專利名稱：攪拌設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于處理自由流動的磨料的攪拌設(shè)備，該攪拌設(shè)備包括研磨容器，該研磨容器通過內(nèi)壁限定基本封閉的研磨室以及可被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動地設(shè)置在該設(shè)備內(nèi)并且相對于公用的縱向中心軸線為杯形的攪拌器，該攪拌器具有環(huán)形的柱狀轉(zhuǎn)子和內(nèi)部定子，該轉(zhuǎn)子具有閉合的壁，該定子設(shè)置在該轉(zhuǎn)子內(nèi)并固定地接合在研磨容器上。
背景技術(shù)：
在從EP 0824964 B1(對應(yīng)于美國專利5950943)已知的一般類型的攪拌設(shè)備內(nèi)，內(nèi)研磨室和外研磨室都具有光滑而無中斷的壁，并且都沒有攪拌件。外研磨室的間隙寬度—即徑向延伸—明顯超過內(nèi)研磨室的間隙寬度。這意味著，自由流動的漿狀磨料主要是通過剪切效應(yīng)而被研磨和分散的，從而磨料的應(yīng)變的局部強度在整個研磨路徑上是基本恒定的。外研磨室和內(nèi)研磨室的柱狀邊界壁設(shè)計成光滑壁就產(chǎn)生了一種流，在該流中輔助研磨體分層地彼此相對地移動。剪切梯度以及應(yīng)變的局部強度在外研磨室和內(nèi)研磨室內(nèi)在相應(yīng)研磨室高度上是恒定的。通過使內(nèi)研磨室的間隙寬度小于外研磨室的間隙寬度，可使外研磨室和內(nèi)研磨室內(nèi)的剪切梯度相等，那么該剪切梯度實際上在整個研磨室中是恒定的。這樣產(chǎn)生的問題是在高的輔助研磨體填充系數(shù)的情況下攪拌設(shè)備難以起動。由于起動問題，所以減少輔助研磨體填充物以使攪拌設(shè)備動作，這會導(dǎo)致磨料顆粒大小的不利的粗糙分布。由于減少輔助研磨體會減少通過輔助研磨體返回通道返回的輔助研磨體的量，所以出現(xiàn)所謂的磨料噴射穿過的危險會增加，所述的磨料噴射穿過就是提供給磨料供給室以便磨碎或分散的磨料通過輔助研磨體返回通道朝分離裝置短接。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是實現(xiàn)一種通用類型的攪拌設(shè)備，該攪拌設(shè)備容易起動并且可實現(xiàn)磨料顆粒大小的良好分布。
根據(jù)本發(fā)明的用于處理自由流動的磨料的攪拌設(shè)備包括研磨容器，該研磨容器通過內(nèi)壁限定基本封閉的研磨室；以及可被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動地設(shè)置在該設(shè)備內(nèi)并且相對于公共的縱向中心軸線為杯形的攪拌器，該攪拌器具有環(huán)形的柱狀轉(zhuǎn)子和內(nèi)部定子，該轉(zhuǎn)子具有閉合的壁，該定子設(shè)置在該轉(zhuǎn)子內(nèi)并固定地接合在研磨容器上；其中，在研磨容器的內(nèi)壁和轉(zhuǎn)子的外壁之間形成有形式為環(huán)形間隙的環(huán)形柱狀外研磨室，該外研磨室具有徑向間隙寬度g；在轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁和內(nèi)部定子的外殼之間形成有形式為環(huán)形間隙的環(huán)形柱狀內(nèi)研磨室，該內(nèi)研磨室與外研磨室同軸、經(jīng)由轉(zhuǎn)向室連接到該外研磨室并且具有徑向間隙寬度h；該外研磨室、轉(zhuǎn)向室和內(nèi)研磨室構(gòu)成該研磨室，該研磨室部分地填充有輔助研磨體；在研磨容器的同