專利名稱：用于還原銅氧化物的處理液及其處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于還原提高對樹脂的粘著性的銅氧化物的處理液及處理方法，特別涉及，用于在制造多層印刷線路板時提高內(nèi)層用銅配線與樹脂層的粘著性，并且提高內(nèi)層用銅配線的耐酸性的處理液和處理方法。
背景技術(shù)：
在制造多層印刷線路板時，如果與樹脂層多層粘著的內(nèi)層用銅配線表面平滑的話，粘著力變?nèi)酰虼?，目前在?nèi)層用銅配線表面上形成氧化亞銅或氧化銅等的銅氧化物層。這種銅氧化物層表面具有細微的凹凸，因而對樹脂層具有機械固定作用，并且，由于對樹脂層的化學(xué)親和性大，所以與樹脂層的粘著性極為優(yōu)良。
但是，上述銅氧化物層的耐酸性差，例如，在多層粘著工序后的通孔電鍍工序中，會發(fā)生用于添加無電解電鍍的催化劑的鹽酸酸性溶液使與樹脂層的粘著界面的銅氧化物層溶解的現(xiàn)象。
為了防止這種現(xiàn)象，通過保持所希望的細微凹凸并將銅氧化物層還原成金屬銅，制成同時具有粘著性和耐酸性的內(nèi)層用銅配線。上述銅氧化物層的還原處理方法已知的有與例如含有硼氫化鈉或甲醛水溶液等還原劑的堿性水溶液接觸的方法(特公昭64-8479號)、依次在硼氫化鈉和甲醛水溶液中浸漬銅氧化物層的兩段處理方法(特開平1-156479號)、還原劑使用二甲基胺硼烷的方法(特開昭61-176192號、特公平3-50431號)、依次在二甲基胺硼烷和甲醛水溶液中浸漬銅氧化物層的兩段處理方法(特開平5-160564號)等處理方法。
但是，采用特公昭64-8479號和特開平1-156479號中公開的方法難以將銅氧化物層充分還原成金屬銅，還存在對處理時間、處理溫度等有很大限制等問題。而且，采用使用二甲基胺硼烷的處理方法，存在二甲基胺硼烷容易分解從而造成處理液壽命短的問題。并且，硼氫化鈉和二甲基胺硼烷等還原劑價格高，在降低還原處理成本方面有困難。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明研究了上述實際情況，目的在于提供一種可得到與樹脂的粘著性優(yōu)良并具有耐酸性的銅材的處理液及處理方法。
本發(fā)明研究了即使降低二甲基胺硼烷含量也可將銅氧化物還原成金屬銅的處理液，發(fā)現(xiàn)在待處理對象的面積(在處理液中浸漬的具有銅氧化物的銅材的面積)和二甲基胺硼烷的最低需要量之間存在特殊的關(guān)系。
即，本發(fā)明的用于還原銅氧化物的處理液包括如下構(gòu)成在用于將銅表面上形成的銅氧化物還原成金屬銅的處理液中，含有含量至少在0.3～2.0g/L范圍內(nèi)的二甲基胺硼烷，并且二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185的關(guān)系。
而且，本發(fā)明用于還原銅氧化物的處理液還包括如下構(gòu)成在用于將銅表面上形成的銅氧化物還原成金屬銅的處理液中，含有含量至少在0.15～2.0g/L范圍內(nèi)的二甲基胺硼烷、0.5～100mL/L范圍內(nèi)的37％的甲醛水溶液，pH在12以上，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系。優(yōu)選方案具有如下構(gòu)成二甲基胺硼烷的含量y(g/L)與處理液pH值z之間成立y≥-0.106z+1.57的關(guān)系。
本發(fā)明用于還原銅氧化物的處理方法具有如下構(gòu)成在將通過氧化處理在表面形成銅氧化物的銅材浸漬在處理液中并將表面的銅氧化物還原成金屬銅的處理方法中，處理液是通過將二甲基胺硼烷加入水中，使二甲基胺硼烷的含量至少在0.3～2.0g/L范圍內(nèi)，并且二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅材處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185的關(guān)系而制備的，往水中加入二甲基胺硼烷是在表面具有銅氧化物的銅材浸漬之前10分鐘內(nèi)或者銅材浸漬之后進行。
