專利名稱：大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及冶金行業(yè)中用于爐外精煉的一種真空脫氣裝置，
尤其涉及大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管(即RH浸漬管)。
背景技術(shù)：
真空脫氣裝置(即RH裝置)從以前單一的脫[H]功能發(fā)展到現(xiàn)在 的調(diào)溫、合金化以及脫C、脫S等等，技術(shù)上已經(jīng)有了大踏步的發(fā)展。 而這些功能的開發(fā)，主要是在脫氣裝置的工藝設(shè)備上有了較大的突破， 使得鋼水在真空爐內(nèi)有了較大的循環(huán)量，才得以RH功能的多樣化。 現(xiàn)在的RH裝置，其浸漬管(也稱循環(huán)管)的口徑和驅(qū)動(dòng)氣體普遍增 大，主要目的是增加鋼水的循環(huán)量，用以增加脫問和脫[C]的速度。增 大后的浸漬管和驅(qū)動(dòng)氣體對耐材所受到的影響是相當(dāng)大的，極大的影 響了真空爐的使用壽命。上述驅(qū)動(dòng)氣體俗稱環(huán)流氣，主要用來帶動(dòng)鋼 液循環(huán)的原動(dòng)力。
現(xiàn)有RH裝置所開發(fā)的許多功能主要是建立在設(shè)備的改進(jìn)方面， 即增加排氣能力以及增大循環(huán)量方面，而對真空爐方面僅僅只增大了 RH浸漬管的內(nèi)徑，對浸漬管的內(nèi)襯結(jié)構(gòu)未作改進(jìn)；現(xiàn)有的RH浸漬管 參見圖l，其主要由內(nèi)襯磚6、金屬內(nèi)膽7、外澆注層8組成，內(nèi)襯磚 6最上的一層為第一層環(huán)磚1，該第一層環(huán)磚l為圓環(huán)形。由此帶來的 后果是嚴(yán)重的，其主要體現(xiàn)在以下兩方面a.第一層環(huán)磚1產(chǎn)生位移、 上浮；b.第一層環(huán)磚l與第二層環(huán)磚4之間出現(xiàn)大的磚縫，這是由于第 一層環(huán)磚1上浮、位移所導(dǎo)致的，并由此經(jīng)常產(chǎn)生鋼水穿過該磚縫滲 透到相鄰RH浸漬管之間的永久層5而造成穿槽事故。這兩種情況在 目前的大循環(huán)量的RH裝置上均有所反映，目前并沒有較好的解決對 策，有的依靠熱態(tài)噴補(bǔ)料噴補(bǔ)維持，維護(hù)難度和成本都相當(dāng)高，而浸 漬管的使用壽命卻維持在低壽命狀態(tài)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬 管，該浸漬管消除了第一層環(huán)磚在工作過程中出現(xiàn)的上浮現(xiàn)象，提高 浸漬管的使用壽命。
本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的 一種大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管， 其主要由內(nèi)襯磚、金屬內(nèi)膽、外澆注層組成，內(nèi)襯磚最上的一層為第 一層環(huán)磚，所述第一層環(huán)磚每塊磚外側(cè)面呈鍥形，鍥形面從第一層環(huán) 磚的每塊磚上端面向下方逐漸向外傾斜，相應(yīng)的第一層環(huán)磚外側(cè)面構(gòu) 成錐形。
所述第一層環(huán)磚與設(shè)置在相鄰兩個(gè)浸漬管之間的槽底磚之間留有 供槽底磚熱膨脹的間隙，該間隙內(nèi)填充有填充料。這樣在槽底磚熱膨 脹情況下就不會與第一層環(huán)磚硬接觸造成第一層環(huán)磚上拱。
所述第一層環(huán)磚每塊磚之間豎縫為0.5 lmm之間。由于每塊磚都 由膠水粘合，而膠水在高溫下容易揮發(fā)，因此在保證每塊磚的粘合力 的情況下盡量減少磚縫。
本實(shí)用新型通過改變第一層環(huán)磚外部形狀，將圓環(huán)狀改為錐狀， 從而增大第一層環(huán)磚外圍填充料對第一層環(huán)磚的固定作用，當(dāng)?shù)谝粚?環(huán)磚有上浮趨勢時(shí)，填充料對第一層環(huán)磚施加一個(gè)強(qiáng)有力的向下的阻
保持第-^i環(huán)磚周定不動(dòng)搖，這樣保證了大循環(huán)量的RH浸漬管 的穩(wěn)定使用。本使用新型結(jié)構(gòu)簡單，構(gòu)思巧妙，解決了現(xiàn)有技術(shù)中常 出現(xiàn)的第一層環(huán)磚上浮現(xiàn)象。