一側(cè)設(shè)置有磨料供給區(qū)域和分離裝置以使磨料通過，該磨料供給區(qū)域在磨料的流動方向上設(shè)置于外研磨室的上游并通入該外研磨室，該分離裝置在磨料的流動方向上設(shè)置于內(nèi)研磨室的下游；在攪拌器內(nèi)設(shè)置有輔助研磨體返回通道以使輔助研磨體從分離裝置區(qū)域返回到磨料供給區(qū)域，該返回通道使內(nèi)研磨室的端部連接到外研磨室的起始端；研磨容器的內(nèi)壁以及轉(zhuǎn)子的外壁和內(nèi)壁是無中斷的；研磨容器的內(nèi)壁和轉(zhuǎn)子的外壁光滑且沒有攪拌工具，通過使攪拌設(shè)備的外研磨室的徑向間隙寬度g與內(nèi)研磨室的徑向間隙寬度h的關(guān)系滿足g＜h來實現(xiàn)該目的。根據(jù)本發(fā)明的措施有助于確保在關(guān)閉攪拌設(shè)備時，向下沉積的輔助研磨體不會與尤其是內(nèi)研磨室中的相鄰壁粘在一起。因此，當(dāng)攪拌設(shè)備起動時，輔助研磨體容易移動。根據(jù)本發(fā)明的措施還確保輔助研磨體不積聚在內(nèi)研磨室前面的外研磨室內(nèi)，這是因為內(nèi)研磨室的間隙寬度大于外研磨室的間隙寬度。在外研磨室內(nèi)通過剪切進行研磨。由于輔助研磨體趨向于避開所增加的剪切動作，所以它們通過朝內(nèi)研磨室張大的轉(zhuǎn)向室流入內(nèi)研磨室。由于上述效果，攪拌設(shè)備可在高的輔助研磨體添加比率下運轉(zhuǎn)，即不需要減少輔助研磨體的填充量。這樣可進行特別強化的研磨，同時由于足夠量的輔助研磨體通過輔助研磨體返回通道返回，所以可消除磨料的噴射流。
本發(fā)明旨在獲得的效果可通過使外研磨室的橫截面面積Fa與所述內(nèi)研磨室的橫截面面積Fb的關(guān)系滿足Fa≤Fb并優(yōu)選1.2Fa≤Fb≤7Fa來實現(xiàn)。更有利的是，使外研磨室的間隙寬度g與研磨室中最大的輔助研磨體的直徑i的關(guān)系滿足g≥3i，其中，輔助研磨體的直徑i為i≤3.0mm，優(yōu)選地i≤1.5mm；外研磨室的間隙寬度g為g≤9.0mm，優(yōu)選地g≤5.0mm。
通過突起來使內(nèi)研磨室中的磨料變松并從而促進磨料和輔助研磨體的混合物的流動，所述突起至少設(shè)置在內(nèi)部定子的外殼上并突出進入內(nèi)研磨室，所述突起是工具，尤其是形式為釘狀件的工具。連接在內(nèi)部定子上的突起或工具使得輔助研磨體完全形成渦旋，從而加強磨料上的應(yīng)變。這種加強的渦旋效果還能防止出現(xiàn)任何形成在研磨室邊界壁上的靜止邊界層，從而改善對磨料的冷卻。
將所述突起螺旋地設(shè)置在所述內(nèi)部定子上以及使轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁光滑且沒有攪拌工具可防止輔助研磨體沉積在轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁上；由于工具螺旋狀地設(shè)置在內(nèi)部轉(zhuǎn)子的外殼上，所以可完全擦拭轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁并從而沒有沉積物。
在內(nèi)研磨室之后連接朝向分離裝置的形狀為截頭圓錐的排放通道可確保在內(nèi)研磨室上實現(xiàn)一定的積聚效果，從而增加分散和研磨強度。此效果可尤其通過利用內(nèi)部定子的與分離裝置相鄰的面和壩攔(阻擋，堆積)裝置限定所述排放通道來實現(xiàn)。通過這種壩攔裝置可在上端部內(nèi)增加輔助研磨體的濃度，這尤其增強了研磨或分散效果，并從而使磨料顆粒的大小分布非常接近?？蓪⒃搲螖r裝置形成為攪拌器的獨立構(gòu)成部件，這種分離地結(jié)合的壩攔裝置適合于任何具體應(yīng)用。排放通道的間隙寬度可在朝向分離裝置的方向上是恒定的，或者可朝向該分離裝置增大。