本發(fā)明的用于還原銅氧化物的處理方法還包括以下構(gòu)成在通過氧化處理而在表面形成銅氧化物的銅材浸漬在處理液中并將表面的銅氧化物還原成金屬銅的處理方法中，處理液是通過將二甲基胺硼烷加入基本浴中，使二甲基胺硼烷的含量至少在0.15～2.0g/L范圍內(nèi)，并且二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅材處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系而制備；該基本浴含有0.5～100mL/L的37％甲醛水溶液，pH在12以上，并且向基本浴中加入二甲基胺硼烷是在表面具有銅氧化物的銅材浸漬前10分鐘以內(nèi)或者銅材浸漬以后進行。還具有如下構(gòu)成二甲基胺硼烷的含量y(g/L)與處理液pH值z之間成立y≥-0.106z+1.57的關(guān)系。
采用本發(fā)明的處理液，高價格的二甲基胺硼烷的用量比現(xiàn)有處理液用的少，特別是，隨著處理面積的增大，二甲基胺硼烷的最低必要量減少，因此，可降低將銅氧化物還原為金屬銅的處理成本。而且，采用將銅氧化物還原成金屬銅的處理方法，通過降低高價格的二甲基胺硼烷的使用量，可減低處理成本，通過防止由于二甲基胺硼烷的分解而導(dǎo)致的處理液的壽命縮短，來防止增大處理成本。
具體實施例方式
本申請的說明書和權(quán)利要求書中出現(xiàn)的術(shù)語“以上”、“以下”包括本數(shù)。
本發(fā)明用于還原銅氧化物的處理液是含有含量至少在0.3～2.0g/L范圍內(nèi)的二甲基胺硼烷的水溶液，同時，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位處理液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185的關(guān)系。這樣，本發(fā)明的處理液以隨著待處理對象的面積(浸漬在處理液中的具有銅氧化物的銅材面積)的增大而降低二甲基胺硼烷的最低必要量的特殊關(guān)系為基礎(chǔ)。
在處理液中二甲基胺硼烷的含量不到0.3g/L，或者不滿足上述關(guān)系式y(tǒng)≥0.232x-0.185時，不發(fā)生還原反應(yīng)，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。另一方面，如果處理液中二甲基胺硼烷的含量超過2.0g/L，多加入二甲基胺硼烷無法得到進一步的效果，相反，隨著高價格的二甲基胺硼烷的用量增大，成本上升，也是不優(yōu)選。
采用本發(fā)明的處理液，在將氧化亞銅或者氧化銅的銅氧化物還原成金屬銅時，對處理液的溫度沒有特別限制，例如，基板處理面積為1dm2/L、二甲基胺硼烷加入量為1.0g/L時，處理液溫度可設(shè)定在25～60℃的范圍內(nèi)，處理(浸漬)時間可設(shè)定在2～6分鐘的范圍。
本發(fā)明用于還原銅氧化物的處理液是含有含量至少在0.15～2.0g/L范圍內(nèi)的二甲基胺硼烷、0.5～100mL/L范圍內(nèi)的37％甲醛水溶液并且pH在12以上的水溶液，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系。這樣，本發(fā)明的處理液以隨著待處理對象的面積(浸漬在處理液中的具有銅氧化物的銅材面積)的增大而降低二甲基胺硼烷的最低必要量的特殊關(guān)系為基礎(chǔ)。處理面積越大，被二甲基胺硼烷還原生成的金屬銅的量越多，以該金屬銅作為催化劑的采用甲醛水溶液的還原反應(yīng)可更有效地進行，因此，可認(rèn)為上述特殊關(guān)系成立。
在處理液中二甲基胺硼烷的含量不到0.15g/L，或者不滿足上述關(guān)系式y(tǒng)≥0.215x-0.168時，不發(fā)生還原反應(yīng)，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。另一方面，如果處理液中二甲基胺硼烷的含量超過2.0g/L時，通過多加入二甲基胺硼烷無法得到進一步的效果，相反，隨著高價二甲基胺硼烷的用量增大，成本上升，也是不優(yōu)選的。
