專利名稱：用于對準(zhǔn)基板和罩板的裝置以及使用該裝置的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板和罩板，更具體地說，涉及一種用于對準(zhǔn)基板和罩板的裝置以及使用該裝置的方法。
背景技術(shù)：
作為一種類型的平板顯示器，電致發(fā)光顯示器可以根據(jù)發(fā)射層所使用的材料分為無機(jī)電致發(fā)光顯示器或有機(jī)電致發(fā)光顯示器。由于有機(jī)電致發(fā)光顯示器能用低電壓驅(qū)動、輕薄、視角寬以及響應(yīng)快速，因此逐漸引起人們的關(guān)注。
常規(guī)有機(jī)電致發(fā)光顯示器包括帶有堆疊在基板上的陽極、有機(jī)材料層和陰極的有機(jī)電致發(fā)光裝置。有機(jī)材料層包括通過空穴與電子的復(fù)合而發(fā)射可見光的有機(jī)發(fā)射層。此外，為了將空穴和電子傳輸至該發(fā)射層以及提高發(fā)射效率，可以在陰極和有機(jī)發(fā)射層之間插入電子注入層和電子傳輸層，并且可以在陽極和有機(jī)發(fā)射層之間插入空穴注入層和空穴傳輸層。
具有該結(jié)構(gòu)的有機(jī)電致發(fā)光裝置可以通過諸如真空沉積法、離子電鍍法或電鍍等物理氣相沉積法制成，或者可以通過使用氣體反應(yīng)的化學(xué)氣相沉積法制成。真空沉積法已經(jīng)被廣泛用于通過在真空中汽化有機(jī)材料而使有機(jī)氣體材料沉積在基板上。這種真空沉積法采用噴射單元將在真空室中汽化的有機(jī)氣體材料噴射到基板上。從而可以形成有機(jī)電致發(fā)光裝置的有機(jī)材料層。
近來，為了制造大尺寸顯示器，基板的尺寸也被擴(kuò)大了。因此，沉積系統(tǒng)也被開發(fā)出來，以在更大的基板上沉積有機(jī)材料層，其中噴射單元在真空室中垂直移動并噴射有機(jī)氣體材料。
這種沉積系統(tǒng)包括用于使噴射單元垂直移動的驅(qū)動軸，并且該驅(qū)動軸通過驅(qū)動裝置繞一根軸轉(zhuǎn)動。隨著驅(qū)動軸繞該軸轉(zhuǎn)動，噴射單元垂直移動并噴射通過汽化有機(jī)材料而獲得的有機(jī)氣體材料。
此外，為了防止在噴射有機(jī)氣體材料期間大基板下陷，可以使用一種使基板與處于固定狀態(tài)的罩板對準(zhǔn)的垂直對準(zhǔn)系統(tǒng)。
因此，需要一種用于使該應(yīng)用于垂直對準(zhǔn)系統(tǒng)的噴射單元精確移動的裝置以及使用該裝置的對準(zhǔn)方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種用于通過移動應(yīng)用于垂直對準(zhǔn)系統(tǒng)的噴射單元而對準(zhǔn)基板和罩板的裝置以及使用該裝置的對準(zhǔn)方法。
本發(fā)明的其它特征將在以下描述中進(jìn)行說明，且其中的部分特征可從這些描述中清楚地看到，或者通過實施本發(fā)明來獲悉。
本發(fā)明公開一種用于對準(zhǔn)基板和罩板的裝置，包括位于基板的未使用部分中的第一對準(zhǔn)標(biāo)記；位于罩板的未使用部分中的第二對準(zhǔn)標(biāo)記；傳感單元，用以在通過驅(qū)動單元和臺架對準(zhǔn)基板和罩板時測量第一對準(zhǔn)標(biāo)記相對于第二對準(zhǔn)標(biāo)記的位置；以及控制單元，用于根據(jù)由傳感單元測量和確定的數(shù)據(jù)，控制執(zhí)行隨后的過程并重復(fù)進(jìn)行對準(zhǔn)過程。
本發(fā)明公開一種用于對準(zhǔn)罩板和用于發(fā)射裝置的基板的方法，包括將帶有第一對準(zhǔn)標(biāo)記的基板附著到帶有第二對準(zhǔn)標(biāo)記的罩板；將第二對準(zhǔn)標(biāo)記近似對準(zhǔn)在第一對準(zhǔn)標(biāo)記上；測量第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記之間的對準(zhǔn)誤差；在對準(zhǔn)誤差根據(jù)預(yù)定的標(biāo)準(zhǔn)不可接受的情況下，將基板從罩板移開并調(diào)整基板和罩板的相對位置，以減小該對準(zhǔn)誤差。
可以理解，上面的概要描述和下面的詳細(xì)描述都是示例性和解釋性的，目的在于進(jìn)一步解釋權(quán)利要求所保護(hù)的本發(fā)明。


