專利名稱：珩磨方法和珩磨設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種對機械加工線上所運載的工件內表面進行磨削的珩磨方法和珩磨設備，通過相對于工件旋轉具有油石的珩磨頭同時沿軸向移動所述珩磨頭而執(zhí)行所述珩磨。
背景技術：
具有圓柱形內表面的工件，例如氣缸柱的氣缸內徑是決定發(fā)動機性能的重要區(qū)域。為此，要求氣缸內徑具有高成型精度和良好的表面輪廓。作為成型精度來說，為了減少活塞的滑動阻力，要求氣缸內徑的圓度和圓柱度盡可能地高。至于表面輪廓，為了減少活塞的卡住(磨損)，希望確保足夠的粗糙度以便于使有氣缸內徑表面盡可能多地有油和作為固定潤滑劑的石墨。
為了滿足這些條件，將具有油石3的珩磨頭5插入到氣缸內徑1的內圓周表面中，使得具有油石3的珩磨頭5旋轉并軸向移動以便于進行磨削，從而如圖8中所示的執(zhí)行氣缸內徑1的珩磨(參照日本專利申請未審定公開號No.5-57597和N0.5-57598)。珩磨頭5沿圓周方向具有多個油石3，并且當以指定的膨脹壓力徑向向外，即，朝向氣缸內徑1的內圓周表面的方向擠壓油石3時，珩磨頭5研磨氣缸內徑1的內圓周表面。
在上述珩磨中，必須確保一定量的機械加工余量以便于去除鉆孔所產生的粗糙度，所述鉆孔是珩磨的預加工程序。因此，通常，為了使得珩磨時間最小化，進行具有高磨削效率的粗珩磨以珩磨大部分的機械加工余量，并且，在粗珩磨之后，進行具有低磨削效率的精珩磨以改進成型精度和表面輪廓。
在粗珩磨過程中，為了確保如上所述的機械加工余量，膨脹壓力使得氣缸內徑1大大變形，所述膨脹壓力即，將油石3壓在氣缸內徑1上的壓力。圖9A示出了在粗珩磨過程中氣缸內徑1的變形狀態(tài)。根據(jù)圖9A，使得氣缸內徑1變形，以便于沿徑向向外的方向大大加寬氣缸內徑1的上部開口側并減小氣缸內徑1下部的內徑。
如果解除了油石3的膨脹壓力并任由工件按原樣處于該變形狀態(tài)下，會發(fā)生受壓的氣缸內徑1的內圓周表面返回到中心側的作用，也就是，由箭頭S所指示的回彈。因此，氣缸內徑1的形狀變成例如圖9B中所示出的那樣。
如果在粗珩磨之后，當氣缸內徑1如圖9A中所示那樣變形時，繼續(xù)執(zhí)行隨后的精珩磨的話，由于回彈的影響，就會非常不利地難于高精度地確保氣缸內徑1的形狀。
另外，為了確保成型精度，可考慮這樣的措施，即，降低粗珩磨過程中油石的膨脹速度，從而減少工件的回彈或延長精珩磨時間。然而，這些措施會不利地延長機械加工時間并增加制造成本。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的一個目的是，在不會導致機械加工時間延長的情況下，在精珩磨中高精度地確保工件的形狀。
為了實現(xiàn)這個目的，本發(fā)明的第一方面提供了一種磨削機械加工線上所運載的工件的圓柱體內表面的珩磨方法，通過旋轉具有油石的珩磨頭、同時沿軸向移動所述珩磨頭而執(zhí)行所述珩磨，其特征在于，在粗珩磨步驟中，對圓柱體的內表面進行粗珩磨，在空轉步驟中，在沒有將珩磨頭插入到圓柱體中的情況下，任由工件依原樣放置預定時間，然后在隨后的精珩磨步驟中，沿與粗珩磨步驟中旋轉方向相反的方向使得珩磨頭旋轉，從而執(zhí)行對于工件圓柱體內表面的珩磨。