基本上，當(dāng)內(nèi)部定子在排放通道的附近具有磨損保護部時尤其有利；如果排放通道的間隙寬度沒有朝向分離裝置—即沿徑向向內(nèi)—增加，并且因此如果磨料流的橫截面減小同時磨料/輔助研磨體的流加速，則是特別有利的。
將輔助研磨體返回通道形成在獨立的輔助研磨體返回模塊內(nèi)以及使輔助研磨體返回通道開口朝向該返回模塊的前部，可使輔助研磨體返回通道的大小適合以簡單方式研磨和分散的目的。在輔助研磨體返回模塊內(nèi)設(shè)置這些返回通道使得這些通道可沿橫向結(jié)合進該模塊，這在實現(xiàn)方面尤其簡單。此設(shè)計還確保能通過簡單的制造步驟使輔助研磨體返回通道具有任何預(yù)期的輪廓。這種簡單的制造還確保輔助研磨體返回通道的流橫截面在從內(nèi)向外的路線上最優(yōu)；輔助研磨體返回通道具有寬度為c的進口和寬度為d的出口，該進口的寬度c和該出口的寬度d的關(guān)系為d＞c優(yōu)選d≥1.5c。由于輔助研磨體返回通道的高度在縱向中心軸線的方向上較小，所以可減小出現(xiàn)輔助研磨體噴射的危險而又不會影響輔助研磨體與磨料的非常好的分離。在此方面，最佳邊界條件為輔助研磨體返回通道的沿縱向中心軸線的方向的高度e與分離裝置的沿縱向中心軸線的高度f的關(guān)系滿足e≤f，優(yōu)選地e＜0.5f?？赏ㄟ^在分離裝置附近在輔助研磨體返回模塊上設(shè)置無中斷地連續(xù)進入輔助研磨體返回通道的擦拭件，以及使所述擦拭件沿輔助研磨體的分離裝置的高度f延伸來進一步提高這些最優(yōu)條件。
當(dāng)然，也可在其中外研磨室的徑向間隙寬度g與內(nèi)研磨室的徑向間隙寬度h的關(guān)系不是g＜h的一般類型的攪拌設(shè)備中有利地將轉(zhuǎn)子設(shè)計成光滑且不帶攪拌工具。


從下面結(jié)合附圖對示例性實施例的說明中可清楚地看到本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點，在附圖中圖1是攪拌設(shè)備的示意性側(cè)視圖；圖2是攪拌設(shè)備的研磨容器第一實施例的縱向剖視圖；圖3是研磨容器沿圖2中的線III-III的橫截面圖；圖4是攪拌設(shè)備的內(nèi)部定子的縱向側(cè)視圖；
圖5是根據(jù)圖2到4的攪拌設(shè)備中的輔助研磨體返回模塊的透視圖；圖6是攪拌設(shè)備的研磨容器第二實施例的縱向剖視圖；圖7是根據(jù)圖6的攪拌設(shè)備中的輔助研磨體返回模塊的透視圖；圖8是攪拌設(shè)備的研磨容器第三實施例的縱向剖視圖；圖9是攪拌設(shè)備的研磨容器第四實施例的縱向剖視圖；圖10是攪拌設(shè)備的研磨容器第五實施例的縱向剖視圖；圖11是攪拌設(shè)備的研磨容器第六實施例的縱向剖視圖；圖12是圖11的攪拌設(shè)備中的輔助研磨體返回模塊的側(cè)視圖；以及圖13是根據(jù)圖12的輔助研磨體返回模塊的仰視圖。
具體實施例方式
圖1中可見的攪拌設(shè)備通常包括臺架1，該臺架上附裝有柱狀研磨容器2。在臺架1內(nèi)容納有電驅(qū)動馬達3，該驅(qū)動馬達配備有V帶帶輪4，通過該V帶帶輪4旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動與軸6相對旋轉(zhuǎn)地固定的V帶帶輪7。
如圖2和3中具體示出的，研磨容器2包括柱狀內(nèi)壁9，該內(nèi)壁包圍研磨室8并被基本為柱形的外殼10包圍。內(nèi)壁9和外殼10在彼此之間限定了冷卻室11。研磨室8的底部由圓形底板12封閉，該底板通過螺桿13緊固在研磨容器2上。
