lt; 0. 005,所述復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮 化物的層至少包含具有NaCl型面心立方結(jié)構(gòu)的Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的 相，
[0023] 對于所述復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層，使用電子背散射衍射裝置，從上述Ti 及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層的縱截面方向分析各個晶粒的結(jié)晶方位時，存在 可觀測到立方晶晶格的電子背散射衍射圖像的立方晶晶相，測定所述立方晶晶粒的晶面、 即{100}面的法線相對于工具基體表面的法線方向所呈的傾斜角，并將該傾斜角中相對于 法線方向在0~45度的范圍內(nèi)的傾斜角按0. 25度的間距進行分區(qū)，并總計存在于各分區(qū) 內(nèi)的度數(shù)來求出傾斜角度數(shù)分布時，在〇~12度的范圍內(nèi)的傾斜角分區(qū)中存在最高峰值， 并且存在于所述0~12度的范圍內(nèi)的度數(shù)的總計示出所述傾斜角度數(shù)分布中的所有度數(shù) 的45%以上的比例，并且，從所述復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層的表面?zhèn)仁褂脪呙桦娮?顯微鏡觀察該層的組織時，所述復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層內(nèi)的具有立方晶結(jié)構(gòu)的各 個晶粒在與層厚方向垂直的面內(nèi)具備多角形狀的刻面，該多角形狀不具有小于90度的角 度，該刻面形成于所述晶粒的以{100}表示的等價晶面中的一個，該刻面在與所述層厚方 向垂直的面內(nèi)占整體的50%以上的面積比例。
[0024] (2)根據(jù)（1)所述的表面包覆切削工具，其中，所述復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的 層由具有NaCl型面心立方結(jié)構(gòu)的Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的單相構(gòu)成。
[0025] (3)根據(jù)（1)所述的表面包覆切削工具，其中，所述復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的 層由共存有兩種以上的多個相的混合相構(gòu)成，該混合相至少包含具有NaCl型面心立方結(jié) 構(gòu)的Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的相，共存于混合相的其他各相由如下化合物 構(gòu)成，該化合物由選自Ti及Al中的至少一種元素及選自C與N中的至少一種元素構(gòu)成。
[0026] (4)根據(jù)⑴或⑶所述的表面包覆切削工具，其中，對于所述復(fù)合氮化物或復(fù)合 碳氮化物的層，進行基于X射線衍射的晶體結(jié)構(gòu)分析時，可觀察到來源于立方晶結(jié)構(gòu)的峰 及來源于六方晶的峰，基于立方晶結(jié)構(gòu)的{200}的峰值強度Ic{200}與基于六方晶結(jié)構(gòu)的 {200}的峰值強度Ih{200}的峰值強度比Ic{200}/Ih{200}大于3.0。
[0027] (5)根據(jù)（1)、（3)或（4)中任一項所述的表面包覆切削工具，其中，所述復(fù)合氮化 物或復(fù)合碳氮化物的層由具有立方晶結(jié)構(gòu)的上部層及具有六方晶結(jié)構(gòu)的下部層構(gòu)成，所述 下部層的平均層厚為0. 3~1.0 μ m，晶粒的平均粒徑R為0.0 l~0. 30 μ m。
[0028] (6)根據(jù)⑴~（5)中任一項所述的表面包覆切削工具，其中，在由所述碳化鎢基 硬質(zhì)合金、碳氮化鈦基金屬陶瓷或立方晶氮化硼基超高壓燒結(jié)體中的任一種構(gòu)成的工具基 體與所述Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層之間，存在Ti化合物層，所述Ti化合 物層由Ti的碳化物層、氮化物層、碳氮化物層、碳氧化物層及碳氮氧化物層中的一層或兩 層以上構(gòu)成且具有0. 1~20 μ m的總計平均層厚。
[0029] (7)根據(jù)（1)~(6)中任一項所述的表面包覆切削工具，其中，在所述復(fù)合氮化物 或復(fù)合碳氮化物的層的上部存在上部層，所述上部層至少包含具有1~25 μ m的平均層厚 的氧化鋁層。
[0030] (8)根據(jù)⑴~（7)中任一項所述的表面包覆切削工具，其中，所述復(fù)合氮化物或 復(fù)合碳氮化物的層通過至少含有三甲基鋁作為反應(yīng)氣體成分的化學(xué)蒸鍍法成膜。
[0031] 接著，對本發(fā)明的包覆工具的硬質(zhì)包覆層進行更詳細說明。
[0032] Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層的的平均層厚：
