專利名稱：遞送化學(xué)制品的系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于用于將化學(xué)制品遞送給工具的系統(tǒng)和方法，更 具體地i兌，是關(guān)于利用化學(xué)制品的至少兩個(gè)源頭的化學(xué)制品遞送 系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
化學(xué)制品遞送系統(tǒng)被應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域中，舉例來說，在半導(dǎo) 體制藥中，以及化妝品工業(yè)中。半導(dǎo)體制造業(yè)典型地4吏用化學(xué)制 品分配系統(tǒng)將化學(xué)制品遞送《會(huì)加工工具。具體地說，泥漿分配系
統(tǒng)遞送泥漿用于化學(xué)^L械拋光(CMP)。通常，期待向加工工具 提供有精確流體速度的化學(xué)制品或泥漿。易受輸入壓力的變化影 響的流量計(jì)常常被用來將泥漿和化學(xué)制品提供給工具。
化學(xué)制品遞送系統(tǒng)通常包括雙重的化學(xué)制品來源乂人而避免 了停才幾時(shí)間。輸入^會(huì)加工工具的輸入壓力的變化可能會(huì)發(fā)生在當(dāng) 將化學(xué)制品的遞送從一個(gè)供給源(典型地如攪拌槽)切換到另一 個(gè)時(shí)。然而，即使是與這樣的轉(zhuǎn)換相關(guān)的加工參數(shù)中的一個(gè)很小 的波動(dòng)也會(huì)對化學(xué)制品遞送的持續(xù)性和/或加工或產(chǎn)品的質(zhì)量帶 來嚴(yán)重的破壞。當(dāng)一個(gè)使用中的攪拌槽脫機(jī)時(shí)，在攪拌槽中還會(huì) 有低的或殘留的化學(xué)制品，這將會(huì)在給加工工具的供給線路中導(dǎo) 致壓力的下降。另外，在槽中剩余的化學(xué)制品通常會(huì)在相關(guān)的費(fèi) 用方面表現(xiàn)的很浪費(fèi)。除了在槽中剩余的化學(xué)制品的損失外，還會(huì)有很顯著的在目前處于離線狀態(tài)下的加工管道中剩余的化學(xué) 制品的死角損失。
授權(quán)給Forshey等人的美國專利第7,007,822號記載了 一種化 學(xué)制品混合和遞送系統(tǒng)。在這個(gè)專利中，攪拌槽同才羊也是待被遞 送給工具的化學(xué)制品的主要儲(chǔ)槽。 一個(gè)或多個(gè)緩沖儲(chǔ)槽位于主儲(chǔ) 槽的下游用于遞送給工具。 一個(gè)可編程循環(huán)控制器控制每個(gè)緩沖 儲(chǔ)槽中的壓力以實(shí)現(xiàn)從緩沖儲(chǔ)槽中出來的具有期待流速的CMP 泥漿。為了清潔和/或沖洗主J諸槽，在DI水被添加到主^f渚槽中以 及被排放到排放設(shè)備時(shí)，控制器中斷到緩沖儲(chǔ)槽的流體。加工工 具決定來自兩個(gè)緩沖儲(chǔ)槽中的哪一個(gè)的化學(xué)制品泥漿將被汲取。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案是關(guān)于一種將物質(zhì)提供給半導(dǎo)體工 具的方法，包括4吏第 一物質(zhì)穿過與工具流體連4妄的第 一回流線 路，以及將第一物質(zhì)的第一部分從第一回流線^各遞送給工具。第 一物質(zhì)也同才羊穿過與工具流體連4妄的第二回流線3各。