處理液中的37％甲醛水溶液含量不到0.5mL/L時，被二甲基胺硼烷還原生成的金屬銅作為催化劑的采用甲醛水溶液的還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。而37％甲醛水溶液的含量超過100mL/L時，操作環(huán)境惡化，也無法獲得由含量增加帶來的更進一步的效果。
本發(fā)明處理液的pH值可采用氫氧化鈉、氫氧化鉀、磷酸鈉等來調(diào)節(jié)。pH不到12時，還原反應(yīng)不發(fā)生，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。本發(fā)明優(yōu)選二甲基胺硼烷的含量y(g/L)與處理液pH值z之間成立y≥-0.106z+1.57的關(guān)系。
采用本發(fā)明的處理液，在將氧化亞銅或者氧化銅的銅氧化物還原成金屬銅時，對處理液的溫度沒有特別限制，例如，基板處理面積為1dm2/L、二甲基胺硼烷加入量為1.0g/L時，處理液溫度可設(shè)定在25～65℃的范圍內(nèi)，處理(浸漬)時間可設(shè)定在1.5～4.5分鐘的范圍。
本發(fā)明用于還原銅氧化物的處理方法是通過將由于氧化而在表面形成銅氧化物的銅材浸漬在處理液中并將表面的銅氧化物還原成金屬銅，作為處理液，使用在水中二甲基胺硼烷含量至少在0.3～2.0g/L范圍內(nèi)并且二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和單位液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185關(guān)系的處理液。這樣，在制備該處理液時，向水中加入二甲基胺硼烷是在表面具有銅氧化物的銅材浸漬前10分鐘內(nèi)或者銅材浸漬之后進行。
在本發(fā)明的處理方法中，加入到水中的二甲基胺硼烷可以是粉末狀態(tài)或者水溶液狀態(tài)的任意一種。從向水中加入二甲基胺硼烷到開始浸漬(還原處理)的時間間隔長的話，二甲基胺硼烷發(fā)生分解，不發(fā)生還原反應(yīng)，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。
而且，在本發(fā)明處理方法中使用的處理液中二甲基胺硼烷的含量不到0.3g/L，或者不滿足上述關(guān)系式y(tǒng)≥0.232x-0.185時，不發(fā)生還原反應(yīng)，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。另一方面，如果處理液中二甲基胺硼烷的含量超過2.0g/L時，無法得到多加入二甲基胺硼烷的進一步的效果，相反，隨著高價二甲基胺硼烷的用量增大，成本上升，也是不優(yōu)選的。
對通過氧化處理而在表面形成銅氧化物(氧化亞銅或者氧化銅)的銅材進行還原銅氧化物的處理時，對處理液的溫度沒有特別限制，但是，在基板處理面積為1dm2/L、二甲基胺硼烷為1.0g/L時處理液溫度可設(shè)定在25～60℃的范圍內(nèi)，處理(浸漬)時間可設(shè)定在2～6分鐘范圍內(nèi)。而且，在由處理而消耗了二甲基胺硼烷，處于不滿足上述含量或者上述關(guān)系式的狀態(tài)時，在浸漬銅材前10分鐘或者浸漬銅材后可適當(dāng)加入二甲基胺硼烷。
本發(fā)明用于還原銅氧化物的處理方法是將通過氧化處理而在表面形成銅氧化物的銅材浸漬在處理液中并將表面的銅氧化物還原成金屬銅，作為處理液使用的是二甲基胺硼烷含量至少在0.15～2.0g/L范圍內(nèi)、37％甲醛水溶液含量在0.5～100mL/L的范圍內(nèi)并且pH值在12以上的水溶液，且其為二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅材處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168關(guān)系的處理液。這樣，該處理液的制備是通過向37％甲醛水溶液含量在0.5～100mL/L的范圍內(nèi)并且pH值在12或12以上的基本浴中加入二甲基胺硼烷來進行的，向基本浴中加入二甲基胺硼烷是在表面具有銅氧化物的銅材浸漬前10分鐘內(nèi)或者銅材浸漬之后進行。