本發(fā)明的第二方面提供了本發(fā)明第一方面所涉及的珩磨方法，其中在空轉步驟中為工件提供冷卻劑。
本發(fā)明的第三方面提供了本發(fā)明第二方面所涉及的珩磨方法，其中將冷卻劑設定為與粗珩磨步驟和精珩磨步驟中所使用的冷卻劑相同的溫度。
本發(fā)明的第四方面提供了本發(fā)明第一到第三方面任意一項中所涉及的珩磨方法，其中在空轉步驟中任由工件依原樣放置的時間至少為30秒。如果工件放置時間少于30秒，如圖3中所示的，粗珩磨步驟之后的回彈作用所導致的回復變形量是不充分的，從而隨后的精珩磨步驟會受到回彈的影響。
本發(fā)明的第五方面提供了一種磨削機械加工線上所運載的工件的圓柱體內表面的珩磨設備，通過旋轉具有油石的珩磨頭、同時沿軸向移動所述珩磨頭而執(zhí)行所述珩磨，所述珩磨設備包括設在機械加工線上的粗珩磨步驟區(qū)域和精珩磨步驟區(qū)域；以及用于放置已經進行了粗珩磨步驟的工件的空轉步驟區(qū)域，在沒有將珩磨頭插入到圓柱體中的情況下，任由工件依原樣放置預定時間，空轉步驟區(qū)域被設在粗珩磨步驟區(qū)域和精珩磨步驟區(qū)域之間，精珩磨步驟中珩磨頭的旋轉方向與粗珩磨步驟中珩磨頭的旋轉方向相反。
依照本發(fā)明的第一或第五方面，用于任由工件依原樣放置預定時間的空轉步驟被設置在同一加工線上的粗珩磨步驟與精珩磨步驟之間。因此，在空轉步驟期間回彈使得工件變形，這可消除回彈在隨后的精珩磨步驟上的影響，并且可高精度地確保工件的形狀。另外，由于該空轉步驟被設在與粗珩磨步驟和精珩磨步驟相同的加工線上并設置在粗珩磨步驟和精珩磨步驟之間，因此無需單獨提供任由工件依原樣放置的專用空間，從而不會產生過長時間的情況，從而避免了機械加工時間的延長。
此外，在精珩磨中，珩磨頭沿與粗珩磨中旋轉方向相反的方向旋轉。因此，在精珩磨中所產生的工件的珩磨靶面的塑性流動是沿與粗珩磨中所產生的塑性流動方向相反的方向產生的，并且精珩磨中的塑性流動的作用在于抵消粗珩磨中的塑性流動。因此，可減少精珩磨中的塑性流動、抑制微小膛內毛刺的出現(xiàn)，從而獲得高精確度的珩磨表面。
依照本發(fā)明的第二方面，通過在空轉步驟中為工件提供冷卻劑，總體上來說工件的溫度變化變得均勻，并且總體上珩磨靶面上的回彈量變得均勻。因此，可防止在精珩磨中機械加工余量不必要地變大并且可縮短精珩磨時間。
依照本發(fā)明的第三方面，在空轉步驟中所提供的冷卻劑被設定為與粗珩磨步驟和精珩磨步驟中所使用的冷卻劑相同的溫度。通過如此設定，可在這些步驟中共享冷卻劑源，不必為空轉步驟單獨地提供專用冷卻劑源，因此可簡化整個設備。
依照本發(fā)明的第四方面，通過將空轉步驟中任由工件依原樣放置的時間設定為至少30秒，在粗珩磨之后充分獲得了回彈作用所導致的回復變形量，因此可消除隨后的精珩磨中回彈的影響。


