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      硬質(zhì)合金軸承半球加工方法

      文檔序號(hào):3118674閱讀:362來(lái)源:國(guó)知局
      硬質(zhì)合金軸承半球加工方法
      【專利摘要】一種固結(jié)磨料與游離磨料相結(jié)合的硬質(zhì)合金球研磨加工方法,其特征是它包粗研磨、精研磨和拋光;將硬質(zhì)合金球坯放入V形槽研磨盤分別進(jìn)行粗研和精研,研磨時(shí),上、下研磨盤為蠕墨鑄鐵盤,使用隔離環(huán)隔離,上盤安裝金剛石固結(jié)磨料研磨墊,使用去離子水做為研磨液,完成硬質(zhì)合金球坯的粗研磨和精研磨;然后,把精研后的硬質(zhì)合金球放入圓弧形槽拋光盤進(jìn)行拋光,拋光時(shí),上下盤都使用304不銹鋼拋光盤,使用隔離環(huán)隔離,用金剛石微粉和去離子水按一定比例配置成拋光液,完成硬質(zhì)合金球坯的拋光。本發(fā)明采用硬質(zhì)合金為材料,使用了固結(jié)磨料和游離磨料相結(jié)合的加工方法,大大提高了對(duì)硬質(zhì)合金球的加工效率和加工精度,同時(shí)能節(jié)約成本,減少對(duì)環(huán)境的污染。
      【專利說(shuō)明】硬質(zhì)合金軸承半球加工方法

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種球類零件加工技術(shù),尤其是一種軸承半球加工技術(shù),具體地說(shuō)是 一種結(jié)合了研磨和線切割技術(shù)的硬質(zhì)合金軸承半球加工方法。

      【背景技術(shù)】
      [0002] 目前,傳統(tǒng)球形軸承需要潤(rùn)滑劑,而在高速運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中,潤(rùn)滑劑很容易飛濺、失效, 同時(shí)轉(zhuǎn)速過(guò)高帶來(lái)球形軸承的磨損加快,所以傳統(tǒng)球形軸承不適宜用在高速運(yùn)轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu) 中。動(dòng)壓氣浮軸承經(jīng)常用在高速轉(zhuǎn)動(dòng)的機(jī)構(gòu)中,其轉(zhuǎn)動(dòng)部分可以不接觸轉(zhuǎn)動(dòng)部分,使轉(zhuǎn)動(dòng)部 分可以高速、長(zhǎng)時(shí)間的運(yùn)轉(zhuǎn),大大提高運(yùn)轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的壽命?,F(xiàn)有動(dòng)壓氣浮軸承中,有一種半球 型動(dòng)壓氣浮軸承,其關(guān)鍵在于兩個(gè)半球的制作,本發(fā)明針對(duì)這種動(dòng)壓氣浮軸承。
      [0003] 現(xiàn)有的半球形零件制作主要有車、銑削加工和研磨拋光加工兩種。車、銑削加工半 球的方法多樣,加工工藝簡(jiǎn)單,但是不適合高精密半球的加工,尤其對(duì)于高精度硬質(zhì)合金半 球的加工;現(xiàn)有的研磨拋光方法中,多采用逐個(gè)加工的方法,加工效率低,而且很少用于硬 質(zhì)合金半球的加工,而硬質(zhì)合金具有硬度高、耐磨、抗腐蝕、抗彎曲、使用環(huán)境惡劣等優(yōu)點(diǎn), 是制作動(dòng)壓氣浮軸承的優(yōu)質(zhì)材料。本發(fā)明目的在于提供一種高精度硬質(zhì)合金軸承半球的加 工工藝,在整球研磨過(guò)程中可以批量加工硬質(zhì)合金球,提高硬質(zhì)合金軸承半球加工效率,在 半球加工時(shí)結(jié)合兩種先進(jìn)加工工藝能夠保證加工質(zhì)量和加工效率。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004] 本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有的硬質(zhì)合金半球加工無(wú)法實(shí)現(xiàn)批量加工而導(dǎo)致效率低、 成本高的問(wèn)題,發(fā)明一種將研磨拋光與線切割加工進(jìn)行有機(jī)結(jié)合、能大幅度提高加工效率 的硬質(zhì)合金軸承半球加工方法。