才艮據(jù)另 一 個(gè)實(shí)施方案，物質(zhì)遞送系統(tǒng)包括與工具流體連4妻的 第一回流線路、與工具流體連接的第二回流線路、與第一回流線 ; 各和工具的第二回流線i 各上游流體連4妄的第 一物質(zhì)來源、以及與 第 一 回流線i 各和工具的第二回流線3各上游流體連接的第二物質(zhì) 來源。 一種控制器，其響應(yīng)第一物質(zhì)來源的預(yù)先確定的物質(zhì)的量、 第二物質(zhì)來源的預(yù)先確定的物質(zhì)的量以及第 一 回流線3各和第二 回流線3各中的至少 一個(gè)的正在^f吏用的持續(xù)時(shí)間三者中的至少一 個(gè)，該控制器^皮配置用以在第一回流線3各和第二回流線3各中的至 少 一個(gè)中提供基本上恒定不變的物質(zhì)流動(dòng)。在又一個(gè)實(shí)施方案中，物質(zhì)遞送系統(tǒng)包4舌與工具流體連4妄的 第一回流線^各、與工具流體連4妄的第二回流線3各、與第一回流線
-各和工具的第二回流線;洛上游流體連4妄的第 一物質(zhì)來源以及與 第 一 回流線路和工具的第二回流線路上游流體連接的第二物質(zhì) 來源。系統(tǒng)還包括將物質(zhì),人第一物質(zhì)來源和第二物質(zhì)來源中的至 少 一個(gè)遞送給第 一 回流線路和第二回流線;洛中至少 一個(gè)的裝置， 以及清洗第 一 回流線路和第二回流線路中至少 一個(gè)的裝置。
才妄下來，當(dāng)與附圖結(jié)合在一起詳細(xì)描述本發(fā)明時(shí)，本發(fā)明其 它的優(yōu)點(diǎn)、新穎的特征以及目標(biāo)將會(huì)變得非常的明顯。


附圖并不是依比例^^制的。在附圖中，在不同的附圖中示出 的每個(gè)相同的或基本相同的部件都以相同的凄t字所標(biāo)識(shí)。為了清 楚說明的目的，并不是每個(gè)部件都列舉在每個(gè)附圖中，也不是發(fā) 明的每個(gè)實(shí)施方案的每個(gè)部件都一皮示出，其中所示的沒有必要讓
那些本領(lǐng)域的4支術(shù)人員去理解本發(fā)明。在附圖中
附圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案的系統(tǒng)的示意圖。 附圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案的系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明在其應(yīng)用中并沒有將其限定到在下面的描述和附圖 中所示出的部件的結(jié)構(gòu)和安排的細(xì)節(jié)上。本發(fā)明能夠有其它的實(shí) 施方案且能夠以各種不同的方式來實(shí)現(xiàn)。還有，本文中所^使用的 4普辭和術(shù)語也只是出于解釋說明的目的，而不應(yīng)當(dāng)?shù)vJ人為是一種 限制。所使用的詞語"包括"、"由......組成"或"具有"、"含有"、
7"包含，，以及它們的各種變形，是表示包括在其后所列舉的各個(gè) 項(xiàng)目、它們的等<介物以及附力口的項(xiàng)目。
依照一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方案，本發(fā)明是關(guān)于一個(gè)或多個(gè)將物質(zhì) 提供給工具的系統(tǒng)和方法。在此所使用的術(shù)語"物質(zhì)"包括任何 液體，比如溶劑，氣體、化學(xué)制品、泥漿。在此所使用的術(shù)語"工 具"^皮表示為〗吏用物質(zhì)的一點(diǎn)，包括U旦不限于)單獨(dú)的單元或 一系列單元。舉例來說，工具可以包括一個(gè)或多個(gè)半導(dǎo)體制造線 ^各。在此所描述的系統(tǒng)和方法可以凈皮應(yīng)用，舉例來i兌，在^艮廣泛 的各種不同的工業(yè)應(yīng)用中連續(xù)不斷地遞送物質(zhì)，所述的工業(yè)應(yīng)用 包括化妝品產(chǎn)業(yè)、制藥業(yè)和半導(dǎo)體工業(yè)，以及其它需要持續(xù)不斷 和/或4青確;也供應(yīng)物質(zhì)的工業(yè)。