在本發(fā)明的處理方法中，加入基本浴中的二甲基胺硼烷可以是粉末狀態(tài)或者水溶液狀態(tài)的任意一種。從向基本浴中加入二甲基胺硼烷到浸漬(還原處理)的時間間隔長的話，二甲基胺硼烷發(fā)生分解，不發(fā)生還原反應(yīng)，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。
而且，在本發(fā)明處理方法中使用的處理液中二甲基胺硼烷的含量不到0.15g/L，或者不滿足上述關(guān)系式y(tǒng)≥0.215x-0.168時，不發(fā)生還原反應(yīng)，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。另一方面，如果處理液中二甲基胺硼烷的含量超過2.0g/L時，無法得到由多加入二甲基胺硼烷帶來的進一步效果，相反，隨著高價的二甲基胺硼烷的用量增大，成本上升，也是不優(yōu)選的。
基本浴(處理液)中的37％甲醛水溶液含量不到0.5mL/L時，被二甲基胺硼烷還原生成的金屬銅作為催化劑的采用甲醛水溶液的還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。而37％甲醛水溶液的含量超過100mL/L時，操作環(huán)境惡化，也無法獲得由含量增加帶來更進一步的效果。
基本浴(處理液)的pH值可采用氫氧化鈉、氫氧化鉀、磷酸鈉等來調(diào)整。在本發(fā)明中，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)與處理浴pH值z之間成立y≥-0.106z+1.57的關(guān)系為優(yōu)選。pH不到12時，還原反應(yīng)不發(fā)生，或者還原反應(yīng)不充分，是不優(yōu)選的。
對通過氧化處理而在表面形成銅氧化物(氧化亞銅或者氧化銅)的銅材進行還原銅氧化物的處理時，對處理液的溫度沒有特別限制，但是，在基板處理面積為1dm2/L、加入二甲基胺硼烷為1.0g/L時，處理液溫度可設(shè)定在25～65℃的范圍內(nèi)，處理(浸漬)時間可設(shè)定在1.5～4.5分鐘的范圍內(nèi)。而且，在由于處理而消耗了二甲基胺硼烷，處于不滿足上述含量或者上述關(guān)系式的狀態(tài)時，在浸漬銅材前10分鐘以內(nèi)或者浸漬銅材后可適當(dāng)加入二甲基胺硼烷。進而，由于處理而消耗甲醛水溶液并且pH降低時，適當(dāng)加入甲醛水溶液，適當(dāng)加入氫氧化鈉等，以滿足上述條件。
下面給出具體的實施例并更詳細地說明本發(fā)明。
首先，對帶有厚度為35微米電解銅箔的1毫米厚銅基板(25.5cm×25.5cm)進行前處理(在メルテツクス(株)制エンプレ-トPC-499中在70℃下浸漬5分鐘→水洗→在メルテツクス(株)制メルプレ-トAD-331中在25℃下浸漬1分鐘→水洗→在10％硫酸水溶液中在室溫下浸漬1分鐘→水洗→在メルテツクス(株)制エンプレ-トMB-438A的35mL/L水溶液中在室溫下浸漬1分鐘)。然后，在含有80mL/L的メルテツクス(株)制エンプレ-トMB-438A和130mL/L的メルテツクス(株)制エンプレ-トMB-438B的水溶液中浸漬(80℃下5分鐘)，然后，洗凈，在表面形成銅氧化物薄膜。該銅氧化物薄膜表面具有細微的凹凸。
接著，在水中加入二甲基胺硼烷，使具有下面的表1和2所示的濃度，制成處理液(樣品1-1～1-15)，在制備5分鐘后，浸漬上述形成銅氧化物的銅基板(50℃下5分鐘)，進行銅氧化物的還原處理。而且，調(diào)整處理液量，使單位液量的銅基板處理面積如下面表1和2所示。
進行上述還原處理并進行干燥后，將銅基板在50％鹽酸水溶液中浸漬10分鐘，從銅基板有無顏色變化確認(rèn)銅氧化物是否溶解，還原處理的評價按照下面的基準(zhǔn)進行，結(jié)果在下面的表1和2中顯示。