      [0005] 本發(fā)明的技術(shù)方案是: 一種硬質(zhì)合金軸承半球加工方法,其特征是它包括以下步驟: 首先,將不少于1〇〇顆的硬質(zhì)合金球坯放入研磨機(jī)中進(jìn)行整球研磨和拋光,并篩選出 球度< 0. 5 μ m,表面粗糙度Ra < 0. 1 μ m的硬質(zhì)合金球1 ; 其次,使用線切割加工方法將研磨拋光后的硬質(zhì)合金球?qū)η谐蓛蓚€(gè)半球,并切除每個(gè) 半球的頂部,然后對(duì)頂端面4和底端面5進(jìn)行研磨;線切割電流控制在1. 5~2A,電壓控制在 60~70V ;研磨采用粒度不大于14μ m的棕剛玉研磨石,使用去離子水做研磨液,得到兩端面 的平行度為彡〇. 〇〇5_,表面粗糙度Ra彡0. 4μπι,頂端面4圓跳動(dòng)為彡0. 003_,底端面5 圓跳動(dòng)為< 0. 〇〇5_的去頂半球2 ; 第三,使用電火花加工方法在去頂半球2中心打通孔6,使用粒度不大于14 μ m的金剛 石內(nèi)孔研磨棒對(duì)通孔6進(jìn)行研磨,研磨時(shí)控制工作頭轉(zhuǎn)速保持在20(T250rpm,研磨時(shí)間為 4飛小時(shí),研磨液為去離子水,通孔6表面粗糙度為Ra < 0. 8 μ m,得到有通孔的去頂半球 3 ; 最后,以通孔6和底端面5為基準(zhǔn)對(duì)上述去頂半球3進(jìn)行拋光,采用粒度小于100nm的 金剛石球面工件研拋用固結(jié)磨料墊,使用去離子水做拋光液;最終得到球度< 0. 3 μ m,表 面粗糙度Ra < 0. 08 μ m的硬質(zhì)合金軸承半球。
      [0006] 所述研磨機(jī)為雙轉(zhuǎn)盤偏心研磨機(jī)。
      [0007] 所述的研磨液和拋光液的pH值在8~10之間,研磨液溫度在20° ~30°之間,pH調(diào) 節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、三乙醇胺、四甲基乙二胺、四甲基氫氧化胺中的一種或一種以 上組合。
      [0008] 本發(fā)明的有益效果: 本發(fā)明的硬質(zhì)合金軸承半球加工工藝,采用先加工整球后加工半球的加工方法,不同 于傳統(tǒng)單個(gè)半球加工方法??梢栽谡蚣庸るA段實(shí)現(xiàn)批量加工,加工效率高。在半球加工 過(guò)程中,使用線切割技術(shù)和電火花技術(shù),可以大大縮短加工時(shí)間,同時(shí)能保證加工質(zhì)量。最 后進(jìn)行研磨和拋光,使半球達(dá)到加工要求。
      [0009] 本發(fā)明的方法結(jié)合多種現(xiàn)代化加工工藝,加工效率高,加工精度高,整個(gè)工藝可以 形成生產(chǎn)線,利于大量生產(chǎn)高精度的半球。

      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0010] 圖1是本發(fā)明的各加工階段零件的形態(tài)示意圖。
      [0011] 圖2是利用本發(fā)明方法加工所得的半球的結(jié)構(gòu)示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      [0012] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
      [0013] 如圖1-2所示。
      [0014] 一種硬質(zhì)合金軸承半球加工方法,它包括以下步驟: 首先,將不少于100顆的硬質(zhì)合金球坯放入雙轉(zhuǎn)盤偏心研磨機(jī)中進(jìn)行整球研磨和拋 光,并篩選出球度< 0. 5 μ m,表面粗糙度Ra < 0. 1 μ m的硬質(zhì)合金球1 ; 其次,使用線切割加工方法將研磨拋光后的硬質(zhì)合金球1對(duì)切成兩個(gè)半球,并切除每 個(gè)半球的頂部,然后對(duì)頂端面4和底端面5進(jìn)行研磨;線切割電流控制在1. 5~2A,電壓控制 在6(T70V ;研磨采用粒度不大于14 μ m的棕剛玉研磨石,使用去離子水做研磨液,控制研磨 液的pH值在8~10之間,研磨液溫度在20° ~30°之間,pH調(diào)節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、 三乙醇胺、四甲基乙二胺、四甲基氫氧化胺中的一種或一種以上組合,得到兩端面的平行度 為彡0· 005mm,表面粗糙度Ra彡0· 4 μ m,頂端面4圓跳動(dòng)為彡0· 003mm,底端面5圓跳動(dòng)為 ^ 0. 005mm的去頂半球2 ; 第三,使用電火花加工方法在去頂半球2中心打通孔6,使用粒度不大于14 μ m的金剛 石內(nèi)孔研磨棒對(duì)通孔6進(jìn)行研磨,研磨時(shí)控制工作頭轉(zhuǎn)速保持在20(T250rpm,研磨時(shí)間為 4飛小時(shí),研磨液為去離子水,控制研磨液的pH值在8~10之間,研磨液溫度在20° ~30° 之間,pH調(diào)節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、三乙醇胺、四甲基乙二胺、四甲基氫氧化胺中的一種 或一種以上組合,通孔6表面粗糙度為Ra彡0. 8 μ m,得到有通孔的去頂半球3 ;如圖1所 /_J、1 〇