圖1是珩磨步驟圖，示出了本發(fā)明所涉及的一個實施例中的珩磨方法；圖2示出了工件放置時間與粗珩磨后回彈量之間的相互關系；圖3是解釋性視圖，示出了其中精珩磨的油石抵靠在珩磨靶面上的一種狀態(tài)；圖4是解釋性視圖，示出了油石的自生功能；圖5是解釋性視圖，示出了本發(fā)明所涉及的珩磨靶面的成型精度與傳統(tǒng)技術中珩磨靶面的成型精度之間的對比；圖6是解釋性視圖，示出了本發(fā)明所涉及的暴露于珩磨靶面的石墨的釋放程度與傳統(tǒng)技術中暴露于珩磨靶面的石墨的釋放程度之間的對比；圖7是解釋性視圖，示出了珩磨靶面的表面形狀改進的原理；圖8是示出了珩磨的橫截面圖；以及圖9A和9B是氣缸內徑的橫截面圖，其中圖9A是剛剛粗珩磨之后的氣缸內徑的橫截面圖，而圖9B是在粗珩磨之后依原樣放置預定時間的氣缸內徑的橫截面圖。
具體實施例方式
在下文中將結合附圖描述本發(fā)明的實施例。
圖1示出了本發(fā)明所涉及的一個實施例中的珩磨方法。在圖1中，附圖標記101表示該珩磨方法的粗珩磨步驟區(qū)域，而103表示其精珩磨步驟區(qū)域。而且，在粗珩磨步驟區(qū)域101和精珩磨步驟區(qū)域103之間提供了空轉步驟區(qū)域102，所述空轉步驟區(qū)域102用于任由工件依原樣放置預定時間(“獨自擱置時間”或“離開時間”)。這些步驟區(qū)域被設置在同一條加工線(工作線)上。具有圓柱形內表面的發(fā)動機氣缸柱11作為一個工件沿粗珩磨步驟區(qū)域101、空轉步驟區(qū)域102和精珩磨步驟區(qū)域103的順序在該加工線上被運載。
如圖1的粗珩磨步驟中所示的，珩磨頭15被插入到氣缸柱11的氣缸內徑13中。以沿圓周方向等距離分布的方式將沿圖1中的縱向方向的多個長方體粗珩磨油石17設置于珩磨頭的外圓周部分上。
膨脹壓力機構(未示出)的預定膨脹壓力T1可將這些粗珩磨油石17壓在氣缸內徑13的內圓周表面上。設有所述粗珩磨油石17的珩磨頭15通過沿軸向(即，圖1中的縱向)旋轉同時移動而執(zhí)行對于氣缸內徑13內圓周表面的粗珩磨。
在圖1中所示的精珩磨步驟區(qū)域103中，使用設有精珩磨油石19的珩磨頭21對氣缸柱11的氣缸內徑13進行精加工。與粗珩磨油石17相似，以沿圓周方向等距離分布的方式設置沿圖1中的縱向方向的多個長方體精珩磨油石19，并且膨脹壓力機構(未示出)的預定膨脹壓力T2可將這些精珩磨油石19壓在氣缸內徑13的內圓周表面上。
與粗珩磨的珩磨頭15相似，設有這些精珩磨油石19的珩磨頭21旋轉同時沿軸向移動。然而，珩磨頭21的旋轉方向與粗珩磨期間的旋轉方向相反。
分別為區(qū)域101、102和103的步驟設有冷卻劑噴管23、25和27，所述冷卻劑噴管23、25和27用于向氣缸內徑13中提供作為冷卻液體的冷卻劑。從公共冷卻劑供給源29通過管道31將冷卻劑分別供應到各個冷卻劑噴管23、25和27中。
在粗珩磨區(qū)域101的步驟中經受粗珩磨的具有氣缸內徑13的氣缸柱11被運載到接下來的空轉步驟區(qū)域102，在這里將氣缸柱11依原樣放置60秒的預定時間。在該氣缸柱11依原樣放置時，其它的氣缸柱分別在設置于空轉步驟區(qū)域102之前的粗珩磨步驟區(qū)域101中和設置于空轉步驟區(qū)域102之后的精珩磨步驟區(qū)域中經受粗珩磨和精珩磨。氣缸柱11留在空轉步驟區(qū)域102中的時間可為至少30秒。
