低頻等離子切割槍的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種低頻等離子切割槍，包括電極座、電源正極接線、槍體、絕緣環(huán)、槍體固定套、噴嘴座、冷卻罩、氣針、電極、噴嘴、活塞、復(fù)位彈簧、擋圈、氣管接頭和電源負(fù)極接線，活塞、槍體和電極座之間構(gòu)成氣缸室，氣管接頭與槍體固定連接，并與氣缸室相連通，電極座內(nèi)設(shè)有軸向安裝孔、且電極座的軸向安裝孔的孔底處設(shè)有第一徑向通氣孔，第一徑向通氣孔與氣缸室連通，氣針固定連接在軸向安裝孔內(nèi)，且氣針設(shè)有進(jìn)氣孔，進(jìn)氣孔與軸向安裝孔連通，所述氣針與電極和電極座之間形成回氣流道，電極座上還設(shè)有第一徑向?qū)饪?。本?shí)用新型中的電極和噴嘴既冷卻效果好，又提高電極和噴嘴的使用壽命。
【專利說(shuō)明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種低頻等離子切割槍。 低頻等離子切割槍

【背景技術(shù)】
[0002] 等離子切割是將空氣通過(guò)電弧"分解"或離子化，成為基本的原子粒子，從而產(chǎn)生 等離子弧，切割中利用小孔徑的噴嘴壓縮電弧所形成的高溫、高速等離子流體做熱源進(jìn)行 熔割的方法，在使用該方法制成的等離子切割槍的結(jié)構(gòu)中，電極和噴嘴為切割槍的重要部 件，為易損件，這兩個(gè)零件在切割時(shí)產(chǎn)生高溫，需要經(jīng)常更換電極和噴嘴，而且目前的低頻 等離子切割槍對(duì)這兩個(gè)零件及槍體的冷卻效果差，電極和噴嘴的使用壽命較低。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 本實(shí)用新型的目的在于提供一種提高電極和噴嘴使用壽命的低頻等離子切割槍。
[0004] 實(shí)現(xiàn)上述目的的技術(shù)方案是：一種低頻等離子切割槍，
[0005] a、包括電極座、電源正極接線、槍體、絕緣環(huán)、槍體固定套、噴嘴座、冷卻罩、氣針、 電極、噴嘴、活塞、復(fù)位彈簧、擋圈、氣管接頭和電源負(fù)極接線，槍體設(shè)有第一軸向安裝通孔， 擋圈與第一軸向安裝通孔的內(nèi)壁裝連，且擋圈內(nèi)設(shè)有第二軸向安裝通孔，活塞伸入第一軸 向安裝通孔和第二軸向安裝通孔內(nèi)，且與第一軸向安裝通孔的內(nèi)壁滑動(dòng)密封配合，復(fù)位彈 簧套裝在活塞上，復(fù)位彈簧的一端與活塞相抵，另一端與擋圈相抵，活塞上設(shè)有第三軸向安 裝通孔，電極座與第三軸向安裝通孔的內(nèi)壁裝連，并與槍體的第一軸向安裝通孔滑移連接， 絕緣環(huán)的上部套裝在槍體的外周，槍體固定套同時(shí)套裝在槍體和絕緣環(huán)上，絕緣環(huán)的下部 環(huán)繞在電極座的外周，噴嘴座的上部連接在絕緣環(huán)的外周，冷卻罩裝連在噴嘴座的外周，電 極與電極座裝連，電極下部設(shè)有離子發(fā)射體，噴嘴與噴嘴座的下部裝連且罩在電極的外周， 活塞運(yùn)動(dòng)時(shí)電極的底部能與噴嘴的內(nèi)壁分離或接觸，所述噴嘴的下部設(shè)有噴嘴噴孔，電源 正極接線與電極座連接，電源負(fù)極接線與噴嘴座連接；
