專利名稱：一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空鍍膜機，特別涉及用于對PP、 PC、 PET、 PVC
等絕緣塑料制品鍍膜用的真空鍍膜機。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的用于手機、DVD、 MP3、 PDA的外殼、按鍵等鍍膜的真空鍍膜機 由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)源和工裝系統(tǒng)組成。為了獲得綜合表面性能，塑料鍍膜后一 般還需要噴涂一層保護膜，這樣不僅導致鍍膜工藝流程復雜，而且難以保證膜 層的質(zhì)量。授權(quán)公告號為CN2675685Y、授權(quán)公告日為2005年2月2日、名 稱為《加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機》的實用新型專利，能夠很好地解 決鍍鋁和鍍保護膜同機進行的問題，流程簡單。它們采用了兩個對稱放置的射 頻天線，是由不銹鋼與紫銅復合而成的弧面或平面板狀體。在工作時一方面射 頻放電過程中會產(chǎn)生自偏壓效應，會對射頻天線產(chǎn)生較強濺射作用，濺射出來 的粒子會污染膜層，降低鍍膜的質(zhì)量；另一方面射頻天線靠近真空室壁放置， 等離子體靠擴散運動到工件表面，使得工件表面附近的等離子體密度低，在制 備保護膜的過程中效率不是很高。再者由于射頻天線的布置會影響等離子體分 布，真空室內(nèi)等離子體分布可能不是很均勻，使得工件支架上不同位置的工件 的膜層質(zhì)量存在一定差異。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，它可以解決現(xiàn)有的蒸 發(fā)鍍膜機存在工件上不同位置的膜層質(zhì)量有差異、鍍膜質(zhì)量難以保證的問題。
本實用新型由鍍膜真空室裝置、工裝裝置、等子體源裝置和蒸發(fā)源裝置組 成；所述鍍膜真空室裝置由鍍膜真空室體、進氣管、室門、泵組組成；所述工 裝裝置由轉(zhuǎn)臺裝置、轉(zhuǎn)軸、第一絕緣件、轉(zhuǎn)動機構(gòu)、絕緣動密封件組成；所述 等離子體源裝置由射頻等離子體電源、匹配箱、具有工件支架功能的射頻天線 組成；所述蒸發(fā)源裝置由蒸發(fā)電源、蒸發(fā)源電極、電熱絲、金屬條或金屬棒材、 第二絕緣件、電極電纜組成；所述進氣管的一端穿過鍍膜真空室體的底端面裝 在鍍膜真空室體內(nèi)，鍍膜真空室體側(cè)壁上設(shè)有室門，所述泵組的輸入端裝在鍍膜真空室體的側(cè)壁上且與鍍膜真空室體連通，所述轉(zhuǎn)臺裝置裝在鍍膜真空室體
內(nèi)的底端面上，所述設(shè)置在鍍膜真空室體外面的轉(zhuǎn)動機構(gòu)的輸出端與轉(zhuǎn)軸的輸
入端通過第一絕緣件連接，轉(zhuǎn)軸的輸出端穿過裝在鍍膜真空室體底端面的絕緣
動密封件與裝在鍍膜真空室體內(nèi)的轉(zhuǎn)臺裝置固接，轉(zhuǎn)軸通過設(shè)置在鍍膜真空室
體外面的導線與匹配箱和射頻等離子體電源的輸出極連接，所述轉(zhuǎn)臺裝置上固
裝有具有工件支架功能的射頻天線，所述至少兩個蒸發(fā)源電極裝在鍍膜真空室
體的中間，至少兩個蒸發(fā)源電極之間沿縱向設(shè)置有一組水平放置的電熱絲，每
個電熱絲的兩端與蒸發(fā)源電極連接，每個電熱絲內(nèi)放置有金屬條或金屬棒材，
電極電纜的一端與設(shè)置在鍍膜真空室體外面的蒸發(fā)電源的兩端連接，電極電纜
的另一端穿過裝在鍍膜真空室體頂端面上的第二絕緣體與蒸發(fā)源電極的頂端固接。
本實用新型具有以下有益效果1、由于射頻天線本身具有工件支架功能， 使得工件支架自身作為等離子體源，等離子體就在工件周圍產(chǎn)生，大大提高了 工件周圍的等離子體密度、等離子體利用率和鍍膜效率，且不同位置的膜層質(zhì) 量相同。2、在蒸發(fā)鍍膜過程中，工件表面鍍上鋁膜或者其他金屬膜之后，工 件就會和工件支架處于導通狀態(tài)，工件也成為射頻天線的一部分。在射頻放電 的時候，不僅能夠自身產(chǎn)生等離子體，同時由于射頻放電產(chǎn)生的自偏壓效應， 因而會對工件表面產(chǎn)生一定的濺射作用，從而能夠起到活化工件表面作用，進 一步提高膜層質(zhì)量。3、由于在工件支架上產(chǎn)生等離子體激勵，實際上部分蒸