剛好在粗珩磨步驟區(qū)域101的粗珩磨之后，與圖9A中相似，如圖1中空轉步驟區(qū)域102中雙點劃線所示的，由粗珩磨油石17施加的膨脹壓力T1使得氣缸內徑13變形。在該變形狀態(tài)中，如果在不將珩磨頭插入到氣缸內徑13中的情況下將氣缸柱11依原樣放置的話，如圖1中空轉步驟區(qū)域102中實線所示的，回彈S的作用使得氣缸內徑13收縮性地變形。
如圖2中所示的，如果將該收縮性變形的氣缸內徑13依原樣放置60秒的話，回彈量(回彈程度)近似為最大值。與剛好在如圖1中空轉步驟區(qū)域102中雙點劃線所示的粗珩磨之后的具有較大直徑上部、并且其直徑朝向下部逐漸變小的氣缸內徑13不同，處于最大回彈量狀態(tài)中的氣缸內徑13具有沿軸向的、內徑幾乎彼此相等的凹入部分13a、13b等，和鄰近于各個凹入部分的、內徑幾乎彼此相等的凸出部分13c、13d、13e等。
如上所述的，在粗珩磨之后依原樣放置60秒的氣缸柱11被運載到接下來的精珩磨步驟區(qū)域103中，在所述精珩磨步驟區(qū)域103中，通過沿與粗珩磨步驟區(qū)域101的方向相反的方向旋轉裝有精珩磨油石19的珩磨頭21，對氣缸柱11進行精珩磨。
在粗珩磨步驟區(qū)域101中，膨脹壓力T1是精珩磨期間的膨脹壓力T2的幾倍高，以便于在短時間內珩磨更多的機械加工余量(加工容許偏差)。為此，剛好在粗珩磨之后的氣缸柱11的回彈量十分大并且在該回彈所引起的回復變形接近于最大時大約需要60秒。
該空轉步驟區(qū)域102的設定具有以下兩個優(yōu)點。
首先，由于粗珩磨后的精珩磨期間回彈的影響相當小，因此幾乎只通過精珩磨的性能就可確定珩磨精度。第二個優(yōu)點如下所述。
在粗珩磨期間，如圖1中空轉步驟區(qū)域102中雙點劃線所示的，粗珩磨油石17迫使氣缸內徑13加寬。當粗珩磨完成以后將氣缸內徑13依原樣放置60秒鐘時，如圖1中空轉步驟區(qū)域102中實線所示的，產生了凹入部分13a、13b等和凸出部分13c、13d、13e等。如圖3中所示的，這些凹入和凸出部分使得每個精珩磨油石19抵靠在珩磨靶面局部。
此時，以固定力F將每個精珩磨油石19都壓在珩磨靶面上，以使得局部抵靠在珩磨靶面上的精珩磨油石19的區(qū)域的表面壓力增加。珩磨的特征在于，當表面壓力增加時，切入珩磨靶面中的油石的磨料顆粒的量就增加，從而使研磨效率增加。因此，用于珩磨具有不規(guī)則性的珩磨靶面的珩磨時間比用于珩磨具有規(guī)則性的珩磨靶面(油石完全抵靠在珩磨靶面上)的珩磨時間短。
每個凸出部分13c、13d、13e等相對于每個凹入部分13a、13b等在珩磨靶面上的凸出量h(見圖3)大約為用于精珩磨的機械加工余量的30％到50％。在這種情況下，加工時間(工作時間)最好比精珩磨期間的傳統(tǒng)加工時間短10％。
此外，如圖4中所示的，當切入珩磨靶面35中的磨料顆粒33的量增加時，精珩磨油石19的磨料顆粒33上的載荷增加了，易于出現(xiàn)裂縫33a(當油石活躍時所謂的自生功能)，從而產生新的切削刃口33b以提高切割。應該注意的是，箭頭X所指示的方向是精珩磨油石19的移動方向，附圖標記37表示粗珩磨步驟區(qū)域101中所產生的塑性流動，附圖標記39表示該塑性流動37所導致的阻力(載荷)。