本發(fā)明的實(shí)施方案通常是利用待被提供的物質(zhì)的兩個(gè)或更 多個(gè)來源向工具提供物質(zhì)/人而縮短或消除工具的4f^幾時(shí)間。物質(zhì) 可以從任何來源中被提供，只要其適合于所期待的應(yīng)用即可，比 如容器。任何容器都可以被使用，比如任何尺寸和形狀的儲(chǔ)備容 器和/或分批混合容器。所述的兩個(gè)或更多的物質(zhì)來源可以是相同 的，^旦不是必須是相同的。在一個(gè)實(shí)施方案中，物質(zhì)可以乂人纟覺4半 槽中被提供，所述的這個(gè)攪拌槽具有至少一個(gè)入口和出口以及一
個(gè)槽回流線^各。對4覺4半沖曹應(yīng)用的實(shí)施例在美國專利第6,109,778 號和第6,536,468號中有具體的描述，這些在此被并入本文作為 參考。
在一個(gè)實(shí)施方案中，^是供一種裝置以將^f吏物質(zhì)乂人兩個(gè)或更多 個(gè)來源穿過一個(gè)或多個(gè)供給線^各并且在兩個(gè)或更多的來源中對 物質(zhì)的遞送進(jìn)行切換。舉例來說， 一個(gè)岐管和/或一個(gè)或多個(gè)閥門 可以#皮適當(dāng)?shù)囟ㄎ灰詫⑽镔|(zhì)乂人槽中轉(zhuǎn)移到工具供給線i 各中。在一 個(gè)實(shí)施方案中， 一個(gè)或多個(gè)閥門可以被布置在槽回流線^各上/人而 將物質(zhì)從槽中轉(zhuǎn)移到工具上，和/或當(dāng)槽中的物質(zhì)低于預(yù)先確定的水平時(shí)或槽將被清潔或需要其它維護(hù)時(shí)，將槽與工具隔絕。閥門 在第 一槽和第二槽之間進(jìn)行切換的操作是不需要按順序的。也就 是說，除了第二槽剛剛被連到線路上之外，第一低水平的槽可以 繼續(xù)排放以對工具供給線路進(jìn)行供給。當(dāng)物質(zhì)的第二更低水平出 現(xiàn)在第一槽中時(shí)，或者第一槽為空時(shí)，第一槽隨后與工具供給線 ^各隔絕。在一些實(shí)施方案中，在各個(gè)槽之間的切才灸可以以斷續(xù)的 或周期性的間隔每周、每日或者每小時(shí)發(fā)生一次。
一個(gè)或多個(gè)閥門可以^皮手動(dòng)或自動(dòng)控制以響應(yīng)一個(gè)或多個(gè) 傳感器。在一個(gè)實(shí)施方案中，作為一個(gè)例子，所述的閥門可以自 動(dòng)對來自傳感器的信號做出響應(yīng)，所述的傳感器才企測存在于槽中 物質(zhì)的水平、壓力、流動(dòng)速度或物質(zhì)的其它特性。這個(gè)信號可以 是任何合適的信號，比如，氣動(dòng)信號、機(jī)械信號、電信號等等。 傳感器可以用于特定的目的而^皮布置在任何合適的位置上，比 如，在含有物質(zhì)的容器中和/或位于包括物質(zhì)供給線路的任何加工 線;洛中。傳感器可以是用于預(yù)期應(yīng)用的任爿f可適當(dāng)?shù)膫鞲衅?。舉例 來說，傳感器可以是液面?zhèn)鞲衅?、濃度傳感器以及它們的結(jié)合。 濃度傳感器是基于濃度、折射率、電導(dǎo)系數(shù)、分光測量和超聲波 發(fā)射裝置中的一個(gè)或多個(gè)。閥門可以是任何單向閥、閘式閥、膜 板閥、截止閥、蝶形閥、收縮閥等。作為對信號的響應(yīng)，在一些 實(shí)施方案中閥門可以一皮完全i也打開和關(guān)閉，或者在其它的實(shí)施方 案中3皮部分打開和關(guān)閉。
在一個(gè)實(shí)施方案中，物質(zhì)遞送系統(tǒng)包4舌兩個(gè)或更多物質(zhì)供纟合 線^各，所述的物質(zhì)供癥合線i 各與一個(gè)或多個(gè)工具流體連4妄且與兩個(gè) 或更多物質(zhì)來源流體連4妄。所述的物質(zhì)供纟會(huì)線i 各可以是物質(zhì)回流 線;洛或環(huán)i 各，乂人其中，物質(zhì)的第一部分一皮遞送給工具，物質(zhì)的第 二部分^皮回流到它的來源或者到物質(zhì)的另 一個(gè)來源。在另 一個(gè)實(shí) 施方案中，4是供一種裝置用以將向一個(gè)物質(zhì)回流線i 各供應(yīng)切換成向另一個(gè)供應(yīng)。