發(fā)的鋁原子或者其他原子也可以得到離化，從而增加膜基結(jié)合力。4、本實用 新型具有結(jié)構(gòu)簡單、工作可靠的優(yōu)點，可滿足PP、 PC、 PET、 PVC等絕緣塑
料制品鍍膜的質(zhì)量要求。

圖1是本實用新型的整體結(jié)構(gòu)主視圖；圖2是圖1的A-A剖面圖(泵組4 和轉(zhuǎn)臺裝置5沒有畫出)；圖3是齒輪24與內(nèi)齒圈26嚙合的俯視圖；圖4是 轉(zhuǎn)臺裝置的主視圖(用以支撐軸承22的絕緣矮支架20和用以支撐固定內(nèi)齒輪 26的絕緣高支架21未畫圖)。
具體實施方式
具體實施方式
一結(jié)合圖1 圖3說明本實施方式，本實施方式由鍍膜真 空室裝置、工裝裝置、等子體源裝置和蒸發(fā)源裝置組成；所述鍍膜真空室裝置由鍍膜真空室體l、進氣管2、室門3、泵組4組成；所述工裝裝置由轉(zhuǎn)臺裝
置5、轉(zhuǎn)軸6、第一絕緣件7、轉(zhuǎn)動機構(gòu)8、絕緣動密封件17組成；所述等離 子體源裝置由射頻等離子體電源9、匹配箱10、具有工件支架功能的射頻天線 12組成；所述蒸發(fā)源裝置由蒸發(fā)電源13、蒸發(fā)源電極14、電熱絲15、金屬條 或金屬棒材16、第二絕緣件18、電極電纜19組成；所述進氣管2的一端穿過 鍍膜真空室體1的底端面裝在鍍膜真空室體1內(nèi)，鍍膜真空室體1側(cè)壁上設(shè)有 室門3，所述泵組4的輸入端裝在鍍膜真空室體1的側(cè)壁上且與鍍膜真空室體 1連通，所述轉(zhuǎn)臺裝置5裝在鍍膜真空室體1內(nèi)的底端面上，所述設(shè)置在鍍膜 真空室體1外面的轉(zhuǎn)動機構(gòu)8的輸出端與轉(zhuǎn)軸6的輸入端通過第一絕緣件7 連接，轉(zhuǎn)軸6的輸出端穿過裝在鍍膜真空室體1底端面的絕緣動密封件17與 裝在鍍膜真空室體1內(nèi)的轉(zhuǎn)臺裝置5固接，轉(zhuǎn)軸6通過設(shè)置在鍍膜真空室體1 外面的導線與匹配箱10和射頻等離子體電源9的輸出極連接，所述轉(zhuǎn)臺裝置 5上固裝有具有工件支架功能的射頻天線12，所述至少兩個蒸發(fā)源電極14裝 在鍍膜真空室體1的中間，至少兩個蒸發(fā)源電極14之間沿縱向設(shè)置有一組水 平放置的電熱絲15，每個電熱絲15的兩端與蒸發(fā)源電極14連接，每個電熱 絲15內(nèi)放置有金屬條或金屬棒材16，電極電纜19的一端與設(shè)置在鍍膜真空 室體1外面的蒸發(fā)電源13的兩端連接，電極電纜19的另一端穿過裝在鍍膜真 空室體1頂端面上的第二絕緣體18與蒸發(fā)源電極14的頂端固接。本實施方式 的鍍膜真空室體1的內(nèi)徑為O800mm、高為800mm。如此設(shè)置，現(xiàn)有真空鍍 膜機系統(tǒng)中的工件支架通過導線與射頻等離子體電源的輸出極連接，使得現(xiàn)有 的工件支架不僅僅起到支撐工件的作用，與此同時還起到作為射頻天線產(chǎn)生等 離子體的作用。
具體實施方式
二結(jié)合圖l和圖4說明本實施方式，本實施方式的轉(zhuǎn)臺裝 置5由絕緣矮支架20、絕緣高支架21、第一軸承22、轉(zhuǎn)臺23、齒輪24、軸 承組25、內(nèi)齒圈26、第二軸承27組成；所述用以支撐第一軸承22的絕緣矮 支架20、用以支撐固定內(nèi)齒圈26的絕緣高支架21固裝在鍍膜真空室體1內(nèi) 的底端面上，絕緣矮支架20上由下至上裝有第一軸承22和轉(zhuǎn)臺23，絕緣高 支架21上裝有內(nèi)齒圈26，內(nèi)齒圈26內(nèi)裝有至少一個與內(nèi)齒圈26嚙合的齒輪 24，所述鍍膜真空室體l內(nèi)裝有與齒輪24數(shù)目相同的具有工件支架功能的射 頻天線12，每個具有工件支架功能的射頻天線12的下端穿過相應的齒輪24與裝在轉(zhuǎn)臺23上端面圓孔內(nèi)的第二軸承27固接，裝在轉(zhuǎn)臺23上端面圓孔內(nèi) 的具有工件支架功能的射頻天線12上裝有軸承組25，每個具有工件支架功能 的射頻天線12與相應的齒輪24固接，轉(zhuǎn)軸6的輸出端穿過裝在鍍膜真空室體 1底端面上的絕緣動密封件17與裝在鍍膜真空室體1內(nèi)的轉(zhuǎn)臺23的下端面固 接。