以下所包括的附圖用于進(jìn)一步幫助理解本發(fā)明，它們被并入到說明書中作為該說明書的一部分，這些附圖和描述一起用于說明本發(fā)明的實施例，并用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1表示根據(jù)本發(fā)明實施例的用以對準(zhǔn)罩板和用于發(fā)射裝置的基板的對準(zhǔn)裝置。
圖2A和圖2B表示根據(jù)本發(fā)明實施例的基板和底盤的正視圖。
圖2C表示圖2A和圖2B所示的基板和底盤之間的對準(zhǔn)標(biāo)記的放大圖。
圖3表示根據(jù)本發(fā)明實施例的對準(zhǔn)裝置的框圖。
圖4表示根據(jù)本發(fā)明實施例的通過對準(zhǔn)裝置對準(zhǔn)基板和罩板的流程圖。
具體實施例方式
在下文中將參照表示本發(fā)明示例性實施例的附圖更全面地描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明可能表現(xiàn)為多種不同的形式，且不應(yīng)被解釋為局限于這里描述的實施例。而應(yīng)理解為，提供這些實施例是為了充分公開，并向本領(lǐng)域的技術(shù)人員全面?zhèn)鬟_(dá)本發(fā)明的范圍。在附圖中，為了清楚起見，將層和區(qū)域的尺寸及與其相關(guān)的尺寸進(jìn)行了放大。
圖1表示根據(jù)本發(fā)明實施例的用以對準(zhǔn)罩板和用于發(fā)射裝置的基板的對準(zhǔn)裝置。圖2A和圖2B表示根據(jù)本發(fā)明實施例的基板和底盤的正視圖。圖2C表示圖2A和圖2B所示的基板和底盤之間的對準(zhǔn)標(biāo)記的放大圖。圖3表示根據(jù)本發(fā)明實施例的對準(zhǔn)裝置的框圖。
根據(jù)本發(fā)明實施例的用于對準(zhǔn)罩板和用于發(fā)射裝置的基板的對準(zhǔn)裝置100包括對準(zhǔn)標(biāo)記110，該對準(zhǔn)標(biāo)記110包括標(biāo)在基板102的未使用部分102a中的基板標(biāo)記112和標(biāo)在處于直立狀態(tài)的罩板104的未使用部分104a中的罩板標(biāo)記114；傳感單元130，用以當(dāng)基板102由支架106支撐并通過驅(qū)動單元108與罩板104對準(zhǔn)時，拍攝基板102的對準(zhǔn)標(biāo)記112和罩板104的對準(zhǔn)標(biāo)記114是否彼此重疊；以及控制單元140，用以根據(jù)測量的數(shù)據(jù)確定基板標(biāo)記112和罩板標(biāo)記114是否精確對準(zhǔn)，以及用以控制驅(qū)動單元108和臺架109，從而細(xì)致地調(diào)整基板102。
如圖1所示，傳感單元130包括照相機(jī)132，該照相機(jī)132用以拍攝標(biāo)在基板102和罩板104上并且在基板102附著到罩板104時彼此對準(zhǔn)的基板標(biāo)記112和罩板標(biāo)記114。
如圖2A、圖2B和圖2C所示，對準(zhǔn)標(biāo)記110標(biāo)在基板102和罩板104的邊緣上。如圖所示，對準(zhǔn)標(biāo)記110包括直徑約為0.3mm且被用作對準(zhǔn)點的基板標(biāo)記112，以及直徑約為1mm且被用作參照點的罩板標(biāo)記114。這樣，基板102和罩板104間的對準(zhǔn)誤差就可以通過計算基板標(biāo)記112相對于罩板標(biāo)記114的位置來獲得。例如，當(dāng)罩板標(biāo)記114的中心與基板標(biāo)記112的中心對準(zhǔn)時，對準(zhǔn)誤差為“0”。此處，為了方便起見，將對準(zhǔn)點和參照點分別限定為基板標(biāo)記和罩板標(biāo)記。
無論驅(qū)動單元108和臺架109移動與否，照相機(jī)132都被固定住，并且被定位在與對準(zhǔn)標(biāo)記110對應(yīng)且在基板102和罩板104的拍攝范圍之內(nèi)。
驅(qū)動單元108驅(qū)動基板102前后移動，并在垂直和水平方向上細(xì)致地調(diào)整臺架109。
控制單元140包括讀出器142，該讀出器142處理接收自照相機(jī)132的圖像數(shù)據(jù)并確定基板102和罩板104間的對準(zhǔn)誤差是否可以接受?？刂茊卧?40進(jìn)一步包括控制器144，該控制器144根據(jù)所確定的對準(zhǔn)誤差控制驅(qū)動單元108和臺架109進(jìn)行操作。