舉例來"i兌，適當(dāng)定^f立的一個(gè)或多個(gè)^支管和/或閥門 可以隔絕第 一物質(zhì)回流線^各并開始^f吏物質(zhì)流向第二回流線^各。如 前面所討論的那樣，閥門可以^皮手動(dòng)或自動(dòng)控制以響應(yīng)一個(gè)或多 個(gè)傳感器。即-使當(dāng)物質(zhì)回流線^各中的 一個(gè)由于需要維護(hù)或預(yù)先頭見 定的保養(yǎng)而停止使用時(shí)，由于能夠?qū)⑽镔|(zhì)提供給工具的兩個(gè)或更 多的物質(zhì)回流線^各的存在，因此也可以允i午物質(zhì)對工具的持續(xù)性 的供應(yīng)。
在一個(gè)實(shí)施方案中， 一個(gè)或多個(gè)閥門可以被控制以作為對物 質(zhì)回流線^各的^f吏用運(yùn)4于的子貞先確定周期的響應(yīng)。物質(zhì)回流線^各或 環(huán)3各可以對沖洗和/或清潔，以及被耳又出用來維護(hù)進(jìn)行^見則地或周 期性地預(yù)先規(guī)定。物質(zhì)回流線路可以每年、每月或每周被取出來 進(jìn)4亍維護(hù)。物質(zhì)回流線3各(或多個(gè))可以用4壬4可適當(dāng)?shù)呐c物質(zhì)遞 送系統(tǒng)相容的氣體、化學(xué)制品、溶劑和它們的組合進(jìn)行沖洗。適 當(dāng)?shù)臎_洗物質(zhì)的實(shí)施例包括，-f旦不限于，去離子水，氫氧4匕鉀 (KOH)溶液和氮。
對才是供鄉(xiāng)合工具的物質(zhì)回流線;洛的沖洗和清潔可以發(fā)生在一 個(gè)或多個(gè)階,爻中。舉例來i兌，包含泥漿的物質(zhì)回流線;咯可以首先 用去離子水進(jìn)行沖洗，所述的去離子水可以回流或被發(fā)送到排水
設(shè)備，接著用KOH進(jìn)行沖洗，其也被回流和/或發(fā)送到排水設(shè)備。 最終的沖洗包括使合適的氣體穿過物質(zhì)回流線路。合適的氣體包 括與加工管道相容的任何氣體，其優(yōu)選的是包括那些可以在加工 管道中不留下或極少留下殘留的氣體。在一個(gè)實(shí)施方案中，惰性 氣體，比如氮，可以用來對物質(zhì)回流線3各的進(jìn)4于最終沖洗。沖洗 后的物質(zhì)回流線路保持在待命的模式下，準(zhǔn)備替代另 一個(gè)將停止 使用的回流線路。物質(zhì)回流線路的多步?jīng)_洗發(fā)生的同時(shí)，使用中 的物質(zhì)回流線^各通過在兩個(gè)或更多個(gè)物質(zhì)來源中進(jìn)行切換可以持續(xù)地將物質(zhì)提供癥會(huì)工具。不同沖洗物質(zhì)的多步?jīng)_洗可以以適合 具體目的的任何順序來進(jìn)行。
本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施方案的操作接下來結(jié)合附圖進(jìn)行更
力口詳纟田的4苗述。
附圖1示出根據(jù)本發(fā)明的物質(zhì)遞送系統(tǒng)。物質(zhì)遞送系統(tǒng)100 包括在攪拌槽10中的第一物質(zhì)來源和在攪拌槽20中的第二物質(zhì) 來源。物質(zhì)遞送系統(tǒng)IOO還包括與第一槽10和第二槽20流體連 4妾的第 一物質(zhì)回流線3各60。該第 一物質(zhì)回流線3各還與工具(未示 出)進(jìn)4亍流體連4妄以將物質(zhì)遞送給所述工具。第二物質(zhì)回流線^各 70也^皮流體連4妄到工具(未示出)以及第一槽10和第二槽20 上。物質(zhì)遞送系統(tǒng)100還包4舌與第一物質(zhì)回流線3各60和第二物 質(zhì)回流線^各70流體連4妄的第二物質(zhì)來源30,用于沖洗和/或清潔 4亭止4吏用的物質(zhì)回流線;洛。
在附圖1中，眾多閥門的定位限定了流動(dòng)的各種不同的配置。 基于描述流體^各徑的目的，每個(gè)^各徑都將單獨(dú)用一個(gè)或兩個(gè)打開 的閥門進(jìn)4亍描述，而其它所有的閥門都是關(guān)閉的。然而，可以理 解的是，多余一個(gè)的流動(dòng)^各徑是可以同時(shí)打開的。