(還原處理的評價基準(zhǔn))○即使在50％的鹽酸水溶液中浸漬后，顏色也不發(fā)生變化，還原處理良好△在50％的鹽酸水溶液浸漬后，部分地方有顏色變化，還原處理稍微不充分×在50％鹽酸水溶液浸漬后，有顏色變化，還原處理不充分表1

表2

如表1、2所示，二甲基胺硼烷的含量在0.3g/L以上，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅基板處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185的關(guān)系時，銅基板表面上形成的銅氧化物被還原成金屬銅。而且，二甲基胺硼烷的含量在2.0g/L以上時，還原作用沒有顯著提高。
首先，與實施例1同樣，在銅基板表面上形成銅氧化物薄膜。
接著，在組分如下的基本浴(pH＝13)中加入二甲基胺硼烷，使其具有下面的表3和4所示的濃度，制成處理液(樣品2-1～2-15)，制備5分鐘后浸漬上述形成銅氧化物的銅基板(在50℃下5分鐘)，進行銅氧化物的還原處理。而且，調(diào)整處理液量，使每單位液量的銅基板處理面積如下面表3和4所示。
(基本浴的組成)·37％甲醛水溶液…10mL/L·氫氧化鈉 …10g/L·水…余量進行上述還原處理并進行干燥后，將銅基板在50％鹽酸水溶液中浸漬10分鐘，按照與實施例1同樣的基準(zhǔn)進行還原處理的評價，結(jié)果在下面的表3和4中顯示。
表3

表4

如表3和4所示，二甲基胺硼烷的含量在0.15g/L以上，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅基板處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系時，銅基板表面上形成的銅氧化物被還原成金屬銅。而且，二甲基胺硼烷的含量在2.0g/L以上時，還原作用沒有顯著提高。
首先，與實施例1同樣，在銅基板表面上形成銅氧化物薄膜。
接著，如下面表5所示的二甲基胺硼烷濃度、37％甲醛水溶液的濃度和處理液的pH條件下制備所設(shè)定的處理液(試樣3-1～3-10)。該處理液是在含有甲醛水溶液的基本浴中加入二甲基胺硼烷制備的，制備5分鐘后浸漬上述形成銅氧化物的銅基板(50℃下5分鐘)，進行銅氧化物的還原處理。通過改變氫氧化鈉的加入量來進行pH的調(diào)整。而且，根據(jù)下面表5所示的每單位液量的銅基板處理面積調(diào)整處理液量。
進行上述還原處理并進行干燥后，將銅基板浸漬在50％鹽酸水溶液中10分鐘，按照與實施例1同樣的基準(zhǔn)進行還原處理的評價，結(jié)果在下面的表5給出。
表5

如表5所示，處理液的pH為12以上，二甲基胺硼烷的含量在0.15g/L以上，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅基板處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系時，銅基板表面上形成的銅氧化物可被還原成金屬銅。
而且，如果注意二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和處理浴pH值z的關(guān)系，二者之間成立y≥-0.106z+1.57的關(guān)系時，銅基板表面上形成的銅氧化物被還原成金屬銅。但是，如樣品3-6所示，即使在y≥-0.106z+1.57關(guān)系不成立時，有時銅氧化物也被還原成金屬銅。而且，也有y≥-0.106z+1.57的關(guān)系成立而銅氧化物被還原成金屬銅不充分的情況。
首先，與實施例1同樣，在銅基板表面上形成銅氧化物薄膜。
接著，在具有下面組成的基本浴(pH＝13)中，添加二甲基胺硼烷，使其含量為0.20g/L，制備處理液，采用所制得的處理液，進行上述形成銅氧化物的銅基板的還原處理。即，在基本浴中加入二甲基胺硼烷，制成處理液，然后設(shè)定從制備結(jié)束至開始浸漬銅基板(50℃下5分鐘)的時間間隔為24個小時、6個小時、1個小時、30分鐘、15分鐘、10分鐘、5分鐘和0分鐘，分別進行還原處理。另外，在基本浴中浸漬銅基板，5分鐘后加入二甲基胺硼烷進行還原處理。使浸漬的銅基板的每單位液量的處理面積為1(dm2/L)。