因此，獲得了以下一系列優(yōu)點磨削力的減少→內徑變形和塑性流動的減少→珩磨精度的提高。
當隨后執(zhí)行精珩磨時，精珩磨油石19在珩磨靶面35上的局部抵靠逐漸減少并且變?yōu)橥耆挚?。然而，由于依然保持磨料顆粒33的良好切割，因此還保持上述優(yōu)點直到珩磨的完成(由于到珩磨結束時油石完全抵靠在珩磨靶面上，因此機械加工余量約為φ10到15μm)。
由于這些功能，與使用傳統(tǒng)珩磨方法A相比，使用珩磨方法C(其中提供了空轉步驟區(qū)域102)使得氣缸內徑13的成型精度(圓度、圓柱度)提高了約30％。另外，如圖6中所示的，與使用傳統(tǒng)珩磨方法A相比，使用珩磨方法C(其中提供了空轉步驟區(qū)域102)使得石墨暴露于氣缸內徑13內圓周表面的程度提高了約40％。
如稍后將描述的，由于塑性流動的減少而導致石墨的暴露程度增加。
接下來，將描述將精珩磨步驟區(qū)域103中的珩磨頭21的旋轉方向設定得與粗珩磨步驟區(qū)域101中的珩磨頭15的旋轉方向相反的優(yōu)點。
如上面所描述的，在粗珩磨步驟區(qū)域101中，粗珩磨油石17的膨脹壓力T1是高的，因此使用顆粒尺寸大于精珩磨油石19的磨料顆粒的粗珩磨油石17的磨料顆粒，以便于提高磨削效率。為此，如圖7中所示的，由于粗珩磨，產生了具有較大深度L的塑性流動37的珩磨表面35和微小膛內毛刺41。此外，由于珩磨表面35的影響，產生了未暴露于珩磨表面35的許多石墨43。
將精珩磨步驟區(qū)域103中的珩磨頭21的旋轉方向設定得與粗珩磨步驟區(qū)域101中的珩磨頭旋轉方向相反意味著，磨料顆粒33沿與粗珩磨步驟區(qū)域中塑性流動37的方向相反的方向移動。磨料顆粒33的這種移動產生了公知的材料剝離效應。此外，沿與粗珩磨步驟中塑性流動37的方向相反的方向產生了由精珩磨油石19的磨料顆粒33所形成的塑性流動37a。因此，塑性流動37a用于抵消粗珩磨中所產生的塑性流動37。
通過這些功能，在精珩磨中可獲得具有小塑性流動37a的珩磨表面35a，并且難于產生微小膛內毛刺41。由于石墨43a較少受到小塑性流動37a的影響，因此石墨43a易于暴露于表面，并且如圖6中所示的，與使用傳統(tǒng)珩磨方法A相比，使用珩磨方法B(包括精珩磨中的反向旋轉)使得石墨43a的暴露程度提高了20％，此外，如圖5中所示的，與使用傳統(tǒng)珩磨方法A相比，使用珩磨方法B(包括精珩磨中的反向旋轉)使得成型精度提高了30％。
下面將描述與傳統(tǒng)技術相似的、通過在精珩磨步驟中沿與粗珩磨步驟中珩磨頭相同的方向旋轉珩磨頭的珩磨工件的示例。在該示例中，不能獲得上述優(yōu)點而只能獲得源自于精珩磨的優(yōu)點。為此，必須執(zhí)行輔助的珩磨步驟(諸如使用軟木材料取代油石的軟木珩磨步驟和使用包含顆粒尺寸遠小于精珩磨油石的磨料顆粒的油石的曲線的平穩(wěn)段的珩磨(plateau honing)步驟，從而不利地提高了成本。
接下來，將描述將提供空轉步驟區(qū)域102與精珩磨步驟區(qū)域103中珩磨頭的反向旋轉相組合的結構的優(yōu)點。