研磨容器2具有上部環(huán)形凸緣14，該研磨容器通過該凸緣14由螺桿16固定在支承殼體15的下側(cè)，該支承殼體安裝在攪拌設(shè)備的臺架1上。研磨室8由蓋17封閉。支承殼體15具有與研磨容器2的縱向中心軸線19同軸的中心承載及密封殼體18。軸6穿過該承載及密封殼體18，該軸6也與軸線19同軸地延伸，并且該軸上設(shè)置有攪拌器20。磨料供給管線21通到該承載及密封殼體18的與研磨室8相鄰的區(qū)域。
在圓形底板12上固定有近似為杯形的柱狀內(nèi)部定子22，該定子突出進入研磨室8；該定子包括與軸線19同軸并且限定研磨室8的柱狀外殼23以及與軸線19同軸的柱狀內(nèi)殼24。在所述內(nèi)外殼之間限定了冷卻室25。冷卻室25與底板12中的冷卻室26相連，冷卻水經(jīng)由冷卻水供給連接器27供應(yīng)到冷卻室26并經(jīng)由冷卻水排放連接器28排出。冷卻水經(jīng)由冷卻水供給連接器29供應(yīng)到研磨容器2的冷卻室11，并經(jīng)由冷卻水排放連接器30排出。
在內(nèi)部定子22的位于研磨室8之上的上部環(huán)形面31上設(shè)置有磨料/輔助研磨體分離裝置32，該分離裝置與磨料排出管線33相連。在分離裝置32和排出管線33之間設(shè)置有磨料收集漏斗34。在底板12附近，排出管線33具有柄35，該柄通過螺桿36可拆卸地接合到底板12以及固定在該底板12上的內(nèi)部定子22上。分離裝置32相對于內(nèi)部定子22的環(huán)形面31由密封件37密封，并且在已經(jīng)松開螺桿36后，該分離裝置32可與排出管線33和收集漏斗24一起被朝下推出內(nèi)部定子22?？稍诓槐貜难心ナ?去除該研磨室8內(nèi)的輔助研磨體38的情況下將分離裝置32從該研磨室8除去，這是因為在未驅(qū)動攪拌器20時，研磨室8內(nèi)填充的這些輔助研磨體38的高度未延伸到表面31。
攪拌器20的基本結(jié)構(gòu)是杯形的，即該攪拌器具有基本為圓形的柱狀轉(zhuǎn)子39。轉(zhuǎn)子39具有柱狀外壁40和柱狀內(nèi)壁41，該內(nèi)壁與該外壁同軸并與軸線19同軸。外壁40和內(nèi)壁41光滑且形成閉合面，并因此沒有任何中斷。在轉(zhuǎn)子39的外壁40和內(nèi)壁41之間形成有冷卻室42。
攪拌器20的頂端具有蓋式封閉件43、固定在該封閉件的朝向轉(zhuǎn)子39的下側(cè)部的封閉板44。封閉件43和封閉板44安裝在軸6上。
在轉(zhuǎn)子39和攪拌器20的封閉板44之間設(shè)置有輔助研磨體返回模塊45。轉(zhuǎn)子39、返回模塊45和封閉板44通過拉桿46可分離地合成一體。通過形成在軸6和返回模塊45內(nèi)的冷卻水管道47、48對冷卻室42進行冷卻水的供應(yīng)和排放。
通過將研磨容器2的內(nèi)壁9設(shè)計成不帶任何工具的光滑壁并將轉(zhuǎn)子39的外壁40設(shè)計成同樣的光滑壁而形成了外研磨室8a。轉(zhuǎn)子39的同樣不帶工具的光滑內(nèi)壁41以及內(nèi)部定子22的外殼23的光滑壁限定了內(nèi)研磨室8b。安裝在內(nèi)部定子22的外殼23上的形式為釘型工具的突起49延伸到內(nèi)研磨室8b內(nèi)；如圖4具體地示出的，所述突起沿外殼23的圓周和長度螺旋地設(shè)置。如圖4具體地示出的，在內(nèi)部定子22的周向方向上相鄰的工具49沿縱向中心軸線19的方向相互重疊，從而當(dāng)轉(zhuǎn)子39旋轉(zhuǎn)時，該轉(zhuǎn)子39的內(nèi)壁41完全被工具49擦拭。
