專利名稱：臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種等離子化學(xué)氣相沉積裝置，尤其是一種用于氣相沉積的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的它包括沉積室、支架以及設(shè)置在內(nèi)支架內(nèi)的蝶閥、羅茨泵、機(jī)械泵，在所述的支架的上部橫置有沉積室，沉積室的兩端設(shè)有封頭，在沉積室內(nèi)部對(duì)應(yīng)設(shè)有長方形的上極板和下極板，沉積室上設(shè)有觀察窗，所述的沉積室的下部通過蝶閥和管道分別連接有羅茨泵和機(jī)械泵。
所述的沉積室為圓柱型桶或橢圓型桶。
所述的上極板和下極板通過支撐軌道平行安裝在沉積室內(nèi)。
所述的沉積室內(nèi)部至少設(shè)有一對(duì)上極板和下極板。
所述的沉積室上至少設(shè)有一個(gè)觀察窗。
所述的沉積室通過法蘭盤和轉(zhuǎn)軸活動(dòng)連接有封頭，所述的封頭為半圓型。
所述的沉積室內(nèi)徑為1000毫米-5000毫米，長度為1000毫米-50000毫米。
所述的法蘭盤的內(nèi)徑與沉積室的內(nèi)徑相同，為1000毫米-5000毫米。
所述的羅茨泵和機(jī)械泵至少是一組。
所述的支架設(shè)有支架門。
由于本實(shí)用新型采用了上述結(jié)構(gòu)，與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn)1.臥式多層沉積室的設(shè)計(jì)，能較好的解決鐘罩式或立式沉積裝置加工面積小的問題。采用同直徑法蘭密封的臥式多層設(shè)備，其加工量可達(dá)到立式或鐘罩式設(shè)備加工面積的2.7倍至8倍，而占地面積僅為1.8倍，便于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。
2.多層沉積室的設(shè)計(jì)，較好的解決了直徑越大實(shí)用空間比例越小的問題，可充分利用沉積室空間，而每增加一層，就可提高一倍的產(chǎn)量。
3.由于充分利用了沉積室的空間，成倍的提高了產(chǎn)量，可最大限度的減少能源和原料的浪費(fèi)，因而使加工成本大幅度的降低，臥式3層沉積設(shè)備加工產(chǎn)品的成本，比同直徑鐘罩式或立式設(shè)備加工產(chǎn)品成本低80％。
4.由于采用臥式多層沉積室的設(shè)計(jì)，使設(shè)備制造成本成倍下降。1臺(tái)臥式3層沉積室的設(shè)備，是8臺(tái)同直徑鐘罩式或立式設(shè)備的產(chǎn)量，而設(shè)備制造成本，僅相當(dāng)于2臺(tái)同直徑鐘罩式或立式設(shè)備。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1.沉積室；2.觀察窗；3.法蘭盤；4.封頭；5.上極板；6.下極板；7.蝶閥；8.羅茨泵；9.機(jī)械泵；10.支架；11.支架門。
現(xiàn)有技術(shù)的鐘罩式或立式沉積裝置的沉積室，上封頭、下封頭和沉積室豎直擺放，其有效工作空間受沉積室大小限制的影響，加工面積小，上下封頭和沉積室的一部分均為無效空間。本實(shí)用新型的多層沉積室橫向設(shè)置，沉積室1的兩端設(shè)有封頭4，在沉積室1內(nèi)部通過支撐軌道平行安裝有對(duì)應(yīng)的上極板5和下極板6，上極板5和下極板6為長方形，與傳統(tǒng)技術(shù)一樣分別連接有高頻電源，上極板5和下極板6至少設(shè)一對(duì)，封頭4打開后，把上極板5和下極板6沿軌道推入沉積室1內(nèi)，被鍍工件放在電極之上，一對(duì)上極板5和下極板6對(duì)應(yīng)設(shè)置就形成一個(gè)完整的沉積室，沉積室中的工作區(qū)可根據(jù)需要由一對(duì)上下極板(單層)或若干對(duì)上下極板(多層)組成。與現(xiàn)有技術(shù)的鐘罩式或立式沉積設(shè)備相比充分利用了沉積室的空間，較好的解決了直徑越大實(shí)用空間比例越小的問題，而每增加一層，就可提高一倍的產(chǎn)量。沉積室1上設(shè)有觀察窗2，其觀察窗可每層一個(gè)或多個(gè)。沉積室1的下部通過蝶閥7和管道分別連接有抽真空用的二級(jí)真空泵羅茨泵8和機(jī)械泵9，其中真空泵可由一組或多組組成。在支架10上設(shè)有可開關(guān)的支架門11。