當(dāng)讀出器142確定基板102和罩板104間的對準(zhǔn)誤差不可接受時，控制器144控制驅(qū)動單元108將基板102從罩板104移除，并控制臺架109調(diào)整對準(zhǔn)誤差，從而將基板102重新定位到校正的位置。然后，控制器144控制驅(qū)動單元108在該校正的位置上對準(zhǔn)基板102和罩板104。
在校正的位置上對準(zhǔn)基板102和罩板104之后，照相機(jī)132再次拍攝對準(zhǔn)標(biāo)記110，并且讀出器142也再次確定對準(zhǔn)誤差。如果對準(zhǔn)誤差還是不可接受，則控制器144控制驅(qū)動單元108和臺架109矯正得到新的對準(zhǔn)誤差，并對準(zhǔn)基板102和罩板104。
相反，當(dāng)讀出器142確定基板102和罩板104間的對準(zhǔn)誤差可以接受時，則完成該對準(zhǔn)過程，并且可以在基板102與罩板104對準(zhǔn)的期間執(zhí)行預(yù)定的過程。
下面將參照圖4描述根據(jù)本發(fā)明實施例的使用該對準(zhǔn)裝置對準(zhǔn)基板和罩板的方法。
參見圖4，在操作S1，基板102移動靠近罩板104，至例如約3μm的距離。在操作S2，將基板102附著到罩板104，并測量基板102和罩板104間的對準(zhǔn)標(biāo)記110的對準(zhǔn)誤差。當(dāng)在操作S2中對準(zhǔn)誤差不可接受時，則在操作S3校正該對準(zhǔn)誤差，其中將基板102從罩板104移開，然后操作返回至操作S1，其中基板102移動靠近罩板104，至例如約3μm的距離，再矯正先前測量的對準(zhǔn)誤差的位置。相反，當(dāng)在操作S2中對準(zhǔn)誤差可以接受時，則在操作S4完成基板102和罩板104之間的對準(zhǔn)。
在對準(zhǔn)完成之后，可以在基板102與罩板104對準(zhǔn)的期間，執(zhí)行預(yù)定的過程。
下面，將更詳細(xì)地描述上述操作。
對準(zhǔn)裝置100的驅(qū)動單元108將基板102驅(qū)動至靠近罩板104的位置，接著臺架109調(diào)整基板102，使其與罩板104對準(zhǔn)。
當(dāng)基板102和罩板104彼此對準(zhǔn)時，罩板標(biāo)記114和基板標(biāo)記112就會近似對齊。然后，照相機(jī)132對罩板標(biāo)記114和基板標(biāo)記112進(jìn)行拍攝，并且讀出器142確定基板102和罩板104之間的對準(zhǔn)誤差。
當(dāng)讀出器142根據(jù)預(yù)定的標(biāo)準(zhǔn)確定對準(zhǔn)誤差不可接受時，驅(qū)動單元108驅(qū)動基板102驅(qū)動從罩板104移開，然后臺架109校正該對準(zhǔn)誤差，從而將基板調(diào)換到校正的位置。
這樣，基板102在其從罩板104移開時被調(diào)整。然后驅(qū)動單元驅(qū)動基板102靠近罩板104，至大約3μm的距離。
另一方面，當(dāng)根據(jù)先前測量數(shù)據(jù)的對準(zhǔn)誤差以及校正可以接受時，基板102和罩板104之間的對準(zhǔn)就完成了。隨后，在基板102與罩板104對準(zhǔn)時，就可以將預(yù)定的過程施加到基板102上。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，通過測量基板和罩板間的對準(zhǔn)誤差來確定該對準(zhǔn)誤差根據(jù)預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)是否可以接受。當(dāng)該對準(zhǔn)誤差不可接受時，將會重復(fù)進(jìn)行對準(zhǔn)基板和罩板的操作，直至該對準(zhǔn)誤差可以接受為止。這樣，基板就能夠與罩板精確對準(zhǔn)，從而顯著減少由于不可接受的誤差所導(dǎo)致的缺陷。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)能理解，只要不背離本發(fā)明的精神或范圍，可對本發(fā)明進(jìn)行各種修改或變化。因此，本發(fā)明意于覆蓋所附權(quán)利要求及其等同替換范圍之內(nèi)的對本發(fā)明的修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種用于對準(zhǔn)基板和罩板的裝置，包括驅(qū)動單元；臺架；傳感單元，用以在通過驅(qū)動單元和臺架對準(zhǔn)基板和罩板時測量第一對準(zhǔn)標(biāo)記相對于第二對準(zhǔn)標(biāo)記的位置；控制單元，用以根據(jù)由傳感單元測量和確定的數(shù)據(jù)重復(fù)進(jìn)行對準(zhǔn)過程，其中第一對準(zhǔn)標(biāo)記位于基板的未使用部分中，第二對準(zhǔn)標(biāo)記位于罩板的未使用部分中。