如上文可見，研磨室8分成柱狀外研磨室8a和柱狀內(nèi)研磨室8b，這些室在底板12附近通過從外部向內(nèi)穩(wěn)定地張大的轉(zhuǎn)向室50互連。
從圖2和4可見，柱狀分離裝置32包括一堆環(huán)形的盤狀件51，在各盤狀件之間留有分離間隙52，該間隙的寬度小于所使用的最小輔助研磨體38的直徑；當(dāng)然，該寬度也可大于該直徑，在到達分離裝置32之前對輔助研磨體38進行分離。環(huán)形盤狀件51的堆疊在正面—即朝向封閉板44的一側(cè)—被封閉板53封閉。分離裝置32設(shè)置在返回模塊45內(nèi)。
從圖2和5可見，輔助研磨體返回模塊45具有輔助研磨體返回通道54。它們各自的進口55直接鄰接分離裝置32。它們各自的出口56通向形成在返回模塊45和研磨容器2的內(nèi)壁9之間的環(huán)形柱狀磨料供給區(qū)域57。返回通道54在進口55處具有最小寬度c，在出口56處具有最大寬度d，寬度c和d是分別沿周向方向測量的。從進口55朝出口56，返回通道54與攪拌器20的旋轉(zhuǎn)方向58相反地彎曲—即從內(nèi)向外形成凸圓。寬度c和寬度d關(guān)系為d＞c，優(yōu)選地d≥1.5c。
在圖2到5所示的實施例中，返回通道54沿軸線19的方向幾乎在返回模塊45的整個高度上延伸，它們的軸向高度e超過分離裝置32的軸向高度f。在本實施例中，返回通道54除了沿軸線19的方向延伸過分離裝置32之外，還伸過排放通道59，該排放通道從內(nèi)研磨室8b的頂端向上并向內(nèi)傾斜地通向分離裝置32—即沿朝封閉板44的方向成截錐形。在本實施例中，如圖2中可見的，返回通道54還開口朝向排放通道59。因此，排放通道59向上無空間限定。此外，排放通道59沿縱向中心軸線19的方向朝內(nèi)研磨室8b開口，從而漏出輔助研磨體38并使磨料朝向分離裝置32流過排放通道59。
磨料按流動方向60的箭頭流過研磨室8，即從磨料供給管線21流過位于攪拌器20的封閉件43與蓋17之間以及與內(nèi)壁9的相鄰區(qū)域之間的磨料供給室61、通過磨料供給區(qū)域57、向下通過外研磨室8a、沿徑向向內(nèi)通過穩(wěn)定地張大的轉(zhuǎn)向室50、從該轉(zhuǎn)向室通過內(nèi)研磨室8b向上到達排放通道59、并從那里到達分離裝置32。在磨料通過外研磨室8a、轉(zhuǎn)向室50和內(nèi)研磨室8b的途中，磨料被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的攪拌器20和相配合的輔助研磨體38磨碎。磨料經(jīng)由分離裝置32離開內(nèi)研磨室8b，并從該分離裝置通過磨料排放管線33流出。
具體地從圖2可見，外研磨室8a的徑向間隙寬度g明顯小于內(nèi)研磨室8b的徑向間隙寬度h。間隙寬度g和h相互之間的關(guān)系為內(nèi)研磨室8b的橫截面面積Fb大于或等于外研磨室8a的橫截面面積Fa。外研磨室8a以及內(nèi)研磨室8b設(shè)計成研磨間隙。外研磨室8a的間隙寬度g與攪拌設(shè)備內(nèi)的最大的輔助研磨體38的直徑i的關(guān)系為g≥3i，其中i≤3.0mm，優(yōu)選地i≤1.5mm；對于外研磨室8a的間隙寬度gg≤9.0mm，優(yōu)選地g≤5.0mm。
外研磨室8a的橫截面面積Fa與內(nèi)研磨室8b的橫截面面積Fb的關(guān)系為Fa≤Fb，優(yōu)選1.2Fa≤Fb≤7Fa。