[0006] b、活塞、槍體和電極座之間構(gòu)成氣缸室，氣管接頭與槍體固定連接，并與氣缸室相 連通，電極座內(nèi)設(shè)有軸向安裝孔、且電極座的軸向安裝孔的孔底處設(shè)有第一徑向通氣孔，第 一徑向通氣孔與氣缸室連通，氣針裝連在軸向安裝孔內(nèi)，且氣針設(shè)有進(jìn)氣孔，進(jìn)氣孔與軸向 安裝孔連通，所述氣針與電極和電極座之間形成回氣流道，電極座上還設(shè)有第一徑向?qū)?孔，第一徑向?qū)饪着c回氣流道連通，槍體上設(shè)有第二徑向?qū)饪祝诙较驅(qū)饪着c第一 徑向?qū)饪走B通，絕緣環(huán)上設(shè)有第三軸向?qū)饪?，第三軸向?qū)饪着c第二徑向?qū)饪走B通， 且絕緣環(huán)與噴嘴座之間構(gòu)成氣體分流室，第三軸向?qū)饪着c氣體分流室連通，電極座和電 極組合體的外壁與噴嘴及絕緣環(huán)相應(yīng)的內(nèi)壁之間構(gòu)成環(huán)形離子氣室，所述絕緣環(huán)上設(shè)有第 四導(dǎo)氣孔，氣體分流室通過(guò)第四導(dǎo)氣孔與環(huán)形離子氣室連通，所述噴嘴座上設(shè)有軸向冷卻 孔，噴嘴座和噴嘴與冷卻罩之間構(gòu)成與大氣相通的冷卻氣道，軸向冷卻孔一端與氣體分流 室連通，另一端與冷卻氣道連通。
[0007] 所述電極座的靠近電極處設(shè)有環(huán)形徑向凸肩，當(dāng)活塞帶動(dòng)電極座軸向移動(dòng)時(shí)，環(huán) 形徑向凸肩的環(huán)形端面能與槍體下端的環(huán)形端面密封配合。
[0008] 所述絕緣環(huán)的第四導(dǎo)氣孔為傾斜的徑向孔或割線向孔。
[0009] 所述絕緣環(huán)的第三軸向?qū)饪诪?-12個(gè)，且周向均布。
[0010] 所述噴嘴座的軸向冷卻孔設(shè)有2-8個(gè)，且周向均布。
[0011] 所述電極的上部設(shè)有內(nèi)螺紋，電極座的下部設(shè)有外螺紋，電極與電極座的下部螺 紋連接。
[0012] 所述噴嘴的上部設(shè)有外螺紋，噴嘴座的下部設(shè)有內(nèi)螺紋，噴嘴與噴嘴座的下部螺 紋連接。
[0013] 所述噴嘴座的上部通過(guò)槍體固定套固定連接在絕緣環(huán)的外周，槍體固定套的上部 與槍體卡接，下部與冷卻罩的上端相抵。
[0014] 所述槍體固定套固定連接在噴嘴座的上部的外周，槍體固定套的上部與槍體卡 接，下部與冷卻罩的上端相抵。
[0015] 所述電極的內(nèi)孔中還裝有通氣管，通氣管與氣針的進(jìn)氣孔連通，通氣管的外周設(shè) 有通氣槽，通氣槽與回氣流道連通。
[0016] 所述所述絕緣環(huán)的第三軸向?qū)饪诪?2個(gè)，且周向均布，所述噴嘴座的軸向冷卻 孔設(shè)有6個(gè)，且周向均布。
[0017] 采用上述技術(shù)方案的結(jié)構(gòu)后，當(dāng)電源負(fù)極接線和電源正極接線接通電源后，造成 電極和噴嘴短路，產(chǎn)生電弧，而當(dāng)本實(shí)用新型的氣管接頭充氣后，高壓氣體進(jìn)入氣缸室，然 后使得活塞帶動(dòng)電極座軸向移動(dòng)，電極座帶動(dòng)電極軸向移動(dòng)，避免電極和噴嘴一直處于短 路狀態(tài)，然后高壓氣體的另一部分氣體通過(guò)第一徑向通氣孔、軸向安裝孔和氣針的進(jìn)氣孔 進(jìn)入回氣流道，用來(lái)冷卻電極內(nèi)部，氣體再?gòu)幕貧饬鞯澜?jīng)第一徑向?qū)饪?、第二徑向?qū)饪?和第三軸向?qū)饪走M(jìn)入氣體分流室，氣體分流室的高壓氣體分成兩路，一路通過(guò)絕緣環(huán)的 第四導(dǎo)氣孔進(jìn)入離子氣室，對(duì)離子弧進(jìn)行壓縮，形成可以切割材料的高能離子弧，另一路通 過(guò)噴嘴座的軸向冷卻孔進(jìn)入冷卻氣道，對(duì)噴嘴外周進(jìn)行冷卻，因此，本實(shí)用新型利用高壓氣 體，而從結(jié)構(gòu)上構(gòu)成氣體流道，對(duì)電極和噴嘴的內(nèi)部和外周同時(shí)進(jìn)行冷卻處理，不僅冷卻效 果得到較大提高，而且電極和噴嘴的使用壽命也有較大延長(zhǎng)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018] 圖1是本實(shí)用新型的主視圖；