[0033] 本發(fā)明的硬質(zhì)包覆層中的Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層中，若其 平均層厚小于1 μ m，則無法在長期使用中充分確保耐磨性，另一方面，若其平均層厚超過 20 μ m，則在伴有高熱產(chǎn)生的高速斷續(xù)切削中易產(chǎn)生熱塑性變形，這會成為偏磨的原因。因 此，優(yōu)選將其平均層厚設(shè)為1~20 μ m，更優(yōu)選設(shè)為1~10 μ m。
[0034] 并且，關(guān)于形成于由碳化鎢基硬質(zhì)合金、碳氮化鈦基金屬陶瓷或立方晶氮化硼基 超高壓燒結(jié)體中的任一種構(gòu)成的工具基體與Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層之 間的Ti的碳化物層、氮化物層、碳氮化物層、碳氧化物層及碳氮氧化物層的平均總計層厚， 若小于0. 1 μ m則層厚較薄，因此無法在長期使用中確保耐磨性，另一方面，若平均層厚大 于20 μ m，則工具基體與Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層的粘附強度降低，并且 耐剝離性降低，因此優(yōu)選將其平均層厚設(shè)為〇. 1~20 μ m。
[0035] 在作為上部層包含氧化鋁層時，若氧化鋁層的平均層厚小于1 μ m，則層厚較薄，因 此無法在長期使用中確保耐磨性，若超過25 μ m，則晶粒易粗大化，并且易產(chǎn)生崩刀，因此優(yōu) 選氧化鋁層的平均層厚設(shè)為1~25 μ m。
[0036] Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層（OVxAlx) (CyNh)層）的組成：
[0037] 構(gòu)成本發(fā)明的硬質(zhì)包覆層的主要層的（TigAlx) (CyN1J層中，若Al的平均含有比 例Xavg(原子比）小于〇. 60,則高溫硬度不足而耐磨性下降，另一方面，若Xavg(原子比）超 過0. 95,則相對的Ti含量比例減少，由此（IVxAlx) (CA_Y)層本身的高溫強度降低，變得易 產(chǎn)生崩刀、缺損。因此，需將Al的平均含有比例Xavg(原子比）的值設(shè)為0.60以上0.95以 下。
[0038] 并且在所述（TigAlx) (CyN1J層中，C成分具有提高硬度的作用，而N成分具有提 高高溫強度的作用，但是若C成分的平均含有比例Y avg (原子比）超過0. 005,則高溫強度降 低。因此，將C成分的平均含有比例Yavg(原子比）設(shè)定為0彡Yavg彡0. 005。
[0039] 另外，通常通過物理蒸鍍法成膜所述組成、即Al的平均含有比例Xavg(原子比）為 0. 60以上0. 95以下的（TigAlx) (CyN1J層時，晶體結(jié)構(gòu)會成為六方晶結(jié)構(gòu)，但是本發(fā)明中， 通過后述的化學(xué)蒸鍍法成膜，因此能夠在維持立方晶結(jié)構(gòu)的狀態(tài)下獲得如上述的組成的 (TigAlx) (CyN1J層。由此避免硬質(zhì)包覆層的硬度的降低。
[0040] 對Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層（(IVxAlx) (CyNh)層）內(nèi)的具有 立方晶結(jié)構(gòu)的各個晶粒晶面、即{100}面的傾斜角度數(shù)分布：
[0041] 對于本發(fā)明的所述（TigAlx) (CyN1J層，使用電子背散射衍射裝置從其縱截面方 向分析各個晶粒的結(jié)晶方位時，存在可觀測到立方晶晶格的電子背散射衍射圖像的立方晶 晶相，測定所述晶粒的晶面、即{100}面的法線相對于基體表面的法線（截面研磨面中的與 基體表面垂直的方向）所呈的傾斜角（參考圖1的（a)、(b))，并將該傾斜角中相對于法線 方向在0~45度的范圍內(nèi)的傾斜角按0. 25度的間距進行分區(qū)，并總計存在于各分區(qū)內(nèi)的 度數(shù)時，在0~12度的范圍內(nèi)的傾斜角分區(qū)中存在最高峰值，并且存在于所述0~12度的 范圍內(nèi)的度數(shù)總計為傾斜角度數(shù)分布中的所有度數(shù)的45%以上的比例，顯示這種傾斜角度 數(shù)分布形態(tài)時，由所述Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層構(gòu)成的硬質(zhì)包覆層在維 持立方晶結(jié)構(gòu)的狀態(tài)下具有高硬度，而且通過如上述的傾斜角度數(shù)分布形態(tài)，硬質(zhì)包覆層 與基體之間的粘附性得到飛躍性提高。
[0042] 因此，這種包覆工具例如在用于不銹鋼的高速斷續(xù)切削等時，崩刀、缺損、剝離等 的發(fā)生也得到抑制，而且發(fā)揮優(yōu)異的耐磨性。
[0043] 使用電子背散射衍射裝置分析各個晶粒的結(jié)晶方位時，無法視為傾斜角大于12 度的晶面為{100}取向，硬度降低，{100}取向較強且硬度不會降低的范圍為〇~12度，因 此將傾斜角分區(qū)設(shè)定為〇~12度。
[0044] Ti及Al的復(fù)合氮化物或復(fù)合碳氮化物的層（(IVxAlx) (CyU層）內(nèi)的具有立方 晶結(jié)構(gòu)的各個晶粒在與層厚方向垂直的面內(nèi)具備多角形狀的刻面，該多角形狀不具有小于 90度的角度，該刻面形成于所述晶粒的以{100}表示的等價晶面中的一個，該刻面在與所 述層厚方