圖6和7所示實施例與圖2到5所示實施例的不同之處主要是，除了輔助研磨體返回模塊45’之外，還在封閉板44和轉(zhuǎn)子39之間設(shè)置有壩攔裝置62以作為攪拌器20’的一部分。排出通道59’限定在內(nèi)部定子22的面31和該壩攔裝置62之間，從而作為圖2到5所示實施例的變型，該排出通道59’不僅在下側(cè)被面31限定，而且在頂部被壩攔裝置62限定。與圖2到5的實施例不同，內(nèi)研磨室8b沒有通過其頂端直接排放到返回通道54’，而是由壩攔裝置62強制磨料和輔助研磨體的混合物朝分離裝置32’向上并向內(nèi)傾斜地偏離。在本實施例中，排放通道59’的間隙寬度j是恒定的。
對于與根據(jù)圖2到5的實施例相同的部分，使用相同標(biāo)號。功能相同且結(jié)構(gòu)類似的部分具有相同標(biāo)號但帶有“’”。這也適用于其它實施例，但帶有數(shù)量更多的“’”。返回通道54’的高度e’明顯小于圖2到5所示實施例中的高度e。此外，高度e’明顯小于分離裝置32’的軸向高度f’。這以簡單的方式確保返回通道54’的高度e’可適合于較小的磨料吞吐量，此外還可降低磨料顆粒形成噴射流的危險，尤其在磨料吞吐量很小或者攪拌器10速度較低的情況下。其中e’≤f’，特別地e’≤0.8f’，尤其特別地e’≤0.5f’。
此外，分離裝置32’未延伸超過面31的整個區(qū)域。而且，在面31和分離裝置32’之間設(shè)置有封閉的環(huán)形段以作為磨損保護部63；磨損保護部63和分離裝置32’形成一體。排放通道59’在該磨損保護部63之前或在該磨損保護63處終止，從而從排放通道59’漏出的并轉(zhuǎn)向成平行于軸線19的任何輔助研磨體38都不會撞擊分離裝置32’。
圖8所示實施例與圖6和7所示實施例的不同之處僅為輔助研磨體返回通道54”具有可在低的磨料吞吐量下無故障運行所需的最小高度e”。在這種情況下，輔助研磨體返回模塊45”也通過返回通道54”與壩攔裝置62相接合，在本實施例以及上述兩個實施例中，該返回通道在頂部由封閉板44限定。但是，返回模塊45’和45”的軸向高度k相同。
返回通道54”的最小軸向高度e”為e”≥3i并且至少e”≥4mm。
圖9所示實施例對應(yīng)于圖6所示實施例，不同之處在于圖9的實施例未設(shè)置磨損保護部63，并且排放通道59朝向輔助研磨體分離裝置32張大-即排放通道59的間隙寬度j向內(nèi)增大以使該通道59的總橫截面面積未朝分離裝置32減小，從而磨料和輔助研磨體不會在排放通道59中朝分離裝置32加速。為此，由于輔助研磨體38不撞擊分離裝置32，所以分離裝置32可一直延伸到面31。
圖10所示實施例基本對應(yīng)于圖9所示實施例，只是輔助研磨體返回模塊45””沒有一直通到分離裝置32。輔助研磨體返回通道54””的進口55””與分離裝置32具有明顯的徑向距離。在由此形成的環(huán)形室64內(nèi)設(shè)置有多個擦拭件65，所述擦拭件安裝在封閉板44上并與攪拌器20””一起旋轉(zhuǎn)。
圖11到13所示的實施例包括輔助研磨體返回模塊45””’，該模塊朝向壩攔裝置62并支靠在中間環(huán)66上。模塊45””’朝研磨室8-即朝前部67-向下開口。軸向高度e””’從各進口55””’到出口56””’是恒定的，并且明顯小于分離裝置32’的高度f’。擦拭件65””’直接鄰接返回通道54””’，從而如圖13內(nèi)具體地示出的，從這些擦拭件65””’到返回通道54””’是連續(xù)過渡的。這可產(chǎn)生最佳流動狀態(tài)。從圖11可見，擦拭件65””’沿軸線19的方向基本在分離裝置32’的高度f’上延伸。
權(quán)利要求