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中當(dāng)基板與罩板對準(zhǔn)時，第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記同心對準(zhǔn)。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中傳感單元包括用以拍攝第一對準(zhǔn)標(biāo)記相對于第二對準(zhǔn)標(biāo)記的位置的照相機(jī)。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述照相機(jī)位于對應(yīng)于第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記的位置，并在二者的拍攝范圍之內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述控制單元包括；讀出器，用以處理接收自傳感單元的圖像數(shù)據(jù)并確定基板和罩板間的對準(zhǔn)誤差是否可以接受；以及控制器，用以根據(jù)讀出器所確定的結(jié)果控制驅(qū)動單元和臺架操作。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其中在讀出器確定對準(zhǔn)誤差不可接受時，控制單元控制驅(qū)動單元和臺架將基板從罩板移開，并校正該對準(zhǔn)誤差。
7.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述控制單元包括讀出器，用以處理接收自傳感單元的圖像數(shù)據(jù)并確定基板和罩板間的對準(zhǔn)誤差是否可以接受；以及控制器，用以根據(jù)讀出器所確定的結(jié)果控制驅(qū)動單元和臺架操作。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其中在讀出器確定對準(zhǔn)誤差不可接受時，控制單元控制驅(qū)動單元和臺架將基板從罩板移開，并校正該對準(zhǔn)誤差。
9.一種用于對準(zhǔn)罩板和用于發(fā)射裝置的基板的方法，包括將帶有第一對準(zhǔn)標(biāo)記的基板鄰近帶有第二對準(zhǔn)標(biāo)記的罩板放置；近似對準(zhǔn)第二對準(zhǔn)標(biāo)記與第一對準(zhǔn)標(biāo)記；測量第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記間的對準(zhǔn)誤差；以及在對準(zhǔn)誤差不可接受的情況下，將基板從罩板分離并調(diào)整基板和罩板的相對位置，以減小該對準(zhǔn)誤差。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中所述調(diào)整包括移動基板以與罩板對準(zhǔn)。
11.如權(quán)利要求9所述的方法，其中所述調(diào)整包括移動罩板以與基板對準(zhǔn)。
全文摘要
一種用于對準(zhǔn)基板和罩板的裝置以及使用該裝置的方法，其中該裝置包括在基板和罩板的未使用部分中的對準(zhǔn)標(biāo)記，用于在基板與罩板對準(zhǔn)時確定對準(zhǔn)標(biāo)記重疊的傳感單元，以及用于根據(jù)由傳感單元所測量和確定的數(shù)據(jù)而控制對準(zhǔn)過程重復(fù)進(jìn)行的控制單元。傳感單元可以包括位于拍攝范圍之內(nèi)以確定對準(zhǔn)標(biāo)記的任何對準(zhǔn)誤差的照相機(jī)。根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，測量基板和罩板間的對準(zhǔn)誤差來確定該對準(zhǔn)誤差是否可以接受。當(dāng)該對準(zhǔn)誤差不可接受時，重復(fù)進(jìn)行對準(zhǔn)基板和罩板的操作，直至對準(zhǔn)誤差可以接受為止。
文檔編號C23C14/56GK1800435SQ200610000430
公開日2006年7月12日 申請日期2006年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月5日
發(fā)明者鄭星和, 韓尚辰, 姜有珍 申請人:三星Sdi株式會社