如此設(shè)置，可保證具有工件支架功能的射頻天線12在隨著轉(zhuǎn)臺23公轉(zhuǎn)的 同時也在進行自轉(zhuǎn)，從而保證了工件上不同位置的膜層質(zhì)量相同。其它組成及 連接關(guān)系與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
三結(jié)合圖1說明本實施方式，本實施方式的泵組4由機械 泵28、分子泵29、第一閥門30、第二閥門31、插板閥32、光柵閥33組成； 所述機械泵28的輸入端通過第一閥門30和第二閥門31分別與光柵閥33和分 子泵29的輸出端連接，分子泵29的輸入端與插板閥32的輸出端連接，插板 閥32的輸入端與光柵閥33的輸出端連接，光柵閥33的輸入端與鍍膜真空室 體1連通。如此設(shè)置，結(jié)構(gòu)簡單、工作可靠。其它組成及連接關(guān)系與具體實施 方式一相同。
具體實施方式
四結(jié)合圖1和圖3說明本實施方式，本實施方式的裝在內(nèi) 齒圈26內(nèi)的至少一個齒輪24沿內(nèi)齒圈26的圓周分布。如此設(shè)置，可提高轉(zhuǎn) 臺裝置的穩(wěn)定性。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
五結(jié)合圖3說明本實施方式，本實施方式的內(nèi)齒圈26內(nèi) 裝有六個與內(nèi)齒圈26嚙合的齒輪24。如此設(shè)置，不僅可方便工件的擺放，同 時還提高了工作效率。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
一或四相同。
權(quán)利要求1、一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，它由鍍膜真空室裝置、工裝裝置、等子體源裝置和蒸發(fā)源裝置組成；其特征在于所述鍍膜真空室裝置由鍍膜真空室體(1)、進氣管(2)、室門(3)、泵組(4)組成；所述工裝裝置由轉(zhuǎn)臺裝置(5)、轉(zhuǎn)軸(6)、第一絕緣件(7)、轉(zhuǎn)動機構(gòu)(8)、絕緣動密封件(17)組成；所述等離子體源裝置由射頻等離子體電源(9)、匹配箱(10)、具有工件支架功能的射頻天線(12)組成；所述蒸發(fā)源裝置由蒸發(fā)電源(13)、蒸發(fā)源電極(14)、電熱絲(15)、金屬條或金屬棒材(16)、第二絕緣件(18)、電極電纜(19)組成；所述進氣管(2)的一端穿過鍍膜真空室體(1)的底端面裝在鍍膜真空室體(1)內(nèi)，鍍膜真空室體(1)側(cè)壁上設(shè)有室門(3)，所述泵組(4)的輸入端裝在鍍膜真空室體(1)的側(cè)壁上且與鍍膜真空室體(1)連通，所述轉(zhuǎn)臺裝置(5)裝在鍍膜真空室體(1)內(nèi)的底端面上，所述設(shè)置在鍍膜真空室體(1)外面的轉(zhuǎn)動機構(gòu)(8)的輸出端與轉(zhuǎn)軸(6)的輸入端通過第一絕緣件(7)連接，轉(zhuǎn)軸(6)的輸出端穿過裝在鍍膜真空室體(1)底端面的絕緣動密封件(17)與裝在鍍膜真空室體(1)內(nèi)的轉(zhuǎn)臺裝置(5)固接，轉(zhuǎn)軸(6)通過設(shè)置在鍍膜真空室體(1)外面的導線與匹配箱(10)和射頻等離子體電源(9)的輸出極連接，所述轉(zhuǎn)臺裝置(5)上固裝有具有工件支架功能的射頻天線(12)，所述至少兩個蒸發(fā)源電極(14)裝在鍍膜真空室體(1)的中間，至少兩個蒸發(fā)源電極(14)之間沿縱向設(shè)置有一組水平放置的電熱絲(15)，每個電熱絲(15)的兩端與蒸發(fā)源電極(14)連接，每個電熱絲(15)內(nèi)放置有金屬條或金屬棒材(16)，電極電纜(19)的一端與設(shè)置在鍍膜真空室體(1)外面的蒸發(fā)電源(13)的兩端連接，電極電纜(19)的另一端穿過裝在鍍膜真空室體(1)頂端面上的第二絕緣體(18)與蒸發(fā)源電極(14)的頂端固接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于所述轉(zhuǎn) 