      [0015] 最后,以通孔6和底端面5為基準(zhǔn)對(duì)上述去頂半球3進(jìn)行拋光,采用粒度小于 l〇〇nm的金剛石球面工件研拋用固結(jié)磨料墊,使用去離子水做拋光液,控制拋光液的pH值 在8?10之間,研磨液溫度在20°?30°之間,pH調(diào)節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、三乙醇 胺、四甲基乙二胺、四甲基氫氧化胺中的一種或一種以上組合;最終得到圖2所示的球度 彡0. 3 μ m,表面粗糙度Ra彡0. 08 μ m的硬質(zhì)合金軸承半球。
      [0016] 實(shí)例。
      [0017] 實(shí)施例:將100顆硬質(zhì)合金球坯放入研磨機(jī)中進(jìn)行整球研磨和拋光,篩選出球度 彡0· 5 μ m,表面粗糙度Ra彡0· 1 μ m的硬質(zhì)合金球1。
      [0018] 之后,使用線切割加工方法將研磨拋光后的硬質(zhì)合金球切成半球,并切除半球頂 部,然后對(duì)頂端面4和底端面5進(jìn)行研磨。線切割電流控制在2A,電壓控制在60V ;研磨采 用粒徑為14 μ m的棕剛玉研磨石,使用pH值在8~10之間的去離子水做研磨液,得到兩端 面的平行度為〇. 〇〇5mm,表面粗糙度Ra=0. 38 μ m,頂端面4圓跳動(dòng)為0. 003mm,底端面5圓跳 動(dòng)為0. 005mm的去頂半球2。
      [0019] 第三,使用電火花加工方法在去頂半球2中心打通孔6,使用粒度10 μ m的金剛石 內(nèi)孔研磨棒對(duì)通孔6進(jìn)行研磨,工作頭轉(zhuǎn)速保持200rpm,研磨時(shí)間為5小時(shí),研磨液為pH值 在8~10之間的去離子水,通孔6表面粗糙度為Ra=0. 75 μ m,得到有通孔的去頂半球3。
      [0020] 最后,以通孔6和底端面5為基準(zhǔn)對(duì)上述半球進(jìn)行拋光,使用粒度為80nm的金剛 石球面工件研磨拋光固結(jié)磨料墊進(jìn)行拋光,使用pH值在8~10之間的去離子水做拋光液。最 終得到半球精度為球度為0. 25 μ m,表面粗糙度Ra=0. 07 μ m。
      [0021] 本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
      【權(quán)利要求】
      1. 一種硬質(zhì)合金軸承半球加工方法,其特征是它包括以下步驟: 首先,將不少于1〇〇顆的硬質(zhì)合金球坯放入研磨機(jī)中進(jìn)行整球研磨和拋光,并篩選出 球度彡0. 5 μ m,表面粗糙度Ra彡0. 1 μ m的硬質(zhì)合金球(1); 其次,使用線切割加工方法將研磨拋光后的硬質(zhì)合金球?qū)η谐蓛蓚€(gè)半球,并切除每個(gè) 半球的頂部,然后對(duì)頂端面(4)和底端面(5)進(jìn)行研磨;線切割電流控制在1. 5~2A,電壓控 制在6(T70V ;研磨采用粒度不大于14 μ m的棕剛玉研磨石,使用去離子水做研磨液,得到兩 端面的平行度為彡〇.〇〇5mm,表面粗糙度Ra彡0.4 μ m,頂端面(4)圓跳動(dòng)為彡0.003mm,底 端面(5)圓跳動(dòng)為<0· 005mm的去頂半球(2); 第三,使用電火花加工方法在去頂半球(2)中心打通孔(6),使用粒度不大于14μπι的 金剛石內(nèi)孔研磨棒對(duì)通孔(6)進(jìn)行研磨,研磨時(shí)控制工作頭轉(zhuǎn)速保持在20(T25〇rpm,研磨 時(shí)間為4飛小時(shí),研磨液為去離子水,通孔(6)表面粗糙度為Ra彡0. 8 μ m,得到有通孔的去 頂半球(3); 最后,以通孔(6)和底端面(5)為基準(zhǔn)對(duì)上述去頂半球(3)進(jìn)行拋光,采用粒度小 于100nm的金剛石球面工件研拋用固結(jié)磨料墊,使用去離子水做拋光液;最終得到球度 彡0. 3 μ m,表面粗糙度Ra彡0. 08 μ m的硬質(zhì)合金軸承半球。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述研磨機(jī)為雙轉(zhuǎn)盤偏心研磨機(jī)。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述的研磨液和拋光液的pH值在8~10之 間,研磨液溫度在20°?30°之間,pH調(diào)節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、三乙醇胺、四甲基乙二 胺、四甲基氫氧化胺中的一種或一種以上組合。
      【文檔編號(hào)】B23H5/00GK104084655SQ201410288979
      【公開(kāi)日】2014年10月8日 申請(qǐng)日期:2014年6月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月26日
      【發(fā)明者】孫玉利, 呂程昶, 左敦穩(wěn), 盧文壯, 朱永偉, 李軍, 邵靂, 劉恒俊, 張超, 危崇敏 申請(qǐng)人:南京航空航天大學(xué)
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