給氣體的第二氣體供給路；以及設置于上述間隔部件的止回閥。另外，上述排出口從上述第二空間向上述殼體的外部排出氣體。上述壓力調(diào)整單元構(gòu)成為，始終將上述第一空間的壓力以及上述第二空間的壓力調(diào)整為比外部氣壓更高的壓力，并且，在穩(wěn)定狀態(tài)下，將上述第一空間的壓力調(diào)整為比第二空間的壓力更高的壓力，但是在任意的時刻將上述第二空間的壓力調(diào)整為比上述第一空間的壓力高的壓力。
[0010]進一步，上述轉(zhuǎn)臺裝置能夠具備向上述第一空間以及上述第二空間供給氣體的單一的氣體供給源，在上述第一氣體供給路能夠具備用于使上述第一空間的壓力相對于來自上述氣體供給源的氣體供給壓力而下降的調(diào)整閥。
[0011]進一步，上述轉(zhuǎn)臺裝置能夠具備向上述第一空間以及上述第二空間供給氣體的單一的氣體供給源，另外，在上述第一氣體供給路能夠具備用于使上述第一空間的壓力相對于來自上述氣體供給源的氣體供給壓力而下降的第一調(diào)整閥，在上述第二氣體供給路能夠具備用于使上述第二空間的壓力相對于來自上述氣體供給源的氣體供給壓力而下降的第二調(diào)整閥。
[0012]進一步，上述轉(zhuǎn)臺裝置具備向上述第一空間供給氣體的第一氣體供給源與向上述第二空間供給氣體的第二氣體供給源，上述壓力調(diào)整單元也可以構(gòu)成為對上述第一空間的壓力與上述第二空間的壓力進行控制。
[0013]進一步，上述轉(zhuǎn)臺裝置也可以具備通過供給氣體來進行動作從而對上述工作臺進行夾緊的夾緊機構(gòu)，通過上述第二氣體供給路向上述夾緊機構(gòu)供給氣體。進一步，也可以在上述第二氣體供給路設置電磁閥，通過上述電磁閥向上述夾緊機構(gòu)供給氣體，從而對上述第一空間以及第二空間的壓力進行調(diào)整。
[0014]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠防止轉(zhuǎn)臺裝置所使用的止回閥的動作不良并防止切削油劑等從外部浸入殼體的內(nèi)部的轉(zhuǎn)臺裝置。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]本發(fā)明的上述以及其他的目的以及特征能夠根據(jù)參照附圖的以下的實施例的說明而明確。這些圖中:
[0016]圖1是本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第一實施方式的整體圖。
[0017]圖2是對圖1的轉(zhuǎn)臺裝置處于穩(wěn)定狀態(tài)時的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的不意圖。
[0018]圖3是對將圖1的轉(zhuǎn)臺裝置的止回閥強制關(guān)閉的狀態(tài)下的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的示意圖。
[0019]圖4是對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第二實施方式處于穩(wěn)定狀態(tài)時的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的示意圖。
[0020]圖5是對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第三實施方式處于穩(wěn)定狀態(tài)時的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的示意圖。
[0021]圖6是對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第四實施方式處于穩(wěn)定狀態(tài)時的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的示意圖。
