專利名稱：納米粒子制備裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種納米粒子制備裝置，尤其是利用激光消熔法的納米粒子制備裝置。
背景技術(shù)：
由于納米粒子的表面效應(yīng)和體積效應(yīng)，其具有特殊的化學(xué)反應(yīng)性與光學(xué)性質(zhì)等物理特性，可應(yīng)用于催化劑、生物分子感測、光觸媒、高導(dǎo)熱的納米流體等領(lǐng)域。
現(xiàn)有技術(shù)中，激光消熔法是制備納米粒子的方法之一。其將高純度的塊材置于容器中，用含有適量穩(wěn)定劑的保護溶液浸沒容器中的塊材，利用聚焦的高能激光束打在塊材表面上，以消熔塊材而產(chǎn)生分子團簇，并通過保護溶液所提供的低溫環(huán)境及穩(wěn)定劑分散所生成的納米粒子。保護溶液中的穩(wěn)定劑如各種界面活性劑，可附著于納米粒子表面產(chǎn)生靜電排斥力，使納米粒子難以凝聚為大顆粒而沉降，從而獲得均勻分散的納米粒子溶液；顆粒的大小可以由界面活性劑的種類、濃度、激光功率的大小、激光波長等參數(shù)來控制。但是，現(xiàn)有的激光消熔法納米粒子制備裝置是靜置的，在制備完成后，需待收集生成溶液完畢，才可再置入新保護溶液，進行制備，上述兩個步驟不能同時進行，較為不便，不利于連續(xù)式的大量生產(chǎn)。
有鑒于此，有必要提供一種納米粒子制備裝置，其可具有連續(xù)制備納米粒子等特點。

發(fā)明內(nèi)容下面將以若干實施例說明一種連續(xù)制備納米粒子的裝置，其可實現(xiàn)納米粒子的連續(xù)式生產(chǎn)。
為實現(xiàn)以上內(nèi)容，提供一種納米粒子制備裝置，該制備裝置包括一容器，該容器設(shè)有進液口及出液口；一靶材，設(shè)于所述容器的底部；一激光裝置，用于提供一激光束，以轟擊該靶材；所述進液口位置高于靶材。
優(yōu)選的，該容器底部還設(shè)置一超聲波裝置。
所述靶材的材質(zhì)可選用碳材、金屬或其合金。
所述激光裝置可選用氣體激光器、液體激光器、固體激光器或半導(dǎo)體激光器。
相對于現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)方案所提供的納米粒子制備裝置，其容器上設(shè)有進液口與出液口，在制備過程中，生成的納米粒子可隨保護溶液從出液口連續(xù)流出，并可在進液口連續(xù)供給保護溶液，從而實現(xiàn)納米粒子的連續(xù)制備，生產(chǎn)效率高，便于連續(xù)式大量生產(chǎn)。

圖1是本發(fā)明第一實施例的納米粒子制備裝置示意圖。
圖2是本發(fā)明第二實施例設(shè)有超聲波裝置的納米粒子制備裝置示意圖。
圖3是利用本發(fā)明所提供裝置進行納米粒子制備的示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖將對本發(fā)明實施例作進一步的詳細說明。
參見圖1，本發(fā)明第一實施例提供的納米粒子制備裝置100，其包括一容器10，一靶材20及一激光裝置30。
所述容器10，其設(shè)有一進液口11，及一出液口12。該容器10可用于盛裝一保護溶液。進液口11可用于連續(xù)供給保護溶液，其位置設(shè)置高于靶材20上表面；出液口12可用于收集制備得到的含有納米粒子的溶液，其設(shè)置于容器10的側(cè)壁。通過進液口及出液口的設(shè)置，可使納米粒子的制備與收集同步進行。
所述靶材20，設(shè)于容器10的底部，該靶材20具有一上表面，其材料可根據(jù)所需納米粒子種類進行選擇，可選用碳材、金屬或其合金。
所述激光裝置30，用于提供一激光束，經(jīng)由所述上表面轟擊靶材20。該激光裝置30可選用氣體激光器、液體激光器、固體激光器或半導(dǎo)體激光器。
