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      多區(qū)域自動吸附平臺的制作方法

      文檔序號:10147560閱讀:350來源:國知局
      多區(qū)域自動吸附平臺的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及真空吸附技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種多區(qū)域自動吸附平臺。
      【背景技術(shù)】
      [0002]吸附平臺主要是對加工工件進(jìn)行吸附固定,以便于進(jìn)行工件的加工作業(yè)。目前使用的都是單區(qū)域吸附平臺,或者是利用膠紙封堵和其它外部輔助材料來實(shí)現(xiàn)多區(qū)域吸附。然而。這種單區(qū)域平臺只能每款產(chǎn)品配一款平臺,有局限性;同時產(chǎn)品換型對應(yīng)吸附平臺也要更換,費(fèi)時、費(fèi)力,影響生產(chǎn)效率;或者是大平臺兼容小尺寸,通過粘貼膠紙或其它外部輔助材料來實(shí)現(xiàn),費(fèi)時、費(fèi)力,影響生產(chǎn)效率,同時輔料會對產(chǎn)品帶來污染的風(fēng)險(xiǎn),影響產(chǎn)品質(zhì)量。此外,現(xiàn)有的吸附平臺由于一些性能要求,例如防靜電性能要求,使得吸附平臺不耐磨、壽命短。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]針對上述單區(qū)域吸附平臺存在生產(chǎn)局限性、不耐磨以及壽命短等問題,本實(shí)用新型提供了一種多區(qū)域自動吸附平臺,其目的在于通過真空止回閥控制真空槽的通、斷,進(jìn)而控制基板的不同吸附區(qū)域吸附工件,實(shí)現(xiàn)多區(qū)域自動吸附。
      [0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了多區(qū)域自動吸附平臺,其包括:基板、防靜電陶瓷層以及真空止回閥。
      [0005]所述基板上設(shè)有多個吸附區(qū)域。
      [0006]所述防靜電陶瓷層位于基板底部,防靜電陶瓷層上設(shè)有多個真空槽。
      [0007]所述真空止回閥安裝在防靜電陶瓷層底部,通過真空止回閥控制真空槽的通、斷實(shí)現(xiàn)不同吸附區(qū)域自動吸附工作。
      [0008]更優(yōu)選地,每個所述的吸附區(qū)域上設(shè)有吸附槽,每個吸附槽上設(shè)有一個通孔,這些通孔分別與防靜電陶瓷層上相對位置上的真空槽連通。
      [0009]更優(yōu)選地,所述防靜電陶瓷層的底部設(shè)有止回閥安裝盒,所述真空止回閥安裝在該止回閥安裝盒上,且設(shè)有蓋板密封;止回閥安裝盒與真空槽相連通,該相連通處放置真空止回閥的閥口。
      [0010]采用本實(shí)用新型產(chǎn)生的有益效果:1、本實(shí)用新型設(shè)置多個吸附區(qū)域,通過真空止回閥控制靜電陶瓷層上的真空槽通斷,選擇吸附區(qū)域,操作簡單,滿足了在同一工作平臺上自動吸附多款不同尺寸工件的要求,提高了工作效率,綜合性能和兼容性能更好。
      [0011]2、本實(shí)用新型采用陶瓷材料作為防靜電層,防止靜電產(chǎn)生。此外,陶瓷材料增加耐磨性能,延長了產(chǎn)品的使用壽命。
      【附圖說明】
      [0012]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡圖。
      [0013]圖2為本實(shí)用新型中基板的俯視圖。
      [0014]圖3為本實(shí)用新型中防靜電陶瓷層的結(jié)構(gòu)簡圖。
      [0015]基板--1 ;防靜電陶瓷層--2。
      [0016]真空止回閥——3;蓋板——4。
      [0017]吸附槽——11;通孔——12。
      [0018]真空槽——21;止回閥安裝盒——22。
      [0019]第一真空槽——211 ;第二真空槽——212。
      [0020]第三真空槽——213。
      【具體實(shí)施方式】
      [0021]為了使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述。
      [0022]如圖1至圖3所示,本實(shí)用新型公開多區(qū)域自動吸附平臺,其包括基板1、防靜電陶瓷層2、以及真空止回閥3 ;從上往下依次安裝基板1、防靜電陶瓷層2以及真空止回閥3。
      [0023]基板1即為吸附平臺,采用鋁合金材料制造?;?正面上設(shè)有多個吸附區(qū)域,每個吸附區(qū)域上設(shè)有吸附槽11,每個吸附槽11內(nèi)設(shè)有一個通孔12?;?的吸附原理,在基板1的吸附區(qū)域上放置工件,工件與吸附槽11形成密封的空間,該密封空間內(nèi)的空氣經(jīng)通孔12抽走后,密封空間外部的壓力使得工件緊貼在基板1上,實(shí)現(xiàn)自動吸附。
      [0024]防靜電陶瓷層2位于基板1底部。防靜電陶瓷層2與基板1連接的面設(shè)有多個真空槽21,吸附槽11上的通孔12分別與相對位置上的真空槽21連通。防靜電陶瓷層2底部的一側(cè)邊上設(shè)有兩個止回閥安裝盒22,真空止回閥3安裝在這些止回閥安裝盒22內(nèi),且設(shè)有蓋板4密封。這些止回閥安裝盒22與真空槽21相連通,該相連通處放置真空止回閥3的閥口,通過真空止回閥3控制真空槽21的通斷實(shí)現(xiàn)不同吸附區(qū)域自動吸附工作。