1.一種用于處理自由流動的磨料的攪拌設(shè)備，該攪拌設(shè)備包括研磨容器(2)，該研磨容器(2)通過內(nèi)壁(9)限定基本封閉的研磨室(8)；以及可旋轉(zhuǎn)驅(qū)動地設(shè)置在該設(shè)備內(nèi)并且相對于公共的縱向中心軸線(19)為杯形的攪拌器(20)，該攪拌器具有環(huán)形的柱狀轉(zhuǎn)子(39)和內(nèi)部定子(22)，該轉(zhuǎn)子具有閉合的壁(40，41)，該定子設(shè)置在該轉(zhuǎn)子(39)內(nèi)并固定地接合在研磨容器(2)上；其中，在研磨容器(2)的內(nèi)壁(9)和轉(zhuǎn)子(39)的外壁(40)之間形成有形式為環(huán)形間隙的環(huán)形柱狀外研磨室(8a)，該外研磨室(8a)具有徑向間隙寬度g；在轉(zhuǎn)子(39)的內(nèi)壁(41)和內(nèi)部定子(22)的外殼(23)之間形成有形式為環(huán)形間隙的環(huán)形柱狀內(nèi)研磨室(8b)，該內(nèi)研磨室(8b)與外研磨室(8a)同軸地布置在該外研磨室內(nèi)、經(jīng)由轉(zhuǎn)向室(50)連接到該外研磨室并且具有徑向間隙寬度h；該外研磨室(8a)、轉(zhuǎn)向室(50)和內(nèi)研磨室(8b)構(gòu)成該研磨室(8)，該研磨室部分地填充有輔助研磨體(38)；在研磨容器(2)的同一側(cè)設(shè)置有磨料供給區(qū)域(57)和分離裝置(32)以便使磨料通過，該磨料供給區(qū)域(57)在磨料的流動方向(60)上設(shè)置于外研磨室(8a)的上游并通入該外研磨室(8a)，該分離裝置(32)在磨料的流動方向(60)上設(shè)置于內(nèi)研磨室(8b)的下游；在攪拌器(20)內(nèi)設(shè)置有輔助研磨體返回通道(54)以使輔助研磨體(38)從分離裝置(32)區(qū)域返回到磨料供給區(qū)域(57)，該返回通道(54)使內(nèi)研磨室(8b)的端部連接到外研磨室(8a)的起始端；研磨容器(2)的內(nèi)壁(9)以及轉(zhuǎn)子(39)的外壁(40)和內(nèi)壁(41)是無中斷的；研磨容器(2)的內(nèi)壁(9)和轉(zhuǎn)子(39)的外壁(40)光滑且沒有攪拌工具；其中，外研磨室(8a)的徑向間隙寬度g與內(nèi)研磨室(8b)的徑向間隙寬度h的關(guān)系為g＜h。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述外研磨室(8a)的橫截面面積Fa與所述內(nèi)研磨室(8b)的橫截面面積Fb的關(guān)系為Fa≤Fb，優(yōu)選為1.2Fa≤Fb≤7Fa。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述外研磨室(8a)的間隙寬度g與所述研磨室(8)中最大的輔助研磨體(38)的直徑i的關(guān)系為g≥3i；其中，輔助研磨體(38)的直徑i為i≤3.0mm，優(yōu)選地i≤1.5mm；外研磨室(8a)的間隙寬度g為g≤9.0mm，優(yōu)選地g≤5.0mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述內(nèi)部定子(22)的外殼(23)上設(shè)有突出進入內(nèi)研磨室(8b)的突起。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述突起是工具(49)，尤其是形式為釘狀件的工具。
6.根據(jù)權(quán)利要求4的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述突起螺旋形地設(shè)置在所述內(nèi)部定子(22)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述轉(zhuǎn)子(39)的內(nèi)壁(41)是光滑且沒有攪拌工具的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述內(nèi)研磨室(8b)之后連接有朝向所述分離裝置(32)的形狀為截頭圓錐的排放通道(59)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述排放通道(59)由所述內(nèi)部定子(22)的與分離裝置(32)相鄰的面(31)和壩攔裝置(62)限定。