沉積室1內(nèi)可分為兩層或多層沉積區(qū)，其真空、溫度、工作氣體的流量、射頻電源的功率等加工參數(shù)均由電腦自動(dòng)控制，并可在異地通過寬帶網(wǎng)進(jìn)行檢測、調(diào)試和控制，此為現(xiàn)有技術(shù)。其產(chǎn)量大、占地面積小、設(shè)備空間利用率高、單件加工成本低，結(jié)構(gòu)簡單、操作方便、自動(dòng)化程度高，便于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。
沉積室1的內(nèi)徑和封頭法蘭盤3的內(nèi)徑為1000毫米至5000毫米，沉積室長度為1000毫米至50000毫米，這樣采用同直徑法蘭密封的臥式多層設(shè)備，更加合理的利用有效空間，其加工量可達(dá)到立式或鐘罩式設(shè)備加工面積的2.7倍至8倍，而占地面積僅為1.8倍，便于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)，同時(shí)降低設(shè)備加工成本和產(chǎn)品加工成本。
權(quán)利要求1.一種臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，包括沉積室(1)、支架(10)以及設(shè)置在內(nèi)支架(10)內(nèi)的蝶閥(7)、、羅茨泵(8)、機(jī)械泵(9)，其特征是在所述的支架(10)上橫臥有沉積室(1)，沉積室(1)的兩端設(shè)有封頭(4)，在沉積室(1)內(nèi)部對(duì)應(yīng)設(shè)有長方形的上極板(5)和下極板(6)，沉積室(1)上設(shè)有觀察窗(2)，所述的沉積室(1)的下部通過蝶閥(7)和管道分別連接有羅茨泵(8)和機(jī)械泵(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的沉積室(1)為圓柱型桶或橢圓型桶。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的上極板(5)和下極板(6)為長方形，通過支撐軌道平行安裝在沉積室(1)內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的沉積室(1)內(nèi)部至少設(shè)有一對(duì)上極板(5)和下極板(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的沉積室(1)上至少設(shè)有一個(gè)觀察窗(6)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的沉積室(12)通過法蘭盤(3)和轉(zhuǎn)軸活動(dòng)連接有封頭(4)，所述的封頭(4)為半圓型。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的沉積室(1)內(nèi)徑為1000毫米-5000毫米，長度為1000毫米-50000毫米。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的法蘭盤(3)的內(nèi)徑與沉積室(1)的內(nèi)徑相同，為1000毫米-5000毫米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的羅茨泵(8)和機(jī)械泵(9)至少是一組。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置，其特征是所述的支架(10)設(shè)有支架門(11)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于氣相沉積的臥式多層陶瓷薄膜氣相沉積裝置。它包括沉積室、支架以及設(shè)置在內(nèi)支架內(nèi)的蝶閥、羅茨泵、機(jī)械泵，在支架的上部橫置有沉積室，沉積室的兩端設(shè)有封頭，在沉積室內(nèi)部對(duì)應(yīng)設(shè)有長方形的上極板和下極板，沉積室上設(shè)有觀察窗，沉積室的下部通過蝶閥和管道分別連接有羅茨泵和機(jī)械泵。提供了一種同內(nèi)徑法蘭密封的臥式多層真空鍍膜裝置，能較好的解決鐘罩式或立式沉積裝置加工面積小、占地面積大的問題，可充分利用沉積室空間，便于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。
文檔編號(hào)C23C16/50GK2587885SQ0229408
公開日2003年11月26日 申請(qǐng)日期2002年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2002年12月26日
發(fā)明者呂建治, 朱紀(jì)伍 申請(qǐng)人:呂建治, 朱紀(jì)伍