專利名稱：磁控濺射泡沫鎳卷繞鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及在柔性基材上連續(xù)沉積鎳或其他金屬薄膜的設(shè)備，具體地說是一種磁控濺射泡沫鎳卷繞鍍膜機(jī)。
目前，國(guó)內(nèi)進(jìn)行的這一工藝步驟是用化學(xué)的方法，稱之濕法，它使用設(shè)備較多，而且有些設(shè)備的使用不利于環(huán)境保護(hù)，勞動(dòng)條件也不好。
本實(shí)用新型的目的是提供一種采用物理汽相沉積的真空濺射方法來進(jìn)行在柔性基材上鍍金屬膜的設(shè)備，它鍍制的金屬膜致密性好，厚度均勻，結(jié)合牢固，采用此設(shè)備不產(chǎn)生三廢，勞動(dòng)條件好。
實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的具體技術(shù)方案是磁控濺射泡沫鎳卷繞鍍膜機(jī)包括一個(gè)形狀為圓形或方形的單室型真空室；一個(gè)設(shè)在真空室內(nèi)的驅(qū)動(dòng)車；一對(duì)設(shè)在真空室內(nèi)的放、收卷輥；數(shù)對(duì)設(shè)在真空室內(nèi)的磁控靶；放卷輥與收卷輥上卷繞有被鍍基材泡沫塑料，放卷輥與收卷輥間的泡沫塑料之間設(shè)有傳動(dòng)鏈條或帶及多個(gè)導(dǎo)輥；磁控靶成對(duì)出現(xiàn)，水平或垂直設(shè)置，其上靶或內(nèi)靶安裝在驅(qū)動(dòng)車上，下靶或外靶安裝在真空室的室體上，磁控靶兩側(cè)設(shè)有充氣管路；磁控靶采用電磁靶或永磁靶。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型有以下優(yōu)點(diǎn)1、在柔性基材上鍍制的金屬薄膜致密性好，厚度均勻，結(jié)合牢固，且不產(chǎn)生污染，勞動(dòng)條件好。
2、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，磁控靶分別安裝在驅(qū)動(dòng)車和真空室體上，靶材的更換和被鍍基材的裝卸方便。
3、適用于大面積鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn)，靶的安裝方式，使被鍍基材的外表面和孔內(nèi)表面的鍍膜一次完成。


圖1為本實(shí)用新型圓形真空室且水平設(shè)置磁控靶的結(jié)構(gòu)示意圖圖2為本實(shí)用新型方形真空室且垂直設(shè)置磁控靶的結(jié)構(gòu)示意圖圖中1-傳動(dòng)鏈條或帶2-真空室3-放卷輥4-收卷輥5-驅(qū)動(dòng)車6-泡沫塑料7-導(dǎo)輥8-充氣管路9-磁控靶
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述參閱附圖，本實(shí)用新型中的真空室2可為方形室體，也可為圓形室體，磁控靶9可水平設(shè)置，也可垂直設(shè)置，靶的濺射和被鍍基材的放卷、收卷等是在同一個(gè)真空室內(nèi)進(jìn)行。磁控靶9分別安裝在驅(qū)動(dòng)車5和真空室2室體上，充氣管路8設(shè)在磁控靶9的兩側(cè)且靠近被鍍基材，各導(dǎo)輥7用傳動(dòng)鏈條或帶進(jìn)行同步傳動(dòng)。具體工作過程在真空室2中，被鍍基材一泡沫塑料6從放卷輥3經(jīng)過多個(gè)導(dǎo)輥7和每對(duì)磁控靶9的中間位置連續(xù)均勻地傳送到收卷輥4上，在通過磁控靶9時(shí)，磁控靶9的靶材金屬鎳被充氣管路8充入的氬氣電離后產(chǎn)生的氬離子濺射出來，沉積在泡沫塑料6上而得到鎳金屬薄膜，完成濺射鍍膜過程。
權(quán)利要求1.一種磁控濺射泡沫鎳卷繞鍍膜機(jī)，其特征在于它包括一個(gè)形狀為圓形或方形的單室型真空室(2)；一個(gè)設(shè)在真空室(2)內(nèi)的驅(qū)動(dòng)車(5)；一對(duì)設(shè)在真空室(2)內(nèi)的放、收卷輥(3)、(4)；數(shù)對(duì)設(shè)在真空室(2)內(nèi)的磁控靶(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)，其特征在于所述的放卷輥(3)與收卷輥(4)上卷繞有被鍍基材泡沫塑料(6)，放卷輥(3)與收卷輥(4)間的泡沫塑料(6)之間設(shè)有傳動(dòng)鏈條或帶(1)及多個(gè)導(dǎo)輥(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)，其特征在于所述的磁控靶(9)成對(duì)出現(xiàn)，水平或垂直設(shè)置，其上靶或內(nèi)靶安裝在驅(qū)動(dòng)車(5)上，下靶或外靶安裝在真空室(2)的室體上，磁控靶(9)兩側(cè)設(shè)有充氣管路(8)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)，其特征在于所述的磁控靶(9)采用電磁靶或永磁靶。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種磁控濺射泡沫鎳卷繞鍍膜機(jī),它包括一個(gè)形狀為圓形或方形的單室型真空室;一個(gè)設(shè)在真空室內(nèi)的驅(qū)動(dòng)車;一對(duì)設(shè)在真空室內(nèi)的放、收卷輥;數(shù)對(duì)設(shè)在真空室內(nèi)的磁控靶;放卷輥與收卷輥上卷繞有被鍍基材,放卷輥與收卷輥間的被鍍基材之間設(shè)有傳動(dòng)鏈條或帶及多個(gè)導(dǎo)輥;在真空室內(nèi),被鍍基材由放卷輥勻速通過每對(duì)靶的中間位置,連續(xù)傳送到收卷輥上,這些靶濺射的金屬材料沉積在基材上,形成附著牢固,厚度均勻的鎳或其他金屬薄膜。
文檔編號(hào)C23C14/56GK2434311SQ0024695
公開日2001年6月13日 申請(qǐng)日期2000年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月8日
發(fā)明者夏正勛 申請(qǐng)人:夏正勛