[0019] 圖2是圖1的全剖視圖；
[0020] 圖3是圖2中絕緣環(huán)的全剖視圖；
[0021] 圖4是圖3的A-A剖視圖；
[0022] 圖5是圖3的B-B剖視圖；
[0023] 圖6是電極座的剖視圖；
[0024] 圖7是噴嘴座的剖視圖；
[0025] 圖8是圖7的仰視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0026] 以下結(jié)合附圖給出的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0027] 如圖1~8所示，1. 一種低頻等離子切割槍，其特征在于：包括電極座1、電源正極 接線2、槍體3、絕緣環(huán)4、槍體固定套5、噴嘴座6、冷卻罩7、氣針8、電極9、噴嘴10、活塞11、 復(fù)位彈簧12、擋圈13、氣管接頭14和電源負(fù)極接線15,槍體3設(shè)有第一軸向安裝通孔3-1， 擋圈13與第一軸向安裝通孔3-1的內(nèi)壁裝連，且擋圈13內(nèi)設(shè)有第二軸向安裝通孔13-1，活 塞11伸入第一軸向安裝通孔3-1和第二軸向安裝通孔13-1內(nèi)，且與第一軸向安裝通孔3-1 的內(nèi)壁滑動(dòng)密封配合，復(fù)位彈簧12套裝在活塞11上，復(fù)位彈簧12的一端與活塞11相抵， 另一端與擋圈13相抵，活塞11上設(shè)有第三軸向安裝通孔11-1，電極座1與第三軸向安裝通 孔11-1的內(nèi)壁裝連，并與槍體3的第一軸向安裝通孔3-1滑移連接，絕緣環(huán)4的上部套裝 在槍體3的外周，槍體固定套5同時(shí)套裝在槍體3和絕緣環(huán)4上，絕緣環(huán)4的下部環(huán)繞在電 極座1的外周，噴嘴座6的上部連接在絕緣環(huán)4的外周，冷卻罩7裝連在噴嘴座6的外周， 電極9與電極座1裝連，電極9下部設(shè)有離子發(fā)射體30,離子發(fā)射體30可以在北京有色金 屬研究院購(gòu)買，噴嘴10與噴嘴座6的下部裝連且罩在電極9的外周，活塞11運(yùn)動(dòng)時(shí)電極9 的底部能與噴嘴10的內(nèi)壁分離或接觸，所述噴嘴10的下部設(shè)有噴嘴噴孔10-1，電源正極接 線2與電極座1連接，電源負(fù)極接線15與噴嘴座6連接；活塞11、槍體3和電極座1之間構(gòu) 成氣缸室16,氣管接頭14與槍體3固定連接，并與氣缸室16相連通，電極座1內(nèi)設(shè)有軸向 安裝孔1-1、且電極座1的軸向安裝孔1-1的孔底處設(shè)有第一徑向通氣孔1-2,第一徑向通 氣孔1-2與氣缸室16連通，氣針8裝連在軸向安裝孔1-1內(nèi)，且氣針8設(shè)有進(jìn)氣孔8-1，進(jìn) 氣孔8-1與軸向安裝孔1-1連通，所述氣針8與電極9和電極座1之間形成回氣流道17,電 極座1上還設(shè)有第一徑向?qū)饪?-3,第一徑向?qū)饪?-3與回氣流道17連通，槍體3上設(shè) 有第二徑向?qū)饪?-2,第二徑向?qū)饪?-2與第一徑向?qū)饪?-3連通，絕緣環(huán)4上設(shè)有 第三軸向?qū)饪?-1，第三軸向?qū)饪?-1與第二徑向?qū)饪?-2連通，且絕緣環(huán)4與噴嘴 座6之間構(gòu)成氣體分流室18,第三軸向?qū)饪?-1與氣體分流室18連通，電極座1和電極 9組合體的外壁與噴嘴10及絕緣環(huán)4相應(yīng)的內(nèi)壁之間構(gòu)成環(huán)形離子氣室19,所述絕緣環(huán)4 上設(shè)有第四導(dǎo)氣孔4-2,氣體分流室18通過(guò)第四導(dǎo)氣孔4-2與環(huán)形離子氣室19連通，所述 噴嘴座6上設(shè)有軸向冷卻孔6-1，噴嘴座6和噴嘴10與冷卻罩7之間構(gòu)成與大氣相通的冷 卻氣道20,軸向冷卻孔6-1 -端與氣體分流室18連通，另一端與冷卻氣道20連通。
