專利名稱：泡沫鎳磁控濺射卷繞鍍膜機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及泡沫鎳金屬化前處理設(shè)備，為磁控濺射卷繞鍍膜裝置。
鎳氫、鎳鎘電池廣泛應(yīng)用于無線電通訊、無繩電話、便攜式電子產(chǎn)品如電腦、游戲機、商務(wù)通掌上機及各種LCD顯示器等。泡沫鎳則是鎳氫、鎳鎘電池的基本原材料，其市場需求量隨著鎳氫電池的飛速發(fā)展而越來越大，對其質(zhì)量要求也越來越高。
現(xiàn)有技術(shù)的泡沫鎳生產(chǎn)過程，一般采用活化-化學(xué)沉積鎳-電鍍鎳的工藝流程，其明顯的技術(shù)問題包括(1)活化和化學(xué)沉積鎳不均勻，導(dǎo)致最終電鍍鎳不均勻；(2)活化和化學(xué)沉積過程中有磷原子存在，磷原子混入鎳中會影響終端產(chǎn)品電池的性能；(3)活化液和化學(xué)沉積液要經(jīng)常調(diào)節(jié)，操作不方便；(4)活化和化學(xué)沉積液工作壽命不長，大量廢棄有毒害液體造成環(huán)境污染。
本實用新型的目的是，提供一種泡沫鎳磁控濺射卷繞鍍膜機，它不僅完全克服了已有技術(shù)的上述不足，還使生產(chǎn)出的泡沫鎳導(dǎo)電性均勻，鎳層純度高，可有效保證下游產(chǎn)品電池的性能。
本實用新型的技術(shù)方案是，所述鍍膜機的機體是一個由上部放料室和下部收料室以及位于該二室之間的立式隧道式真空室組成的封閉箱體，由外接動力驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的放料輥安裝在設(shè)有抽氣接口的放料室中而收料室中裝有由外接動力驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的收料輥，在立式隧道式真空室中由上至下裝有若干成對的導(dǎo)向板，在放料輥與上導(dǎo)向板之間以及收料輥與下導(dǎo)向板之間分別裝有若干導(dǎo)向輥，多組磁控濺射陰極和鎳靶分別設(shè)置在立式隧道式真空室對應(yīng)兩側(cè)且該兩側(cè)還裝有相應(yīng)的陽極。
以下結(jié)合附圖做出進一步說明。


圖1是實際結(jié)構(gòu)圖，其中1-放料室，7-陽極，2-放料輥，10-收料輥，3、11-無張力監(jiān)控探頭，12-收料室，
4、9-導(dǎo)向輥， 13-抽氣接口，5、8-上、下導(dǎo)向板，14-觀察窗，6-磁控濺射陰極與鎳靶， 15-立式隧道式真空室。
由圖1可知，本實用新型之鍍膜機的機體是一個由上部放料室(1)和下部收料室(12)以及位于該二室(1)(2)之間的立式隧道式真空室(15)組成的封閉箱體，由外接動力驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的放料輥(2)安裝在設(shè)有抽氣接口(13)的放料室(1)中而收料室(12)中裝有由外接動力驅(qū)動旋動的收料輥(10)，在立式隧道式真空室(15)中由上到下裝有若干成對的導(dǎo)向板(5)(8)，在放料輥(2)與上導(dǎo)向板(5)以及收料輥(10)與下導(dǎo)向板(8)之間分別裝有若干導(dǎo)向輥(4)(9)，多組磁控濺射陰極和鎳靶(6)分別設(shè)置在立式隧道式真空室(15)對應(yīng)兩則且該兩側(cè)裝有相應(yīng)的陽極(7)。為控制工件在鍍鎳過程的張力狀態(tài)，可在放料室(1)和收料室(12)上分別安裝無張力監(jiān)控探頭(3)(11)(其可用位置傳感器)，其與相應(yīng)監(jiān)控器相連；還可在收料室(12)上安裝觀察窗(14)。
本實用新型的設(shè)計原理是，經(jīng)抽氣接口(13)抽出箱內(nèi)空氣而使之處在一定真空度下；末鍍的聚氨酯泡沫帶(工件)繞裝在放料輥(2)上并由導(dǎo)向輥(4)導(dǎo)向后從導(dǎo)向板(5)(8)之間向下輸送至收料輥(10)上收繞，接通電源使所述電極和靶(6)及電極(7)工作而實現(xiàn)對工件的磁控濺射鍍鎳過程。由于放料輥(2)和放料輥(10)分別由動力驅(qū)動，從而使工件在無張力及真空條件下實現(xiàn)鍍鎳過程，保證了產(chǎn)品質(zhì)量。