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述壩攔裝置(62)是所述攪拌器(20)的獨立構(gòu)成部件。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述排放通道(59)的間隙寬度j朝向所述分離裝置(32)增大。
12.根據(jù)權(quán)利要求8的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述內(nèi)部定子(22)在所述排放通道(59)區(qū)域具有磨損保護部(63)。
13.根據(jù)權(quán)利要求8的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述輔助研磨體返回通道(54)形成在獨立的輔助研磨體返回模塊(45)內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述輔助研磨體返回通道(54)開口朝向該返回模塊(45)的前部(67)。
15.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述輔助研磨體返回通道(54)具有寬度為c的進口(55)和寬度為d的出口(56)；該進口(55)的寬度c和該出口(56)的寬度d的關(guān)系為d＞c，優(yōu)選地d≥1.5c。
16.根據(jù)權(quán)利要求1的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述輔助研磨體返回通道(54)在縱向中心軸線(19)的方向上具有高度e，所述分離裝置(32)在縱向中心軸線(19)的方向上具有高度f，高度e與高度f的關(guān)系為e≤f，優(yōu)選地e＜0.5f。
17.根據(jù)權(quán)利要求13的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述輔助研磨體返回模塊(45)在所述分離裝置(32)區(qū)域設(shè)置有擦拭件(65)，所述擦拭件無中斷地連續(xù)進入輔助研磨體返回通道(54)。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的攪拌設(shè)備，其特征在于，所述擦拭件(65)沿輔助研磨體的分離裝置(32)的高度f延伸。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種攪拌設(shè)備，該攪拌設(shè)備包括由研磨容器(2)的內(nèi)壁(9)和轉(zhuǎn)子(39)的外壁(40)限定的外研磨室(8a)以及由該轉(zhuǎn)子(39)的內(nèi)壁(41)和內(nèi)部定子(22)的外殼(23)限定的內(nèi)研磨室(8b)。所述研磨室(8a，8b)通過轉(zhuǎn)向室(50)互連。外研磨室(8a)的徑向間隙寬度g與內(nèi)研磨室(8b)的徑向間隙寬度h的關(guān)系為g＜h。
文檔編號B24B31/02GK1864928SQ20061008263
公開日2006年11月22日 申請日期2006年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月19日
發(fā)明者N·施特爾, P·施米特 申請人:比勒股份公司