[0028] 參見圖2所示，所述電極座1的靠近電極9處設(shè)有環(huán)形徑向凸肩1-4,當(dāng)活塞11帶 動(dòng)電極座1軸向移動(dòng)時(shí)，環(huán)形徑向凸肩1-4的環(huán)形端面能與槍體3下端的環(huán)形端面密封配 合，由于采用端面的機(jī)械密封，在長(zhǎng)期高溫工況下，可以防止高壓氣體泄漏，不會(huì)干涉從絕 緣環(huán)4的第四導(dǎo)氣孔4-2流出的渦流氣體，進(jìn)一步提高高能渦流氣體的穩(wěn)定性。
[0029] 參見圖2、3、4所示，為了第四導(dǎo)氣孔4-2流出的高壓氣體在高溫長(zhǎng)期工作下始終 呈渦流狀排出，形成穩(wěn)定的渦流氣體，所述絕緣環(huán)4的第四導(dǎo)氣孔4-2為傾斜的徑向孔或割 線向孔。
[0030] 參見圖2、3、5、8所示，為了增加氣體的流量，滿足實(shí)際使用需求，所述絕緣環(huán)4的 第三軸向?qū)饪?-1為12個(gè)，且周向均布；所述噴嘴座6的軸向冷卻孔6-1設(shè)有6個(gè)，且周 向均布。
[0031] 參見圖2所示，為了方便更換電極9和噴嘴10易損件，所述電極9的上部設(shè)有內(nèi) 螺紋，電極座1的下部設(shè)有外螺紋，電極9與電極座1的下部螺紋連接；所述噴嘴10的上部 設(shè)有外螺紋，噴嘴座6的下部設(shè)有內(nèi)螺紋，噴嘴10與噴嘴座6的下部螺紋連接。
[0032] 參見圖2所示，為了提高各部件在高溫狀態(tài)下的連接的可靠性，所述槍體固定套5 固定連接在噴嘴座6的上部的外周，槍體固定套5的上部與槍體3卡接，下部與冷卻罩7的 上端相抵。
[0033] 參見圖2所示，為了起到對(duì)電極9內(nèi)部進(jìn)行高效冷卻，所述電極9的內(nèi)孔中還裝有 通氣管31，通氣管31與氣針8的進(jìn)氣孔8-1連通，通氣管31的外周設(shè)有通氣槽31-1，通氣 槽31-1與回氣流道17連通。
[0034] 參見圖Γ8所示，本實(shí)用新型安裝時(shí)，將槍體固定套5、絕緣環(huán)4和噴嘴座6固定成 一體，絕緣環(huán)4為陶瓷制成，也可以為聚酰亞胺等高分子耐高溫和絕緣的材料制成，然后通 過(guò)槍體固定套5固定連接在槍體3上，電極9螺紋連接在電極座1頭部，噴嘴10螺紋連接在 噴嘴座6頭部，冷卻罩7螺紋連接在噴嘴座6外周，本實(shí)用新型使用時(shí)，當(dāng)電源負(fù)極接線15 和電源正極接線2接通電源后，瞬間造成電極9和噴嘴10短路，在噴嘴噴孔10-1內(nèi)產(chǎn)生電 弧，再瞬間將本實(shí)用新型的氣管接頭14充氣，高壓氣體進(jìn)入氣缸室16,然后使得活塞11帶 動(dòng)電極座1軸向移動(dòng)，電極座1帶動(dòng)電極9軸向移動(dòng)，避免電極9和噴嘴10 -直處于短路 狀態(tài)，然后高壓氣體的另一部分氣體通過(guò)電極座1的第一徑向通氣孔1-2、軸向安裝孔1-1 和氣針8的進(jìn)氣孔8-1進(jìn)入回氣流道17,用來(lái)冷卻電極9的內(nèi)部，氣體再?gòu)幕貧饬鞯?7經(jīng) 電極座1的第一徑向?qū)饪?-3、槍體3的第二徑向?qū)饪?-2和絕緣環(huán)4的第三軸向?qū)?