由以上可知，本實用新型為一種泡沫鎳磁控濺射卷繞鍍膜機，使工件在整個生產(chǎn)過程采用自由下垂運行和無張力控制，產(chǎn)品不受外界張力影響；經(jīng)所述磁控濺射鍍制的泡沫鎳導(dǎo)電性均勻，截面鎳分布系數(shù)??；由于鎳層在真空鍍制過程中不受其它雜質(zhì)污染而使鎳層純度高，能更好地保證下游產(chǎn)品(電池)的性能；生產(chǎn)過程和工藝參數(shù)可用PLC程序控制器和主計算機控制，工藝穩(wěn)定、運行可靠、重復(fù)性好，且操作簡便；生產(chǎn)過程在真空下進行，無毒、無公害、不污染環(huán)境。
實施例按照附圖和上述結(jié)構(gòu)的本實用新型鍍膜機，設(shè)計參數(shù)為1、極限真空5×10-4Pa；2、恢復(fù)真空時間從大氣到3×10-3Pa約30分鐘；3、工作壓強0.2-0.5Pa；4、鍍泡沫鎳帶幅寬 1100mm；鍍泡沫鎳帶厚度 0.5-2mm；收放料最大卷徑 Φ600mm；5、鍍膜速度1-10m/min；6、陰極數(shù)量8個；陰極尺寸200×1500mm；7、鎳靶尺寸140×1440mm；8、鍍層方阻≤4Ω/口。
在工作壓強0.45Pa(Ar)，鍍膜速度2m/min，靶功率密度8w/cm2條件下，獲得的鍍層方阻為3.2Ω/口，截面鎳分布系數(shù)1.35(泡沫孔徑700-800μm，厚度2mm)，均均性±10％，鎳鍍層純度99.98％。鍍制過程工件無張力控制過程是，監(jiān)控探頭(3)(11)檢測卷徑變化，通過控制收放料線速度的一致而實現(xiàn)。
權(quán)利要求1.一種泡沫鎳磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征是，它的機體是一個由上部放料室(1)和下部收料室(12)以及位于該二室(1)(2)之間的立式隧道式真空室(15)組成的封閉箱體，由外接動力驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的放料輥(2)安裝在設(shè)有抽氣接口(13)的放料室(1)中而收料室(12)中裝有由外接動力驅(qū)動旋動的收料輥(10)，在立式隧道式真空室(15)中由上到下裝有若干成對的導(dǎo)向板(5)(8)，在放料輥(2)與上導(dǎo)向板(5)以及收料輥(10)與下導(dǎo)向板(8)之間分別裝有若干導(dǎo)向輥(4)(9)，多組磁控濺射陰極和鎳靶(6)分別設(shè)置在立式隧道式真空室(15)對應(yīng)兩則且該兩側(cè)裝有相應(yīng)的陽極(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的泡沫鎳磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征是，在放料室(1)和收料室(12)分別裝有無張力監(jiān)控探頭(3)(11)。
專利摘要本實用新型的結(jié)構(gòu)是,機體是一個由上部放料室(1)和下部收料室(12)及中間立式隧道式真空室(15)組成的封閉箱體,室(1)和(12)中分別裝有放、收料輥(2)(10),真空室(15)中豎向裝有多對導(dǎo)向板(5)(8),在輥(2)與板(5)及輥(10)與板(8)間有若干導(dǎo)向輥(4)(9),多組磁控濺射陰極和鎳靶(6)分設(shè)在真空室(15)對應(yīng)兩側(cè)且該兩側(cè)裝有相應(yīng)的陽極(7)。室(1)(12)分別裝有無張力監(jiān)控探頭(3)(11),室(1)有抽氣接口(13)而室(12)有觀察窗(14)。在無張力及真空條件下鍍鎳產(chǎn)品質(zhì)量高、生產(chǎn)中無污染產(chǎn)生。
文檔編號C23C14/35GK2450227SQ00251939
公開日2001年9月26日 申請日期2000年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月27日
發(fā)明者彭晶, 胡浩龍, 李偉, 蔣力, 王劍, 劉婧 申請人:湖南三才光電信息材料有限公司