專利名稱：分立雙室離子鍍膜機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種離子鍍膜裝置，具體地說是涉及一種雙室可交替作業(yè)的離子鍍膜機。
背景技術(shù)：
鍍膜技術(shù)由蒸發(fā)鍍發(fā)展到多弧離子鍍，在鍍膜質(zhì)量方面有很大提高，鍍層硬度及膜層與基體的結(jié)合都得到很大改善，且膜的品種大大增加。目前，多弧離子鍍膜方法多數(shù)采用單室離子鍍膜機，這種機型存在以下缺陷1、本機制造成本高及鍍膜生產(chǎn)成本高；2、單室多弧離子鍍膜機一般采用8套或12套蒸發(fā)離化源，由于某些原因往往出現(xiàn)熄弧，弧頭越多鍍膜時滅弧的幾率越大，從而導致鍍膜質(zhì)量下降。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是為了解決已有技術(shù)中單室鍍膜機制造成本高，鍍膜生產(chǎn)成本高以及在鍍膜時常出現(xiàn)熄弧而影響產(chǎn)品質(zhì)量等問題。
本實用新型主要由真空鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、主弧電源、轟偏電源、加熱測量裝置、配氣系統(tǒng)和控制臺組成，其特征在于兩個真空鍍膜室分立，構(gòu)成左右兩部分，共用一套電源系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，主抽氣管道與兩個真空鍍膜室相聯(lián)，兩室的配氣通過控制臺切換。真空鍍膜室為筒體結(jié)構(gòu)，蒸發(fā)離化源(3)分布室壁四周，公自轉(zhuǎn)掛架位于室頂部。通常每個真空鍍膜室內(nèi)均等距離布置四套蒸發(fā)離化源。在連接兩個真空鍍膜室的主抽管道上用兩個高真空閥將兩室分隔，在輔抽管道上也裝有兩個低真空閥。
與同等生產(chǎn)效率的單室離子鍍膜機相比，本實用新型可減小真空鍍膜室的尺寸，減少蒸發(fā)離化源的數(shù)量，利于真空室及弧頭的清理，從而使滅弧的可能性減到最小，提高鍍膜制品的質(zhì)量；此外，其抽真空系統(tǒng)功率、轟偏電源功率均較小等原因使得雙室機比單室機的制造成本降低20-30％。
本實用新型的雙室可交替作業(yè)，極大降低了鍍膜制品的生產(chǎn)成本?，F(xiàn)以八個蒸發(fā)離化源的單室機與本實用新型作生產(chǎn)概況分析比較


圖1為分立雙室離子鍍膜機俯視簡圖，其中1、真空鍍膜1室(簡稱1室)，2、真空鍍膜2室(簡稱2室)，3、蒸發(fā)離化源，4、主抽氣管道，5-1、高真空閥，5-2、高真空閥，6、輔抽氣管道，7-1、低真空閥，7-2、低真空閥，14、電離真空規(guī)管。
圖2為分立雙室離子鍍膜機后視簡圖，其中10、擴散泵，11、節(jié)流閥，12、機框(用于布置走線、冷卻水等)，13、調(diào)整螺栓，Δ1、接主抽系統(tǒng)機械泵，Δ2、接輔抽系統(tǒng)機械泵。
圖3為分立雙室離子鍍膜機結(jié)構(gòu)示意圖，其中8、輔抽機械泵，9、主抽機械泵，10、擴散泵。
具體實施方式
1、參照附圖1、2，1室和2室是兩個獨立的同規(guī)格的真空鍍膜室，采用拉門結(jié)構(gòu)，每個室裝有四套蒸發(fā)離化源，兩個觀察窗口，一個測溫孔，兩個配氣孔和一個泄放孔，頂部有螺旋掛架及高真空規(guī)管測量孔，底部裝有加熱器，轟偏電源負高壓與掛架相連。抽氣管道設(shè)計在真空室側(cè)壁，兩室下部裝有充氣閥。主抽系統(tǒng)由主抽管道、高真空閥、節(jié)流閥、擴散泵和真空機械泵組成。輔抽系統(tǒng)由輔抽管道、低真空閥和真空機械泵組成。冷卻水管組焊在兩室內(nèi)壁襯套上，下部是進水口，上部是出水口。蒸發(fā)離化源最大輸出電流120A，工作電壓20V，裝有泄放電路，保證弧電流突變時，電源不受損壞。各蒸發(fā)離化源單獨引弧供電，使熄弧的可能性減少到最低程度。
2、操作步驟參照圖3，1室完成鍍前工作，控制臺切換到1室。打開低真空閥7-1。輔軸機械泵8抽初真空，5-8分鐘后，達6-8×10[0]Pa，關(guān)閉低真空閥7-1，打開高真空閥5-1，主抽機械泵9和擴散泵10抽高真空，10—15分鐘后，達2-6×10[-2]Pa，開始放電清洗，配氣鍍膜。此時2室的鍍前工作完成，打開低真空閥7-2，輔抽機械泵抽2室初真空，1室的鍍膜工序完成，關(guān)閉高真空閥5-1，電控系統(tǒng)切換到2室。1室充氣，取出鍍件。此時2室完成初抽，關(guān)閉低真空閥7-2。打開高真空閥5-1，主抽系統(tǒng)抽2室高真空，……2室的鍍膜工作完成，1室的鍍前準備工作和預(yù)抽工作以完成。依此循環(huán)，工作有條不紊。
權(quán)利要求1.分立雙室離子鍍膜機，主要由真空鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、主弧電源、轟偏電源、加熱測量裝置、配氣系統(tǒng)和控制臺組成，其特征在于兩個真空鍍膜室分立，構(gòu)成左右兩部分，共用一套電源系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和抽真空系統(tǒng)，主抽氣管道與兩個真空鍍膜室相聯(lián)，兩室的配氣通過控制臺切換。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分立雙室離子鍍膜機，其特征在于真空鍍膜室為筒體結(jié)構(gòu)，蒸發(fā)離化源(3)分布室壁四周，公自轉(zhuǎn)掛架位于室頂部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分立雙室離子鍍膜機，其特征在于每個真空鍍膜室內(nèi)均等距離布置四套蒸發(fā)離化源(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的分立雙室離子鍍膜機，其特征在于主抽氣管道(4)上用兩個高真空閥將兩個真空鍍膜室分隔，在輔抽氣功管道上裝有兩個低真空閥。
專利摘要本實用新型涉及一種離子鍍膜裝置，主要由真空鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、主弧電源、轟偏電源、加熱測量裝置、配氣系統(tǒng)和控制臺組成，其特征在于兩個真空鍍膜室分立，構(gòu)成左右兩部分，共用一套電源系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和抽空系統(tǒng)，主抽氣管道與兩個真空鍍膜室相聯(lián)，兩室的配氣通過控制臺切換交替工作。與同等生產(chǎn)效率的單室離子鍍膜機相比，其制造成本低20－30％，鍍膜制品的生產(chǎn)成本下降50％多且質(zhì)量好。
文檔編號C23C14/30GK2542681SQ02219249
公開日2003年4月2日 申請日期2002年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月8日
發(fā)明者徐惠生 申請人:徐惠生