孔4-1進(jìn)入氣體分流室18,氣體分流室18的高壓氣體分成兩路，一路通過(guò)絕緣環(huán)4的第四 導(dǎo)氣孔4-2進(jìn)入離子氣室19,對(duì)離子弧進(jìn)行壓縮，形成可以切割材料的高能離子弧，另一路 通過(guò)噴嘴座6的軸向冷卻孔6-1進(jìn)入冷卻氣道20,對(duì)噴嘴10外周進(jìn)行冷卻，因此，本實(shí)用新 型利用高壓氣體，而從結(jié)構(gòu)上對(duì)電極9和噴嘴10的內(nèi)部和外周進(jìn)行冷卻處理，既冷卻效果 好，又提1?電極9和噴嘴10的使用壽命。
【權(quán)利要求】
1. 一種低頻等離子切割槍，其特征在于： a、 包括電極座（1)、電源正極接線（2)、槍體（3)、絕緣環(huán)（4)、槍體固定套（5)、噴嘴座 (6)、冷卻罩（7)、氣針（8)、電極（9)、噴嘴（10)、活塞（11)、復(fù)位彈簧（12)、擋圈（13)、氣管 接頭（14)和電源負(fù)極接線（15)，槍體（3)設(shè)有第一軸向安裝通孔（3-1)，擋圈（13)與第一軸 向安裝通孔（3-1)的內(nèi)壁裝連，且擋圈（13)內(nèi)設(shè)有第二軸向安裝通孔（13-1)，活塞（11)伸 入第一軸向安裝通孔（3-1)和第二軸向安裝通孔（13-1)內(nèi)，且與第一軸向安裝通孔（3-1) 的內(nèi)壁滑動(dòng)密封配合，復(fù)位彈簧（12)套裝在活塞（11)上，復(fù)位彈簧（12)的一端與活塞（11) 相抵，另一端與擋圈（13)相抵，活塞（11)上設(shè)有第三軸向安裝通孔（11-1)，電極座（1)與第 三軸向安裝通孔（11-1)的內(nèi)壁裝連，并與槍體（3)的第一軸向安裝通孔（3-1)滑移連接，絕 緣環(huán)（4)的上部套裝在槍體（3)的外周，槍體固定套（5)同時(shí)套裝在槍體（3)和絕緣環(huán)（4) 上，絕緣環(huán)（4)的下部環(huán)繞在電極座（1)的外周，噴嘴座（6)的上部連接在絕緣環(huán)（4)的外 周，冷卻罩（7 )裝連在噴嘴座（6 )的外周，電極（9 )與電極座（1)裝連，電極（9 )下部設(shè)有離 子發(fā)射體（30)，噴嘴（10)與噴嘴座（6)的下部裝連且罩在電極（9)的外周，活塞（11)運(yùn)動(dòng) 時(shí)電極（9)的底部能與噴嘴（10)的內(nèi)壁分離或接觸，所述噴嘴（10)的下部設(shè)有噴嘴噴孔 (10-1)，電源正極接線（2)與電極座（1)連接，電源負(fù)極接線（15)與噴嘴座（6)連接； b、 活塞（11)、槍體（3)和電極座（1)之間構(gòu)成氣缸室（16)，氣管接頭（14)與槍體（3)固 定連接，并與氣缸室（16)相連通，電極座（1)內(nèi)設(shè)有軸向安裝孔（1-1 )、且電極座（1)的軸向 安裝孔（1-1)的孔底處設(shè)有第一徑向通氣孔（1-2)，第一徑向通氣孔（1-2)與氣缸室（16)連 通，氣針（8)裝連在軸向安裝孔（1-1)內(nèi)，且氣針（8)設(shè)有進(jìn)氣孔（8-1)，進(jìn)氣孔（8-1)與軸 向安裝孔（1-1)連通，所述氣針（8)與電極（9)和電極座（1)之間形成回氣流道（17)，電極 座（1)上還設(shè)有第一徑向?qū)饪祝?-3)，第一徑向?qū)饪祝?-3)與回氣流道（17)連通，槍體 (3)上設(shè)有第二徑向?qū)饪祝?-2)，第二徑向?qū)饪祝?-2)與第一徑向?qū)饪祝?-3)連通，絕 緣環(huán)（4)上設(shè)有第三軸向?qū)饪祝?-1)，第三軸向?qū)饪祝?-1)與第二徑向?qū)饪祝?-2)連 通，且絕緣環(huán)（4)與噴嘴座（6)之間構(gòu)成氣體分流室（18)，第三軸向?qū)饪祝?