專(zhuān)利名稱(chēng)：塑膠件表面真空鍍膜工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種塑膠件表面鍍膜工藝，更具體的說(shuō)，涉及一種塑膠件表面真空鍍膜工藝。
背景技術(shù)：
塑膠件在日常生活中的使用越來(lái)越廣泛，為了美化塑膠件的表面外觀，通常會(huì)在塑膠件的表面鍍膜，特別是鍍覆出具有半鏡面光澤質(zhì)感的膜。傳統(tǒng)的鍍膜方法有(1)在透明塑膠件上以真空濺鍍的方式鍍覆鋁、鎳或鉻金屬膜，得到具有金屬光澤、具有半鏡面效果的塑膠件，但是由于該膜為金屬膜而具有導(dǎo)電性，限制了塑膠件的安全使用。(2)采用電子槍真空蒸發(fā)鍍膜方法，在塑膠件表面鍍覆由SiO2/TiO2等組成的具有高低折射率的透明薄膜，籍由光學(xué)作用形成具有色彩的半透明效果，但是該方法得到的膜層不具有金屬質(zhì)感的半鏡面效果。
因此，如何解決上述兩種方法存在的缺陷，尋求一種在塑膠表面鍍覆具有半鏡面金屬質(zhì)感效果而又不導(dǎo)電的薄膜的方法，是業(yè)界研究、改進(jìn)的方向。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種塑膠件表面真空鍍膜工藝，使鍍覆后的塑膠件表面具有半鏡面金屬質(zhì)感并具有良好的絕緣效果。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明結(jié)合反應(yīng)性真空濺鍍及膜厚控制技術(shù)，在塑膠表面鍍覆一層具有半鏡面金屬質(zhì)感效果的絕緣膜層，該工藝包含如下步驟1.將待鍍塑膠件(1)進(jìn)行表面超聲波清洗；2.在塑膠件表面施加一層厚度為5～20μm的底面涂層(2)，再經(jīng)紫外光固化；3.以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，在濺鍍過(guò)程中通入高濃度氮?dú)猓⑴c鋯發(fā)生反應(yīng)而在塑膠件表面生成氮化鋯薄膜，控制該薄膜的厚度在10～70nm，從而得到具有穿透和反射效果的半鏡面絕緣膜層(3)。
其中待鍍的塑膠件是高透光的PC(polycarbonate，聚碳酸酯)或PMMA(poly methyl methacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)。
其中在待鍍塑膠件表面施加底面涂層的方式是噴涂或浸鍍，采用噴涂的方式是利用X、Y軸二向平面自動(dòng)涂裝系統(tǒng)在塑膠件表面噴涂一層底漆(2)，該底漆是真空濺鍍專(zhuān)用UV底漆，其主要成分是光固化樹(shù)脂、溶劑、光引發(fā)劑、添加劑等，噴涂過(guò)程中膜的厚度控制是通過(guò)調(diào)節(jié)噴槍的流量來(lái)完成；采用浸鍍的方式是將待鍍件放入盛有浸鍍液的浸鍍槽中，經(jīng)浸鍍后，在塑膠件的表面形成一層底涂膜層(2)，膜的厚度控制則是通過(guò)改變浸鍍液的濃度和調(diào)整工件的提起速度來(lái)完成。
真空濺鍍的工藝為，以鋯金屬為靶材，保持氬氣流量140Sccm，分別采用固定鍍膜功率調(diào)節(jié)氮?dú)饬髁炕蚬潭ǖ獨(dú)饬髁空{(diào)節(jié)鍍膜功率的方式，鍍膜時(shí)間3到5秒，得到厚度在10～70nm的反應(yīng)性濺鍍氮化鋯鍍層(3)，如附圖1所示。各工藝條件下濺鍍的試驗(yàn)數(shù)據(jù)分別如表1、表2所示表1 Ar流量140Sccm，鍍膜功率9Kw不同N2流量下濺鍍5秒所得鍍層的電阻

表2 Ar流量140Sccm，N2流量50Sccm不同鍍膜功率下濺鍍3秒所得鍍層的電阻

從以上數(shù)據(jù)可以看出，通過(guò)對(duì)鍍膜功率、鍍膜時(shí)間以及N2流量的控制，即可得到絕緣的鍍膜層(3)。在固定鍍膜功率為9Kw的情況下，鍍膜時(shí)間5秒，只要N2流量≥65Sccm，即可得到電阻值為無(wú)窮大的鍍膜層(3)；同樣在固定氮?dú)饬髁繛?0Sccm的情況下，鍍膜時(shí)間3秒，鍍膜功率在2～5Kw時(shí)，也可得到電阻值為無(wú)窮大的鍍膜層(3)。
實(shí)施發(fā)明的塑膠件表面真空鍍膜工藝，其有益效果在于，通過(guò)本發(fā)明提供的工藝對(duì)塑膠件進(jìn)行鍍膜，得到的膜層具有半鏡面光澤質(zhì)感并有良好的絕緣效果。