臺裝置(5)由絕緣矮支架(20)、絕緣高支架(21)、第一軸承(22)、轉(zhuǎn)臺(23)、齒輪 (24)、軸承組(25)、內(nèi)齒圈(26)、第二軸承(27)組成；所述用以支撐第一軸承(22) 的絕緣矮支架(20)、用以支撐固定內(nèi)齒圈(26)的絕緣高支架(21)固裝在鍍膜真空 室體(l)內(nèi)的底端面上，絕緣矮支架(20)上由下至上裝有第一軸承(22)和轉(zhuǎn)臺 (23)，絕緣高支架(21)上裝有內(nèi)齒圈(26)，內(nèi)齒圈(26)內(nèi)裝有至少一個與內(nèi)齒圈 (26)嚙合的齒輪(24)，所述鍍膜真空室體(1)內(nèi)裝有與齒輪(24)數(shù)目相同的具有 工件支架功能的射頻天線(12)，每個具有工件支架功能的射頻天線(12)的下端穿過相應的齒輪(24)與裝在轉(zhuǎn)臺(23)上端面圓孔內(nèi)的第二軸承(27)固接，裝在轉(zhuǎn) 臺(23)上端面圓孔內(nèi)的具有工件支架功能的射頻天線(12)上裝有軸承組(25)，每 個具有工件支架功能的射頻天線(12)與相應的齒輪(24)固接，轉(zhuǎn)軸(6)的輸出端 穿過裝在鍍膜真空室體(1)底端面上的絕緣動密封件(17)與裝在鍍膜真空室體 (1)內(nèi)的轉(zhuǎn)臺(23)的下端面固接。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于所述泵 組(4)由機械泵(28)、分子泵(29)、第一閥門(30)、第二閥門(31)、插板閥(32)、 光柵閥(33)組成；所述機械泵(28)的輸入端通過第一閥門(30)和第二閥門(31)分 別與光柵閥(33)和分子泵(29)的輸出端連接，分子泵(29)的輸入端與插板閥(32) 的輸出端連接，插板閥(32)的輸入端與光柵閥(33)的輸出端連接，光柵閥(33) 的輸入端與鍍膜真空室體(l)連通。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于所述裝 在內(nèi)齒圈(26)內(nèi)的至少一個齒輪(24)沿內(nèi)齒圈(26)的圓周分布。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于所述內(nèi) 齒圈(26)內(nèi)裝有六個與內(nèi)齒圈(26)嚙合的齒輪(24)。
專利摘要一種等離子體蒸發(fā)鍍膜機，它涉及一種真空鍍膜機。針對現(xiàn)有蒸發(fā)鍍膜機鍍膜質(zhì)量難以保證的問題。本實用新型的進氣管(2)的一端裝在鍍膜真空室體(1)內(nèi)，鍍膜真空室體(1)側(cè)壁上設(shè)有室門(3)，泵組(4)裝在鍍膜真空室體(1)上，轉(zhuǎn)臺裝置(5)裝在鍍膜真空室體(1)內(nèi)，轉(zhuǎn)動機構(gòu)(8)與轉(zhuǎn)軸(6)連接，轉(zhuǎn)軸(6)與轉(zhuǎn)臺裝置(5)固接，轉(zhuǎn)軸(6)與匹配箱(10)和射頻等離子體電源(9)連接，轉(zhuǎn)臺裝置(5)上固裝有具有工件支架功能的射頻天線(12)，蒸發(fā)源電極(14)裝在鍍膜真空室體(1)的中間，蒸發(fā)源電極(14)之間設(shè)置電熱絲(15)，電熱絲(15)內(nèi)放置有金屬條或金屬棒材(16)，電極電纜(19)的兩端分別與蒸發(fā)電源(13)和蒸發(fā)源電極(14)固接。本實用新型可大大提高等離子體利用率、鍍膜效率和膜層質(zhì)量。
文檔編號C23C14/24GK201144276SQ20072011783
公開日2008年11月5日 申請日期2007年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月28日
發(fā)明者關(guān)秉羽, 田修波 申請人:沈陽市北宇真空設(shè)備廠;哈爾濱工業(yè)大學