-1)與氣體分 流室（18 )連通，電極座（1)和電極（9 )組合體的外壁與噴嘴（10 )及絕緣環(huán)（4 )相應(yīng)的內(nèi)壁 之間構(gòu)成環(huán)形離子氣室（19)，所述絕緣環(huán)（4)上設(shè)有第四導(dǎo)氣孔（4-2)，氣體分流室（18)通 過(guò)第四導(dǎo)氣孔（4-2)與環(huán)形離子氣室（19)連通，所述噴嘴座（6)上設(shè)有軸向冷卻孔（6-1)， 噴嘴座（6)和噴嘴（10)與冷卻罩（7)之間構(gòu)成與大氣相通的冷卻氣道（20)，軸向冷卻孔 (6-1)-端與氣體分流室（18)連通，另一端與冷卻氣道（20)連通。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述電極座（1)的靠近電 極（9)處設(shè)有環(huán)形徑向凸肩（1-4)，當(dāng)活塞（11)帶動(dòng)電極座（1)軸向移動(dòng)時(shí)，環(huán)形徑向凸肩 (1-4)的環(huán)形端面能與槍體（3)下端的環(huán)形端面密封配合。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述絕緣環(huán)（4)的第四導(dǎo) 氣孔（4-2)為傾斜的徑向孔或割線向孔。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述絕緣環(huán)（4)的第三軸 向?qū)饪祝?-1)為6-12個(gè)，且周向均布。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述噴嘴座（6)的軸向冷 卻孔（6-1)設(shè)有2-8個(gè)，且周向均布。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述電極（9)的上部設(shè)有 內(nèi)螺紋，電極座（1)的下部設(shè)有外螺紋，電極（9)與電極座（1)的下部螺紋連接。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述噴嘴（10)的上部設(shè)有 外螺紋，噴嘴座（6)的下部設(shè)有內(nèi)螺紋，噴嘴（10)與噴嘴座（6)的下部螺紋連接。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述槍體固定套（5)固定 連接在噴嘴座（6 )的上部的外周，槍體固定套（5 )的上部與槍體（3 )卡接，下部與冷卻罩（7 ) 的上端相抵。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述電極（9)的內(nèi)孔中還 裝有通氣管（31)，通氣管（31)與氣針（8)的進(jìn)氣孔（8-1)連通，通氣管（31)的外周設(shè)有通 氣槽（31-1)，通氣槽（31-1)與回氣流道（17)連通。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低頻等離子切割槍，其特征在于：所述所述絕緣環(huán)（4)的第 三軸向?qū)饪祝?-1)為12個(gè)，且周向均布，所述噴嘴座（6)的軸向冷卻孔（6-1)設(shè)有6個(gè)， 且周向均布。
【文檔編號(hào)】B23K10/00GK203875469SQ201420292419
【公開日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2014年6月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月4日
【發(fā)明者】肖吉武 申請(qǐng)人:常州市金球焊割設(shè)備有限公司