(基本浴組成)·37％甲醛水溶液…10mL/L·氫氧化鈉 …10g/L·水…余量進行上述還原處理并進行干燥后，將銅基板在50％鹽酸水溶液中浸漬10分鐘，評價還原處理。結(jié)果，在基本浴中從加入二甲基胺硼烷至開始浸漬銅基板的時間間隔為10分鐘以內(nèi)時，以及，在基本浴中浸漬銅基板后加入二甲基胺硼烷時，銅基板表面上形成的銅氧化物被還原成金屬銅。
而且，從在基本浴中加入二甲基胺硼烷到開始浸漬銅基板的時間間隔超過10分鐘時，會殘留銅氧化物，還原反應(yīng)不充分，或者存在銅氧化物沒有被還原的情況。
權(quán)利要求
1.一種用于還原銅氧化物的處理液，該處理液是用于將在銅表面上形成的銅氧化物還原成金屬銅的處理液，其特征在于，含有含量至少在0.3～2.0g/L范圍內(nèi)的二甲基胺硼烷，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185的關(guān)系。
2.一種用于還原銅氧化物的處理液，該處理液是用于將銅表面上形成的銅氧化物還原成金屬銅的處理液，其特征在于，含有含量至少在0.15～2.0g/L范圍內(nèi)的二甲基胺硼烷、0.5～100mL/L范圍內(nèi)的37％甲醛水溶液，pH在12以上，并且，二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位處理液量的處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系。
3.權(quán)利要求2記載的用于還原銅氧化物的處理液，其中二甲基胺硼烷的含量y(g/L)與處理液pH值z之間成立y≥-0.106z+1.57的關(guān)系。
4.一種用于還原銅氧化物的處理方法，該方法是在將通過氧化處理而在表面形成銅氧化物的銅材浸漬在處理液中并將表面的銅氧化物還原成金屬銅的處理方法，其特征在于，該處理液是通過將二甲基胺硼烷加入水中，使二甲基胺硼烷的含量至少在0.3～2.0g/L范圍內(nèi)，并且二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅材處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.232x-0.185的關(guān)系而制備的，往水中加入二甲基胺硼烷是在表面具有銅氧化物的銅材浸漬之前10分鐘內(nèi)或者銅材浸漬之后進行。
5.一種用于還原銅氧化物的處理方法，該方法是在將通過氧化處理而在表面形成銅氧化物的銅材浸漬在處理液中并將表面的銅氧化物還原成金屬銅的處理方法，其特征在于，該處理液是通過將二甲基胺硼烷加入基本浴中，使二甲基胺硼烷的含量至少在0.15～2.0g/L范圍內(nèi)，并且二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和每單位液量的銅材處理面積x(dm2/L)之間成立y≥0.215x-0.168的關(guān)系而制備的；該基本浴含有0.5～100mL/L的37％甲醛水溶液；pH在12以上；和向基本浴中加入二甲基胺硼烷是在表面具有銅氧化物的銅材浸漬前10分鐘以內(nèi)或者銅材浸漬以后進行。
6.權(quán)利要求5記載的用于還原銅氧化物的處理方法，其中二甲基胺硼烷的含量y(g/L)與處理液pH值z之間成立y≥-0.106z＋1.57的關(guān)系。
全文摘要
作為用于將在銅表面上形成的銅氧化物還原成金屬銅的處理液,含有含量至少在0.3～2.0g/L范圍的二甲基胺硼烷,并且該二甲基胺硼烷的含量y(g/L)和單位液量的處理面積x(dm
文檔編號C23C22/63GK1338893SQ0112552
公開日2002年3月6日 申請日期2001年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2000年8月10日
發(fā)明者藤田康治, 池島賢司 申請人:美錄德有限公司