下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
圖1是本發(fā)明塑膠件表面真空鍍膜工藝鍍覆的膜層示意圖。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例1將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，噴涂一層真空濺鍍專(zhuān)用UV底漆2，控制漆層厚度5～20μm，然后在紫外光照下固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為鍍膜功率9Kw，Ar流量140Sccm，N2流量65Sccm，鍍膜時(shí)間5秒。得到膜厚10～30nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
實(shí)施例2將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，噴涂一層真空濺鍍專(zhuān)用UV底漆2，控制漆層厚度5～20μm，然后在紫外光照下固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為鍍膜功率9Kw，Ar流量140Sccm，N2流量150Sccm，鍍膜時(shí)間5秒。得到膜厚10～30nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
實(shí)施例3將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，采用浸鍍的方式在其表面鍍覆一層厚度5～20μm的底涂層2，然后經(jīng)紫外光照固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為鍍膜功率9Kw，Ar流量140Sccm，N2流量70Sccm，鍍膜時(shí)間5秒。得到膜厚40～70nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
實(shí)施例4將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，采用浸鍍的方式在其表面鍍覆一層厚度5～20μm的底涂層2，然后經(jīng)紫外光照固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為鍍膜功率9Kw，Ar流量140Sccm，N2流量200Sccm，鍍膜時(shí)間5秒。得到膜厚40～70nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
實(shí)施例5將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，噴涂一層真空濺鍍專(zhuān)用UV底漆2，控制漆層厚度5～20μm，然后在紫外光照下固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為N2流量50Sccm，Ar流量140Sccm，鍍膜功率5Kw，鍍膜時(shí)間3秒。得到膜厚35～50nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
實(shí)施例6將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，噴涂一層真空濺鍍專(zhuān)用UV底漆2，控制漆層厚度5～20μm，然后在紫外光照下固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為N2流量50Sccm，Ar流量140Sccm，鍍膜功率3Kw，鍍膜時(shí)間3秒。得到膜厚35～50nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
實(shí)施例7將PC塑膠件1通過(guò)超聲波清洗對(duì)表面進(jìn)行清潔整理之后，采用浸鍍的方式在其表面鍍覆一層厚度5～20μm的底涂層2，然后經(jīng)紫外光照固化；以鋯金屬為靶材進(jìn)行真空濺鍍，濺鍍工藝條件為N2流量50Sccm，Ar流量140Sccm，鍍膜功率2Kw，鍍膜時(shí)間3秒。得到膜厚15～30nm的氮化鋯鍍層3，鍍層具金屬色澤并具有半鏡面質(zhì)感，經(jīng)測(cè)定其電阻值為無(wú)窮大。
權(quán)利要求
1.一種塑膠件表面真空鍍膜工藝，通過(guò)該工藝可以在塑膠件表面鍍覆一層具有半鏡面光澤質(zhì)感效果的絕緣膜，其特征在于，包含以下工藝步驟1)取塑膠件對(duì)其表面進(jìn)行超聲波清洗；2)在該塑膠件表面施加一層厚度為5～20μm的底面涂層，并經(jīng)紫外光固化；3)以鋯金屬為靶材對(duì)塑膠件進(jìn)行真空濺鍍，得到厚度為10～70nm的反應(yīng)性濺鍍氮化鋯薄膜；其中的濺鍍工藝條件為氬氣流量140Sccm，鍍膜功率2～9Kw，鍍膜時(shí)間3～5秒，氮?dú)饬髁看笥诘扔?0Sccm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的塑膠件表面真空鍍膜工藝，其特征在于，其中所述的塑膠件是高透光的PC或PMMA。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的塑膠件表面真空鍍膜工藝，其特征在于，其中所述的在塑膠件表面施加底面涂層的方式是噴涂或浸鍍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的塑膠件表面真空鍍膜工藝，其特征在于，其中所述的真空濺鍍工藝條件為氬氣流量140Sccm，鍍膜功率9Kw，鍍膜時(shí)間5秒，氮?dú)饬髁看笥诘扔?5Sccm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的塑膠件表面真空鍍膜工藝，其特征在于，其中所述的真空濺鍍工藝條件為氬氣流量140Sccm，氮?dú)饬髁?0Sccm，鍍膜時(shí)間3秒，鍍膜功率2～5Kw。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種塑膠件表面真空鍍膜工藝，其工藝步驟為將待鍍塑膠件表面進(jìn)行超聲波清洗，然后在塑膠件表面施加一層厚度為5～20μm的底面涂層，再經(jīng)紫外光固化，最后以鋯金屬為靶材在氬氣流量140Sccm、鍍膜功率2～9Kw、鍍膜時(shí)間3～5秒、氮?dú)饬髁看笥诘扔?0Sccm的條件下進(jìn)行真空濺鍍，得到厚度為10～70nm的反應(yīng)性濺鍍氮化鋯薄膜。通過(guò)本發(fā)明的工藝在塑膠件表面鍍覆的膜層具有半鏡面光澤質(zhì)感并具有良好的絕緣效果。
文檔編號(hào)C23C14/12GK1986869SQ20051012098
公開(kāi)日2007年6月27日 申請(qǐng)日期2005年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月22日
發(fā)明者林壯坤 申請(qǐng)人:佛山市順德區(qū)漢達(dá)精密電子科技有限公司