圖1為現(xiàn)有的RH浸漬管結(jié)構(gòu)示意圖2為本實(shí)用新型RH浸漬管結(jié)構(gòu)示意圖 ， 圖3為本實(shí)用新型的第一層某塊磚的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中l(wèi)第一層環(huán)磚，la第一層中的某塊磚，2填充料，3槽底磚， 4第二層磚，5永久層，6內(nèi)襯磚，7金屬內(nèi)膽，8外澆注層。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
參見圖2、圖3，圖2中示出了相鄰兩個(gè)RH浸漬管的示意圖，相 鄰兩個(gè)浸漬管之間設(shè)置有槽底磚3以及永久層5。下面具體介紹本實(shí)用 新型 一種大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管，其主要由內(nèi)襯磚6、金屬 內(nèi)膽7、外澆注層8組成，內(nèi)襯磚6最上的一層為第一層環(huán)磚1。第一 層環(huán)磚1每塊磚la外側(cè)面局部或全部呈鍥形，圖3示出的某塊磚la 外側(cè)面呈局部鍥形，鍥形面從每塊磚la的上端面向下方逐漸向外傾斜， 相應(yīng)的第一層環(huán)磚1局部或全部外側(cè)面構(gòu)成錐形，第一層環(huán)磚1錐形 部分截面積從上到下逐漸增大。第一層環(huán)磚1與設(shè)置在相鄰兩個(gè)浸漬 管之間的槽底磚3之間留有供槽底磚3熱膨脹的間隙，該間隙內(nèi)填充 有填充料2 (如鎂鉻質(zhì)搗打料)，防止槽底磚3熱膨脹與第一層環(huán)磚1 硬接觸而使第一層環(huán)磚1上供。填充料2形成與第一層環(huán)磚1相配合 的倒錐形，在鋼水向上沖擊或浮力作用下，第一層環(huán)磚1有向上運(yùn)動(dòng) 的趨勢，但由于錐面的作用，填充料2頂住第一層環(huán)磚1，帶有錐面的 填充料2對帶有錐面的第一層環(huán)磚1的作用力大大提高，本實(shí)用新型 的第一層環(huán)磚1牢牢固定在原始位置不上移，從而避免了鋼水進(jìn)入相 鄰兩個(gè)浸漬管之間的永久層5。
由于第一層每塊磚la之間都用膠水粘合，膠水在高溫下會揮發(fā)， 因此第一層每塊磚la之間豎縫控帝J在0.5 lmm之間，這樣在保證粘 合力的情況下盡量減少了磚與磚之間的縫隙，減少膠水揮發(fā)后每塊磚 la的自由活動(dòng)空間。
經(jīng)試用證明，本實(shí)用新型的使用壽命得到大幅度提高，從而為大 循環(huán)量RH裝置的使用消除了障礙。
權(quán)利要求1.一種大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管，其主要由內(nèi)襯磚、金屬內(nèi)膽、外澆注層組成，內(nèi)襯磚最上的一層為第一層環(huán)磚，其特征在于所述第一層環(huán)磚每塊磚外側(cè)面呈鍥形，鍥形面從第一層環(huán)磚的每塊磚上端面向下方逐漸向外傾斜，相應(yīng)的第一層環(huán)磚外側(cè)面構(gòu)成錐形。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管，其特 征在于所述第一層環(huán)磚與設(shè)置在相鄰兩個(gè)浸漬管之間的槽底磚之間 留有供槽底磚熱膨脹的間隙，該間隙內(nèi)填充有填充料。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管，其特征在于所述第一層環(huán)磚每塊磚之間豎縫為0.5 lmm之間。
專利摘要本實(shí)用新型涉及冶金行業(yè)中用于爐外精煉的一種真空脫氣裝置，尤其涉及大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管(即RH浸漬管)。一種大循環(huán)量的真空脫氣裝置浸漬管，其主要由內(nèi)襯磚、金屬內(nèi)膽、外澆注層組成，內(nèi)襯磚最上的一層為第一層環(huán)磚，其特征在于所述第一層環(huán)磚每塊磚外側(cè)面呈楔形，楔形面從第一層環(huán)磚的每塊磚上端面向下方逐漸向外傾斜，相應(yīng)的第一層環(huán)磚外側(cè)面構(gòu)成錐形。本實(shí)用新型消除了第一層環(huán)磚在工作過程中出現(xiàn)的上浮現(xiàn)象，提高浸漬管的使用壽命。
文檔編號C21C7/10GK201128745SQ200720075848
公開日2008年10月8日 申請日期2007年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月22日
發(fā)明者秦志民, 黃永青, 龔興東 申請人:寶山鋼鐵股份有限公司