[0022]圖7是對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第五實施方式處于穩(wěn)定狀態(tài)時的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的示意圖。
[0023]圖8是包括現(xiàn)有的轉(zhuǎn)臺裝置的機床的整體圖。
[0024]圖9是現(xiàn)有的轉(zhuǎn)臺裝置的整體圖。
[0025]圖10是現(xiàn)有的轉(zhuǎn)臺裝置的示意圖。

【具體實施方式】
[0026]首先，使用圖1?圖3對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第一實施方式進行說明。
[0027]如圖2所示，殼體10的內(nèi)部被間隔部件14劃分成第一室11與第二室12，在該間隔部件14設置有室間氣體供給路20，另外，在該室間氣體供給路20設置有止回閥28。
[0028]另外，在殼體10的氣體供給口 13連接有氣體供給源34，氣體從氣體供給源34通過氣體供給口 13供給至殼體內(nèi)部。通過氣體供給口 13被供給的氣體供給至第一氣體供給路16，通過第一調(diào)整閥24供給至第一室11。在第一氣體供給路16的中途設置有氣體分支點30，第二氣體供給路18設置為從該氣體分支點30分支。
[0029]如后述那樣，氣體分支點30構(gòu)成為能夠?qū)Τ虻诙怏w供給路18的流路進行開閉，在開放朝向第二氣體供給路18的流路的情況下，供給至第一氣體供給路16的氣體通過第二氣體供給路18也供給至第二室12。
[0030]第二室12內(nèi)的氣體能夠通過氣體排出路22向外部排出。在該氣體排出路22設置有對氣體朝外部的排出進行調(diào)整的排出調(diào)整閥26。另外，在殼體10的外部具備控制單元32，該控制單元32對第一調(diào)整閥24進行調(diào)整以及對氣體分支點30的朝向第二氣體供給路18的流路的開閉進行控制。
[0031]接下來，對本實施方式的轉(zhuǎn)臺裝置的動作進行說明。
[0032]圖2是對轉(zhuǎn)臺裝置處于穩(wěn)定狀態(tài)時的來自氣體供給源的空氣的流動進行說明的圖。
[0033]氣體從氣體供給源34通過氣體供給口 13以及第一氣體供給路16被供給。在第一調(diào)整閥24中，使從氣體供給源34供給的氣體的壓力下降而將第一室11內(nèi)的壓力調(diào)整為比大氣壓更高的適當?shù)膲毫Α?br> [0034]在該通常的狀態(tài)下，通過控制單元32，關(guān)閉氣體分支點30的從第一氣體供給路16朝向第二氣體供給路18的流路，從而來自氣體供給源34的氣體無法被供給至第二氣體供給路18。在第一室11內(nèi)的壓力成為規(guī)定的壓力時，能夠通過設置于第一室11與第二室12之間的間隔部件14的室間氣體供給路20以及止回閥28向第二室12供給氣體。另外，在第二室12設置有用于向外部排出氣體的氣體排出路22以及排出調(diào)整閥26，供給至第二室12的氣體經(jīng)由上述氣體排出路22以及排出調(diào)整閥26排出至外部。即，壓力的關(guān)系如下:
[0035]第一室的壓力 > 第二室的壓力 > 殼體10外的壓力(大氣壓)
[0036]圖3表示使第一室11與第二室的壓力的關(guān)系逆轉(zhuǎn)且強制關(guān)閉止回閥28的狀態(tài)。
[0037]使第一室11與第二室12的壓力的關(guān)系每隔任意的時間從圖2的狀態(tài)向圖3的狀態(tài)逆轉(zhuǎn)。具體而言，通過控制單元32，開放從第一氣體供給路16朝向第二氣體供給路18的流路，將來自氣體供給源34的氣體供給至第二氣體供給路18。由此，維持第一室11內(nèi)的壓力與第二室12內(nèi)的壓力保持為比外部的大氣壓更高的壓力的狀態(tài)，與第一室11相比，第二室12內(nèi)的壓力增高。即，壓力的關(guān)系如下:
[0038]第二室的壓力 > 第一室的壓力 > 殼體10外的壓力(大氣壓)