如在關于提供空轉步驟區(qū)域102的優(yōu)點的描述中所述的，提高了油石的切削，從而降低了磨削阻力并且提高了珩磨表面的成型精度。如果將反向旋轉的功能加到這些優(yōu)點上的話，如圖5中所示的珩磨方法D(B+C)所表示的，進一步降低了磨削阻力，并且珩磨表面的成型精度又提高了10％，與使用傳統(tǒng)珩磨方法A相比，珩磨表面的成型精度最終提高了60％。
如圖4中所示的，對于精珩磨步驟區(qū)域103中珩磨頭的反向旋轉的功能來說，由于精珩磨油石19的磨料顆粒33的移動以便于超越粗珩磨所產生的塑性流動37所導致的磨削阻力(載荷)39的增加幾乎變得與材料剝離效應所導致的磨削阻力的減少相等，并且磨削效率整體是不足的。
然而，如果將上述反向旋轉的功能加到空轉步驟102所獲得的功能上的話，塑性流動的阻力就作為磨料顆粒33的輔助載荷39。因此，甚至只通過提供空轉步驟區(qū)域102而不受自生功能影響的磨料顆粒也變得自生了，從而進一步增加了良好切削的磨料顆粒。因此，與只提供空轉步驟區(qū)域102的磨削阻力相比，磨削阻力降低了，并且珩磨表面的成型精度提高了。
在成型精度的這種提高中，既沒有降低粗珩磨步驟區(qū)域101中粗珩磨油石17的膨脹速度，也沒有增加精珩磨時間。因此，避免了珩磨時間的延長。
接下來，將描述在空轉步驟區(qū)域102中提供冷卻劑的優(yōu)點。
如圖1中所示的，在空轉步驟區(qū)域102中，在粗珩磨步驟區(qū)域101、空轉步驟區(qū)域102和精珩磨步驟區(qū)域103之間溫度條件相同的冷卻劑是從公共冷卻劑供給源29中提供的。如果在粗珩磨步驟區(qū)域101的步驟之后只將工件依原樣放置于空轉步驟區(qū)域102中，在提供有冷卻劑的粗珩磨步驟之后溫度突然改變，由于溫度改變導致氣缸內徑的內圓周表面的回彈量變得不均勻，因此在精珩磨步驟中需要更多的機械加工余量，因此也需要更長的精珩磨時間。
因此，通過在空轉步驟區(qū)域102的步驟中提供冷卻劑，可更均勻地產生回彈量，從而實現(xiàn)精珩磨時間的減少。
在空轉步驟區(qū)域102的步驟中所提供冷卻劑不總是必須從與粗珩磨步驟區(qū)域101和精珩磨步驟區(qū)域103所共用的公共冷卻劑供給源29中供給，而是也可從獨立的冷卻劑供給源中供給。然而，通過使用公共冷卻劑供給源29，各個步驟在冷卻劑溫度方面幾乎相等，因此不必為空轉步驟區(qū)域102提供專用的冷卻劑供給源，從而可簡化整個設備。
在這里合并參考(2002年8月30日所申請的)日本專利申請P2002-255887的全部內容。
盡管在上文中已參考本發(fā)明的某些實施例描述了本發(fā)明，然而本發(fā)明不局限于上述實施例。本領域熟練人員可根據(jù)上述技術對上述實施例進行各種修正和改變。根據(jù)以下權利要求限定了本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.一種磨削加工線上所運載的工件的圓柱體內表面的珩磨方法，通過旋轉具有油石的珩磨頭、同時沿軸向移動所述珩磨頭而執(zhí)行所述珩磨，所述方法包括以下步驟在粗珩磨區(qū)域上磨削工件的圓柱體內表面；在沒有將珩磨頭插入到圓柱體中的情況下，任由圓柱體在空轉步驟區(qū)域上放置預定時間；在精珩磨區(qū)域上磨削工件的圓柱體的內表面；其中，在粗珩磨區(qū)域上珩磨頭沿與精珩磨區(qū)域上的珩磨頭的旋轉方向相反的方向旋轉，從而對工件的圓柱體內表面進行磨削。