      [0025]更具地地,本優(yōu)選實(shí)施例中基板1的每個吸附區(qū)域?yàn)橐粋€小尺寸工件吸附平臺。其中,位于真空止回閥3 —側(cè),且位于中間位置的小尺寸工件吸附平臺為第一吸附平臺;第一吸附平臺和第一吸附平臺相鄰的四個小尺寸工件吸附平臺組合成第二吸附平臺;所有的小尺寸工件吸附平臺組合成第三吸附平臺。這三個吸附平臺分別可以用于吸附大中小號等不同尺寸的工件,解決現(xiàn)有產(chǎn)品存在的局限性問題,也避免了大吸附平臺兼容小尺寸工件時,利用輔助材料實(shí)現(xiàn)固定而造成的生產(chǎn)效率低等問題。
      [0026]對于防靜電陶瓷層2與基板1底部緊貼,防靜電陶瓷層2上的真空槽21與基板1形成封閉的空間。其中,真空槽21包括第一真空槽211、第二真空槽212以及第三真空槽213,第一真空槽211、第二真空槽212、第三真空槽213分別位于第一吸附平臺、第二吸附平臺、第三吸附平臺相對應(yīng)的位置上。即真空止回閥3與第一真空槽211以及第一吸附平臺上的吸附槽11連通,第一吸附平臺上放置小尺寸工件時,真空止回閥3控制其連通的第一吸附平臺吸附小尺寸工件,從而實(shí)現(xiàn)自動吸附,同時真空止回閥3關(guān)閉與其他吸附平臺連通的閥門;真空止回閥3與第一真空槽211、第二真空槽212以及第二吸附平臺上所有的吸附槽11連通,第二吸附平臺上放置中號尺寸工件時,真空止回閥3控制其連通的第二吸附平臺吸附中號尺寸工件,從而實(shí)現(xiàn)自動吸附,同時真空止回閥3關(guān)閉與第三真空槽213連通的閥門;真空止回閥3與第一真空槽211、第二真空槽212、第三真空槽213以及第三吸附平臺上所有的吸附槽11連通,第三吸附平臺上放置大尺寸工件時,真空止回閥3控制其連通的第三吸附平臺吸附中號尺寸工件,從而實(shí)現(xiàn)自動吸附。
      [0027]最后應(yīng)當(dāng)說明的是,以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案,而非對本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制,盡管參照較佳實(shí)施例對本實(shí)用新型作了詳細(xì)地說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,均屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.多區(qū)域自動吸附平臺,其特征在于包括:基板(1)、防靜電陶瓷層(2)以及真空止回閥(3); 所述基板(1)上設(shè)有多個吸附區(qū)域; 所述防靜電陶瓷層(2)位于基板(1)底部,防靜電陶瓷層(2)上設(shè)有多個真空槽(21); 所述真空止回閥(3)安裝在防靜電陶瓷層(2)底部,通過真空止回閥(3)控制真空槽(21)的通、斷實(shí)現(xiàn)不同吸附區(qū)域自動吸附工作。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多區(qū)域自動吸附平臺,其特征在于:每個所述的吸附區(qū)域上設(shè)有吸附槽(11),每個吸附槽(11)上設(shè)有一個通孔(12),這些通孔(12)分別與防靜電陶瓷層(2 )上相對位置上的真空槽(21)連通。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多區(qū)域自動吸附平臺,其特征在于:所述防靜電陶瓷層(2)的底部設(shè)有止回閥安裝盒(22),所述真空止回閥(3)安裝在該止回閥安裝盒(22)上,且設(shè)有蓋板(4)密封;止回閥安裝盒(22)與真空槽(21)相連通,該相連通處放置真空止回閥(3)的閥口。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了多區(qū)域自動吸附平臺,其包括基板、防靜電陶瓷層以及真空止回閥;基板上設(shè)有多個吸附區(qū)域;防靜電陶瓷層位于基板底部,防靜電陶瓷層上設(shè)有多個真空槽;真空止回閥安裝在防靜電陶瓷層底部,通過真空止回閥控制真空槽的通斷實(shí)現(xiàn)不同吸附區(qū)域自動吸附工作。與現(xiàn)有技術(shù)相比較,本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)相對簡單,通過真空止回閥控制靜電陶瓷層上不同真空槽的通斷,選擇吸附區(qū)域,解決了現(xiàn)有技術(shù)的局限性,滿足在同一工作平臺上自動吸附多款不同尺寸工件的要求,提高了工作效率,綜合性能和兼容性能更好。此外,采用陶瓷材料作為防靜電層,增加耐磨性能,延長了產(chǎn)品的使用壽命。
      【IPC分類】B25B11/00, B23Q3/08
      【公開號】CN205057607
      【申請?zhí)枴緾N201520796621
      【發(fā)明人】李志斌, 吳敏捷, 陳衛(wèi)宇
      【申請人】深圳市新昂慧科技有限公司
      【公開日】2016年3月2日
      【申請日】2015年10月16日
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