參見圖2，本發(fā)明第二實施例為使制備得到的納米粒子更均勻的分布于保護溶液中，還可在容器10底部設(shè)置一超聲波裝置40。
結(jié)合圖3，對本發(fā)明實施例提供的納米粒子制備裝置的操作過程做詳細描述制備納米粒子時，為更便于溶液置入及收集，可將容器10相對于水平面傾斜一角度θ，該傾斜角θ滿足0°≤θ≤60°。
(1)將靶材20置于容器10底部，本實施例中選用銅靶；(2)將一保護溶液裝入容器10中，并將銅靶20完全浸沒。該保護溶液可選用聚乙烯醇、壬基酚聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、十二烷基硫酸鈉等之水溶液，本實施例中選用聚乙烯醇水溶液；(3)打開激光裝置30，利用激光束轟擊銅靶20，本實施例中選取固體激光器；(4)打開超聲波裝置40，所產(chǎn)生的納米粒子在超聲波作用下，均勻分散于保護溶液中而得含納米粒子的溶液；(5)待保護溶液中納米粒子達到預(yù)定濃度時，打開出液口12上的閥門(圖未標示)，收集含有納米粒子的溶液，并通過進液口供給保護溶液，控制進液口11處保護溶液的流速以及出液口12處納米粒子溶液的流出速度，使容器10中溶液的液位基本保持不變，從而實現(xiàn)納米粒子的連續(xù)制備。
本實施方式提供的納米粒子制備裝置，其容器上設(shè)有進液口與出液口，制備過程中可使生成的納米粒子隨保護溶液從出液口連續(xù)流出，并可在進液口連續(xù)供給保護溶液，從而實現(xiàn)納米粒子的連續(xù)制備，生產(chǎn)效率高，便于連續(xù)式大量生產(chǎn)。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，如適當變更超聲波裝置的設(shè)置位置，或變更容器與基底夾角的大小，或變更靶材的材料，或變更激光裝置的類型，或變更進液口或出液口的個數(shù)、位置等，只要其不偏離本發(fā)明的技術(shù)效果均可。這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種納米粒子制備裝置，其包括一容器；一靶材，其設(shè)于所述容器的底部；及一激光裝置，用于產(chǎn)生一激光束，以轟擊所述靶材；其特征在于，所述容器具有一進液口及一出液口，該進液口位置高于靶材。
2.如權(quán)利要求1所述納米粒子制備裝置，其特征在于所述容器底部設(shè)有一超聲波裝置。
3.如權(quán)利要求1所述納米粒子制備裝置，其特征在于所述靶材的材料是碳材、金屬或其合金。
4.如權(quán)利要求3所述納米粒子制備裝置，其特征在于所述靶材的材料是銅、銀、金或其合金。
5.如權(quán)利要求1所述納米粒子制備裝置，其特征在于所述激光裝置是氣體激光器、液體激光器、固體激光器或半導(dǎo)體激光器。
6.如權(quán)利要求1所述納米粒子制備裝置，其特征在于所述出液口設(shè)于該容器的側(cè)壁。
全文摘要
本發(fā)明提供一種納米粒子制備裝置，其包括一容器，一靶材及一激光裝置，所述容器具有一進液口及一出液口，制備過程中，生成的納米粒子可隨保護溶液從出液口連續(xù)流出，并可在進液口連續(xù)供給保護溶液，從而實現(xiàn)納米粒子的連續(xù)制備，該裝置生產(chǎn)效率高，便于連續(xù)式大量生產(chǎn)。
文檔編號B22F9/04GK1911497SQ20051003649
公開日2007年2月14日 申請日期2005年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月8日
發(fā)明者董才士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司