2.依照權利要求1中所述的珩磨方法，其特征在于，在空轉區(qū)域上為工件提供冷卻劑。
3.依照權利要求2中所述的珩磨方法，其特征在于，將冷卻劑設定為與在粗珩磨區(qū)域上和精珩磨區(qū)域上所使用的冷卻劑相同的溫度。
4.依照權利要求1中所述的珩磨方法，其特征在于，在空轉區(qū)域上任由工件依原樣放置的時間至少為30秒。
5.依照權利要求2中所述的珩磨方法，其特征在于，在空轉區(qū)域上任由工件依原樣放置的時間至少為30秒。
6.依照權利要求3中所述的珩磨方法，其特征在于，在空轉區(qū)域上任由工件依原樣放置的時間至少為30秒。
7.一種磨削機械加工線上所運載的工件的圓柱體內表面的珩磨設備，通過旋轉具有油石的珩磨頭、同時沿軸向移動所述珩磨頭而執(zhí)行所述珩磨，所述珩磨設備包括設在機械加工線上的粗珩磨步驟區(qū)域和精珩磨步驟區(qū)域；以及用于放置已經進行了粗珩磨步驟的工件的空轉步驟區(qū)域，在沒有將珩磨頭插入到圓柱體中的情況下，任由工件依原樣放置預定時間，其中，空轉步驟區(qū)域被設在粗珩磨步驟區(qū)域和精珩磨步驟區(qū)域之間，并且其中，精珩磨步驟中珩磨頭的旋轉方向與粗珩磨步驟中珩磨頭的旋轉方向相反。
8.一種磨削機械加工線上所運載的工件的圓柱體內表面的珩磨設備，通過旋轉具有油石的珩磨頭、同時沿軸向移動所述珩磨頭而執(zhí)行所述珩磨，所述珩磨設備包括用于磨削機械加工線上的工件的圓柱體內表面的粗珩磨裝置；用于磨削機械加工線上的工件的圓柱體內表面的精珩磨裝置；以及機械加工線上的空轉裝置，用于放置已經進行了粗珩磨步驟的工件，在沒有將珩磨頭插入到圓柱體中的情況下，任由工件依原樣放置預定的時間，其中，空轉步驟裝置設在粗珩磨裝置和精珩磨裝置之間，并且其中，精珩磨裝置中珩磨頭的旋轉方向與粗珩磨裝置中珩磨頭的旋轉方向相反。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種珩磨方法和珩磨設備，在區(qū)域(101)中的粗珩磨步驟中，裝有粗珩磨油石(17)的珩磨頭(15)被插入到氣缸柱(11)的氣缸內徑(13)中，旋轉珩磨頭(15)同時使之沿軸向移動，從而對氣缸內徑(13)的內圓周表面進行磨削。在接下來的區(qū)域(102)中的空轉步驟中，將氣缸柱(11)依原樣放置60秒以產生回彈(S)。在隨后的區(qū)域(103)中的精珩磨步驟中，裝有精珩磨油石(19)的珩磨頭(21)被插入到氣缸內徑(13)中，沿與粗珩磨步驟中旋轉方向相反的方向旋轉珩磨頭(21)，同時使之沿軸向移動，從而對氣缸內徑(13)的內圓周表面進行磨削。此外，使用公共冷卻劑供給源(29)分別從冷卻劑噴管(23)、(25)和(27)中向粗珩磨步驟、空轉步驟和精珩磨步驟的區(qū)域中供應冷卻劑。
文檔編號B24B33/02GK1486818SQ03155579
公開日2004年4月7日 申請日期2003年8月29日 優(yōu)先權日2002年8月30日
發(fā)明者鈴木清久, 井伊谷隆, 隆 申請人:日產自動車株式會社