[0039]通常預先設定為圖2那樣的壓力關(guān)系，從而第一室11內(nèi)的壓力比第二室12內(nèi)的壓力更高，因此氣體通過止回閥28從第一室11朝向第二室12始終被供給，從而能夠防止切削油劑等從外部浸入殼體10的內(nèi)部。此處，每隔任意的時間，形成圖3那樣的第一室11與第二室12的壓力的關(guān)系，從而能夠強制關(guān)閉止回閥28。由此，止回閥28的O型圈不會固定于滑動面，從而能夠消除止回閥28成為動作不良的問題。
[0040]此外，在本實施方式中，氣體分支點30的從第一氣體供給路16朝向第二氣體供給路18的流路開放或者關(guān)閉，但未必需要完全關(guān)閉，通過使流路變窄等方法也能夠?qū)Φ诙?2內(nèi)的壓力進行調(diào)整。另外，不對氣體分支點30的從第一氣體供給路16朝向第二氣體供給路18的流路進行調(diào)整，僅通過第一調(diào)整閥24的控制，也能夠?qū)Φ谝皇?1內(nèi)的壓力與第_■室12內(nèi)的壓力的聞低關(guān)系進行調(diào)整。
[0041]接下來，使用圖4對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第二實施方式進行說明。
[0042]該第二實施方式與前述的第一實施方式不同的點是在第二氣體供給路18設置第二調(diào)整閥25這一點。該第二調(diào)整閥25與第一調(diào)整閥24相同地，具有使從氣體供給源34供給的氣體的壓力下降的功能，通過連接于第一調(diào)整閥24以及第二調(diào)整閥25的控制單元32，能夠改變該壓力降低的比例。
[0043]通過基于上述的控制單元32的調(diào)整，即便在本實施方式中，通常也預先形成使第一室11內(nèi)的壓力比第二室12內(nèi)的壓力更高的狀態(tài)，每隔任意的時間，使第一室11與第二室12的壓力的關(guān)系逆轉(zhuǎn)，從而形成使第二室12內(nèi)的壓力比第一室11內(nèi)的壓力更高的狀態(tài)。由此，能夠防止切削液等浸入殼體10內(nèi)，并且每隔任意的時間改換壓力的關(guān)系，能夠強制關(guān)閉止回閥28。
[0044]接下來，使用圖5對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第三實施方式進行說明。
[0045]該第三實施方式與前述的第二實施方式不同的點是除了在連接于第一氣體供給路16的氣體供給口 13連接氣體供給源(第一氣體供給源36)之外，在連接于第二氣體供給路18的氣體供給口(第二氣體供給口 15)也連接氣體供給源(第二氣體供給源38)這一點。
[0046]這樣，第一室11內(nèi)的壓力與第二室12內(nèi)的壓力的調(diào)整與前述的第二實施方式相同地，通過第一調(diào)整閥24以及第二調(diào)整閥25的調(diào)整來進行，但也能夠通過對第一氣體供給源36以及第二氣體供給源38的輸出進行調(diào)整來進行，也能夠?qū)烧卟⒂谩?br> [0047]接下來，使用圖6對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第四實施方式進行說明。
[0048]該第四實施方式與前述的第一實施方式不同的點是在第二氣體供給路18設置轉(zhuǎn)臺的夾緊機構(gòu)40這一點。在本實施方式中，在轉(zhuǎn)臺夾緊時吸引氣體，在松開時排出氣體。此時，將在松開時排出的氣體應用為朝向第二室12的氣體供給，在對第一室11與第二室12的壓力的高低關(guān)系進行調(diào)整，使第二室12內(nèi)的壓力比第一室11內(nèi)的壓力更高時，使止回閥28強制地進行動作。
[0049]接下來，使用圖7對本發(fā)明的轉(zhuǎn)臺裝置的第五實施方式進行說明。
[0050]該第五實施方式與前述的第四實施方式不同的點是在第二氣體供給路18的排出口(第二室12內(nèi))設置有電磁閥42這一點。在本實施方式中，通過該電磁閥42的動作，切換夾緊機構(gòu)40的夾緊狀態(tài)與松開狀態(tài)。