閥門50位于與第一槽10流體連接的槽回流線^各90中，閥 門40位于與第二槽20流體連接的槽回流線路80中。當(dāng)閥門40 和50都打開并且其它所有的閥門都關(guān)閉時(shí)，物質(zhì)從槽10和20 回流回到它們各自的沖曹中。
在附圖1中，槽lCM皮流體連4妄到物質(zhì)回流線if各60上。閥門 12位于線路52上，該線路52被流體連接到物質(zhì)回流線i 各60上， 并通過閥門50上游的槽回流線;洛90的一段被流體連接到槽10 上。閥門14被布置在線^各54上，該線3各54 ^皮流體連接到物質(zhì)回流線路60上，并通過閥門50上游的槽回流線;洛90的一,殳凈皮 流體連4妻到槽10上。當(dāng)閥門12和閥門14都打開且所有其它的 閥門都關(guān)閉時(shí)，物質(zhì)乂人槽10穿過物質(zhì)回流線3各60,其中一部分 物質(zhì)^皮^是供虛會(huì)工具，另一部分通過槽回流線S各90的一^殳回到槽 10中。
槽10還被流體連接到物質(zhì)回流線路70上。閥門16被布置 在線路56上，所述的線路56被流體連接到物質(zhì)回流線路70上， 并被連接到閥門50上游的槽回流線路90上。閥門18被布置在 線路58上，所述的線^各58 一皮流體連接到物質(zhì)回流線^各70上， 并一皮連4妄到閥門50下游的槽回;充線;洛90的一^爻上。當(dāng)閥門16 和18都打開且所有其它的閥門都關(guān)閉時(shí)，物質(zhì)/人槽IO穿過物質(zhì) 回流線路70,其中一部分物質(zhì)^U是供給工具，另一部分通過回流 線路90的一l殳回到槽10中。
物質(zhì)遞送系統(tǒng)100的槽20還被流體連接到物質(zhì)回流線路60 和70上，如在附圖1中所示的那樣。閥門22被布置在線路42 上，所述的線if各423皮力t體連4妄到物質(zhì)回流線3各60上，并通過閥 門40上游的沖曹回流線^各80的一,殳流體連4妄到槽20上。閥門24 被布置在線路44上，所述的線^各44被流體連接到物質(zhì)回流線^各 60上，并通過閥門40下游的槽回流線^各80的一賴^皮流體連"l妻到 槽20上。當(dāng)閥門22和24打開且所有其它的閥門都關(guān)閉時(shí)，來 自槽20的物質(zhì)經(jīng)過物質(zhì)回流線路60，其中一部分物質(zhì)被提供給 工具，而另一部分通過一賴:槽回流線路80回到槽20中。
閥門26被布置在線i 各46上，所述的線^各46 ^皮流體連接到 物質(zhì)回流線路70上，并通過閥門40上游的一,殳槽回流線;咯80 #皮流體連4妄到槽20上。閥門28 #1布置在線^各48上，所述的線 路48被流體連接到物質(zhì)回流線路70上，并通過閥門40下游的 一,殳槽回流線^各80凈皮流體連4妄到槽20上。當(dāng)閥門26和28都打開且所有其它的閥門都關(guān)閉時(shí)，來自槽20的物質(zhì)經(jīng)過物質(zhì)回流 線路70,其中一部分物質(zhì)被提供給工具，而另一部分通過一^殳槽 回流線3各80回到槽20中。
物質(zhì)回流線i 各60和70可以;故流體連^妾到用于沖洗和/或清潔 物質(zhì)回流線路的第二物質(zhì)的來源上。如附圖l所示，含有第二物 質(zhì)的槽30通過位于線^各62上的閥門32和位于線^各64上的閥門 34 ^皮流體連接到物質(zhì)回流線^各60上。當(dāng)閥門32和34都打開且 所有其它的閥門都關(guān)閉時(shí)，所述的第二物質(zhì)穿過物質(zhì)回流線^各 60。如在附圖1所示，第二物質(zhì)回流回到才曹30中用以隨后的才非 ;改。作為替代的，存在于物質(zhì)回流線^各60中的第二物質(zhì)通過閥 門34可以直接地被轉(zhuǎn)移到排放設(shè)備中(未示出)。附圖1示出了 線路62和64的定位提供了與物質(zhì)向工具流動(dòng)方向相反的第二物 質(zhì)的流動(dòng)方向，盡管可以預(yù)想到線^各62和64也可以^皮定位以為 兩種物質(zhì)4是供相同的流動(dòng)方向。
