專利名稱：一種陶瓷薄膜沉積裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種大型數(shù)控等離子化學(xué)氣相沉積裝置，尤其是一種陶瓷薄膜沉積裝置。
目前，國內(nèi)外等離子化學(xué)氣相沉積裝置，主要用于半導(dǎo)體和光學(xué)儀器沉積，其沉積裝置一是工作空間小(直徑一般在750mm以內(nèi))，無法實(shí)行產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)；二是配氣為人工手動操作，穩(wěn)定性差，重復(fù)性不好。
本實(shí)用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有設(shè)備的不足，提供一種具有空間大，可與電腦控制柜配合使用，其主機(jī)真空室的直徑為1000mm-2000mm，由電腦自動采集工作數(shù)據(jù)和控制加工過程，主要用于發(fā)動機(jī)摩擦副、刀具、模具等金屬異型工件表面沉積各種陶瓷薄膜的產(chǎn)業(yè)化設(shè)備。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，它主要由高頻電源、隔直流電容、流量計(jì)、氣瓶以及設(shè)置在主機(jī)柜內(nèi)的機(jī)械泵、蝶閥、管道、羅茨泵、放氣閥、升降機(jī)械、真空計(jì)構(gòu)成，其中在所述的主機(jī)柜的上部設(shè)置一帶有上、下封頭的真空室，且在真空室的內(nèi)部設(shè)有上、下極板，其中，上極板連接一根貫穿真空室上封頭的通管接頭，在通管封頭的管封處連接一根與計(jì)量計(jì)相通的配氣管，并且，上極板極端通過導(dǎo)線與隔直流電容相連接，隔直流電容的另一端與高頻電源連接，而設(shè)置在真空室下封頭上端的下極板，其極端通過導(dǎo)線與高頻電源的地線共接對地；所述的下封頭其封頭底部設(shè)置一與蝶閥相連的閥管接頭，在閥管接頭左、右兩側(cè)的下封頭殼體上分別設(shè)置了與真空室相通的放氣閥、真空計(jì)，所述的真空室的端頭設(shè)有二根流通管，真空室的內(nèi)室直徑為1000mm-2000mm之間。
由于采用了本設(shè)計(jì)，提供了大的工作空間，并且與配套設(shè)置使用時(shí)操作方便簡單，自動化程度高，提高了加工質(zhì)量和加工質(zhì)量的穩(wěn)定性，減輕了工人的操作難度，可用于大型金屬異型工件的表面化學(xué)氣相沉積。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1．高頻電源；2．隔直流電容；3．上極板；4．下極板；5．流量計(jì)；6．氣瓶；7．機(jī)械泵；8．蝶閥；9．管道；10．羅茨泵；11．放氣閥；12．升降機(jī)械；13．真空計(jì)；14．主機(jī)柜；15．上封頭；16．下封頭；17．真空室；18．通管接頭；19．閥管接頭；20．管封；21．配氣管；22．導(dǎo)線；23．導(dǎo)線；24．流通管。
在主機(jī)柜14的上部設(shè)置一帶有上、下封頭15、16的真空室17，在真空室17的內(nèi)部設(shè)有上、下極板3、4，其中，上極板3連接一根貫穿真空室17上封頭15的通管接頭18，在通管接頭18的管封20處連接有一根與流量計(jì)5相通的配氣管21，配氣管21的另一端與帶有流量計(jì)的氣瓶6連接。氣瓶6內(nèi)可裝有用于沉積的陶瓷氣體上極板3的極端通過導(dǎo)線22與隔直流電容2相連接，隔直流電容2的另一端與高頻電源1連接；設(shè)置在直空室17下封頭16上端的下極板4，其極端通過導(dǎo)線23與高頻電源1的地線共接對地；下封頭16其封頭底部設(shè)置一與蝶閥8相連的閥管接頭19，在閥管接頭19的左、右兩側(cè)的下封頭16殼體上分別設(shè)置了與真空室17相通的放氣閥11和真空計(jì)13。閥管接頭19通過管道9和蝶閥8分別與安裝在主機(jī)柜14殼體上的羅茨泵10和機(jī)械泵7連接，在真空室17的端頭通過二根流通管24與安裝在主機(jī)柜14殼體上的升降機(jī)械12連接，從而構(gòu)成整個(gè)主機(jī)結(jié)構(gòu)。
此主機(jī)機(jī)構(gòu)可與相應(yīng)的電腦控制系統(tǒng)連接，由電腦自動采集工作數(shù)據(jù)和控制加工過程，提高了加工質(zhì)量和質(zhì)量的穩(wěn)定性，減輕了工人操作難度及工作強(qiáng)度。又由于具有直徑1000mm-2000mm的真空室17、工作空間大，可實(shí)行產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于發(fā)動機(jī)零部件、刀具、模具等金屬異型工件表面沉積各種陶瓷薄膜及各種化學(xué)氣相沉積，與現(xiàn)有設(shè)備相比，工作空間大，易于產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)，加工質(zhì)量明顯提高，質(zhì)量穩(wěn)定可靠，減輕了操作難度。
權(quán)利要求1.一種陶瓷薄膜沉積裝置，具有高頻電源(1)、隔直流電容(2)、流量計(jì)(5)、氣瓶(6)，以及設(shè)置在主機(jī)柜(14)內(nèi)的機(jī)械泵(7)、蝶閥(8)、管道(9)、羅茨泵(10)、放氣閥(11)、升降機(jī)械(12)、真空計(jì)(13)，其特征是在所述的主機(jī)柜(14)的上部設(shè)置一帶有上、下封頭(15)、(16)的真空室(17)，且在真空室(17)的內(nèi)部設(shè)有上、下極板(3)、(4)，其中，上極板(3)連接一根貫穿真空室(17)上封頭(15)的通管接頭(18)，在通管接頭(18)的管封(20)處連接一根與流量計(jì)(5)相通的配氣管(21)，并且，上極板(3)極端通過導(dǎo)線(22)與隔直流電容(2)相連接，隔直流電容(2)的另一端通過導(dǎo)線與高頻電源(1)連接，而設(shè)置在真空室(17)下封頭(16)上端的下極板(4)，其極端通過導(dǎo)線(23)與高頻電源(1)的地線共接對地；所述的下封頭(16)其封頭底部設(shè)置一與蝶閥(8)相連的閥管接頭(19)，在閥管接頭(19)左、右兩側(cè)的下封頭(16)殼體上分別設(shè)置了與真空室(17)相通的放氣閥(11)、真空計(jì)(13)，所述的真空室(17)的端頭設(shè)有二根流通管(24)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷薄膜沉積裝置，其特征是所述的真空室(17)，其內(nèi)室直徑為1000mm-2000mm之間。
專利摘要本實(shí)用新型是一種大型數(shù)控等離子化學(xué)氣相沉積裝置,主要由高頻電源、流量計(jì)、氣瓶及設(shè)置在主機(jī)柜內(nèi)的機(jī)械泵、羅茨泵、蝶閥、升降機(jī)械等構(gòu)成。其中在主機(jī)柜的上部設(shè)置一帶上下封頭的真空室,其內(nèi)室直徑為1000mm—2000mm,主機(jī)柜可直接與電腦控制系統(tǒng)相連,與現(xiàn)有設(shè)備相比工作空間大,自動化程度高,減輕了操作難度,廣泛用于發(fā)動機(jī)零部件、刀具、模具等金屬異型表面沉積各種陶瓷薄膜。
文檔編號C23C16/30GK2436514SQ00245788
公開日2001年6月27日 申請日期2000年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月8日
發(fā)明者呂建治 申請人:呂建治