[0051]即便在本實施方式中，也通過電磁閥42的動作來切換夾緊機構(gòu)40的夾緊狀態(tài)與松開狀態(tài)，由此將在松開時排出的氣體應用為朝向第二室12的氣體供給，與第四實施方式相同地，在對第一室11內(nèi)的壓力與第二室12內(nèi)的壓力的高低關(guān)系進行調(diào)整，使第二室12內(nèi)的壓力比第一室11內(nèi)的壓力更高時，使止回閥28強制地進行動作。
[0052]在該第四實施方式中，雖通過電磁閥42的動作來切換夾緊機構(gòu)40的夾緊狀態(tài)與松開狀態(tài)，對第一室11內(nèi)的壓力與第二室12內(nèi)的壓力的高低關(guān)系進行調(diào)整，但也能夠不設置夾緊機構(gòu)40而僅設置電磁閥42，通過該電磁閥42的動作對氣體朝向第二室12的供給進行控制，從而對第一室11內(nèi)的壓力與第二室12內(nèi)的壓力的高低關(guān)系進行調(diào)整。
[0053]在上述的第一實施方式?第五實施方式中，作為止回閥28使用通常的止回閥，但除此之外也可以使用溢流閥。
【權(quán)利要求】
1.一種轉(zhuǎn)臺裝置，其具有:殼體；收納于該殼體的馬達；固定于該馬達的輸出軸的一端的工作臺；從所述殼體的內(nèi)部向外部排出氣體的排出口 ；以及壓力調(diào)整單元， 所述轉(zhuǎn)臺裝置的特征在于， 在所述殼體內(nèi)具備: 被間隔部件隔開而形成的第一空間、第二空間； 向所述第一空間供給氣體的第一氣體供給路； 向所述第二空間供給氣體的第二氣體供給路；以及 設置于所述間隔部件的止回閥， 所述排出口從所述第二空間向所述殼體的外部排出氣體， 所述壓力調(diào)整單元構(gòu)成為，始終將所述第一空間的壓力以及所述第二空間的壓力調(diào)整為比外部空氣壓更高的壓力，并且，在穩(wěn)定狀態(tài)下，將所述第一空間的壓力調(diào)整為比第二空間的壓力更高的壓力，但是在任意的時刻，將所述第二空間的壓力調(diào)整為比所述第一空間的壓力高的壓力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)臺裝置，其特征在于，進一步， 具備向所述第一空間以及所述第二空間供給氣體的單一的氣體供給源， 在所述第一氣體供給路具備用于使所述第一空間的壓力相對于來自所述氣體供給源的氣體供給壓力而下降的調(diào)整閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)臺裝置，其特征在于，進一步， 具備向所述第一空間以及所述第二空間供給氣體的單一的氣體供給源，另外， 在所述第一氣體供給路具備用于使所述第一空間的壓力相對于來自所述氣體供給源的氣體供給壓力而下降的第一調(diào)整閥， 在所述第二氣體供給路具備用于使所述第二空間的壓力相對于來自所述氣體供給源的氣體供給壓力而下降的第二調(diào)整閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)臺裝置，其特征在于，進一步， 具備: 向所述第一空間供給氣體的第一氣體供給源；以及 向所述第二空間供給氣體的第二氣體供給源， 所述壓力調(diào)整單元構(gòu)成為對所述第一空間的壓力與所述第二空間的壓力進行控制。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項所述的轉(zhuǎn)臺裝置，其特征在于，進一步， 具備通過供給氣體來進行動作從而對所述工作臺進行夾緊的夾緊機構(gòu)， 通過所述第二氣體供給路向所述夾緊機構(gòu)供給氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)臺裝置，其特征在于，進一步， 在所述第二氣體供給路設置電磁閥， 通過所述電磁閥向所述夾緊機構(gòu)供給氣體，從而對所述第一空間以及第二空間的壓力進行調(diào)整。
【文檔編號】B23Q1/25GK104128841SQ201410182007
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月1日
【發(fā)明者】伊藤友也 申請人:發(fā)那科株式會社