槽30也通過位于線^各72上的閥門36和位于線3各74上的閥 門38 ^皮流體連4妻到物質(zhì)回流線^各70上。當(dāng)閥門36和38都打開 而其它所有的閥門都關(guān)閉時(shí)，第二物質(zhì)穿過物質(zhì)回流線^各70。如 附圖l所示，第二物質(zhì)可以回流回到槽30中以用于隨后的排》文。 作為替^的，存在于物質(zhì)回流線i 各70中的第二物質(zhì)通過閥門38 可以被直接地被轉(zhuǎn)移到排放設(shè)備中(未示出)。由于有物質(zhì)回流 線^各60,所以第二物質(zhì)穿過物質(zhì)回流線5各70的流動(dòng)方向可以與 遞送纟合工具的物質(zhì)的流動(dòng)方向相反，也可能與其相同。
物質(zhì)回流線^各60和70的附加的沖洗也可以發(fā)生。舉例來說， 一旦津毛盡第二物質(zhì)的槽30，第三物質(zhì)可以#:添加到槽中。作為替 代的，槽30可以用另一個(gè)含有第三物質(zhì)的槽(未示出)來替代。 近似地，供應(yīng)第二和/或第三物質(zhì)的槽可以用氣體源來^,代。閥門32、 34、 36、 38和用于第三物質(zhì)和/或氣體的流動(dòng)3各徑近4以于那 些對第二物質(zhì)的描述。
在物質(zhì)遞送系統(tǒng)100的運(yùn)4亍期間，工具主要由一個(gè)物質(zhì)回流 線^各(例如，60或70)來供應(yīng)，這個(gè)物質(zhì)回流線^各由兩個(gè)物質(zhì) 來源4姿序的或同時(shí)供應(yīng)。然而，在物質(zhì)回流線^各(例3口， 60， 70) 之間的轉(zhuǎn)換和/或物質(zhì)來源(例如，10, 20)之間的轉(zhuǎn)換過程中， 工具可以由兩個(gè)回流線;洛(例如，60和70 )和/或兩個(gè)物質(zhì)源(例 ^口， 10和20)同時(shí)供應(yīng)。
才喿作物質(zhì)遞送系統(tǒng)100的一種方法將在下面的一系列順序階 ,殳中進(jìn)行描述。出于說明的目的，才喿作的各種方式^皮表示為順次。 可以理解的是，在連續(xù)的操作中，每個(gè)順次可以發(fā)生一次或多次， 而且盡管一個(gè)順次被表示為第一順次，但是在順次中的任何順次 都可以^皮看作是第 一順次。
在第一順次中，借助于打開的閥門22和24,物質(zhì)從槽20經(jīng) 過第一物質(zhì)回流線3各60凈皮提供給工具。槽10包含物質(zhì)，并且它 可以通過打開的閥門50進(jìn)4亍局部的回流，直到它^皮聯(lián)才幾。所有 其它的閥門都是關(guān)閉的。
在第二順次中，當(dāng)槽20中的物質(zhì)的數(shù)量下降到的一個(gè)較低 水平時(shí)，閥門24被關(guān)閉，這樣來自槽20中的、工具沒有使用的 物質(zhì)的部分不再乂人物質(zhì)回流線路60回流到槽20中。閥門12和 14被打開且閥門50關(guān)閉，這樣在槽10中的物質(zhì)穿過物質(zhì)回流線
路60,并且工具不再^f吏用的物質(zhì)部分返回到槽io中。近合:u也，
工具沒有使用的來自槽20中的物質(zhì)部分也^皮送到槽10中。
在第三次序，當(dāng)槽20中的物質(zhì)實(shí)質(zhì)上被耗盡時(shí)，閥門22被 關(guān)閉，且閥門40被打開以流體上隔絕槽20和物質(zhì)回流線路60。第四物質(zhì)這時(shí),皮引入到槽20中用以在準(zhǔn)備好遞送癥會(huì)工具的新的 一批物質(zhì)之前對槽進(jìn)行沖洗和/或清潔。第四物質(zhì)可以是適合沖洗 和/或清潔槽20和槽回流線;咯80的4壬<可溶劑、化學(xué)制品或氣體。 由于^f吏用上述的第三物質(zhì)，所以第四物質(zhì)可以是去離子水、KOH、 或氣體。在一個(gè)槽混合和/或盛裝泥漿的實(shí)施方案中，第四物質(zhì)可 以是去離子水。第四物質(zhì)可以^皮返回到槽20中用于隨后的4非》文， 或直接地轉(zhuǎn)移給排放設(shè)備(未示出)。閥門12和14保持打開狀 態(tài)以^f吏來自才曹10中的物質(zhì)經(jīng)過物質(zhì)回流線^各60。工具沒有4吏用 的物質(zhì)部分被返回到槽10中。工具回流線;咯70的沖洗可以在第 三順次中#1啟動(dòng)，在第三順次中，閥門36和38被打開以使第二 物質(zhì)(比如去離子水)穿過物質(zhì)回流線3各70。存在于物質(zhì)回流線 路70中的去離子水被返回到槽30中用于隨后的排放，或者作為 替代的被直接送到排放設(shè)備(未示出)。所有其它的閥門保持關(guān) 閉?？梢岳斫獾氖牵瑳_洗順次的啟動(dòng)不需要發(fā)生在第三順次期間， 4旦是可以發(fā)生在更早的或津交后的順次中，只要將^皮沖洗的物質(zhì)回 流線路是處于停止使用的狀態(tài)并且在開始使用處于停止使用狀 態(tài)的線if各之前有足夠的時(shí)間來完成沖洗。
在去離子水穿過物質(zhì)回流線^各70之后，在第四順次中，槽 30被KOH填滿，或者被含有KOH的槽30a (未示出)所替換。 閥門36和38保持打開狀態(tài)以使KOH從槽30到物質(zhì)回流線^各 70中。閥門12和14保持打開以4吏物質(zhì)乂人槽10穿過物質(zhì)回流線 路60。工具沒有〗吏用的物質(zhì)的任何部分都返回到槽10中。隨著 槽20被排放，閥門40保持打開以準(zhǔn)備好用于遞送給工具的物質(zhì)。 所有其它的閥門都保持關(guān)閉。
當(dāng)槽10中的物質(zhì)下降到一個(gè)較低的水平時(shí)，待被提供給工 具的物質(zhì)的構(gòu)成被引入到槽20中以用于混合以及隨后在第五順 次中的再循環(huán)。作為3齊 的，預(yù)先混合的物質(zhì)可以:帔直4妻:t也添加到槽20中以用于再循環(huán)。槽20通過打開的閥門對物質(zhì)進(jìn)4亍局部 地再循環(huán)。借助打開的閥門12和14,來自槽10中的物質(zhì)穿過物 質(zhì)回流線^各60。通過打開的閥門36和38， KOH繼續(xù)穿過物質(zhì) 回;危線^各70。所有其它的閥門老卩是關(guān)閉的。
在第十六順次中，當(dāng)槽10中的物質(zhì)顯著的低時(shí)，閥門14一皮 關(guān)閉以阻止工具沒有^f吏用的物質(zhì)的^f壬^可部分回到才曹10中。閥門 22和24打開且閥門40關(guān)閉會(huì)導(dǎo)致來自槽20中的物質(zhì)穿過物質(zhì) 回流線路60。沒有被工具使.用的物質(zhì)的任何部分都會(huì)返回到槽 20中。沒有被工具使用的來自槽10中的任何部分物質(zhì)都被發(fā)送 纟合槽20。通過打開的閥門36和38， KOH繼續(xù)穿過物質(zhì)回流線 路70。所有其它的閥門都保持關(guān)閉狀態(tài)。
在第十七順次，當(dāng)槽10中的物質(zhì)顯著的低或者被耗盡時(shí)， 閥門12^皮關(guān)閉并且閥門50打開，以隔絕沖曹10與物質(zhì)回;危線3各 60。第四物質(zhì)，比如去離子水，^皮添加到槽10中以在準(zhǔn)備好用 于工具的新的 一批物質(zhì)之前對槽進(jìn)行沖洗和/或清潔。第四物質(zhì)可 以被返回到槽10中以用于隨后的排放，或直接地被轉(zhuǎn)移給排放 設(shè)備(未示出)。通過打開的閥門22和24,物質(zhì)乂人槽20中經(jīng)過 物質(zhì)回流線路60被提供給工具。借助打開的閥門36和38, KOH 繼續(xù)穿過物質(zhì)回流線;f各70。所有其它的閥門都保持關(guān)閉。
在第/M頃次，在KOH穿過物質(zhì)回流線^各70后，槽30可以 用去離子水填滿，或者被含有去離子水的槽30b (未示出)所替 換。通過打開的閥門36和38，去離子水穿過物質(zhì)回流線^各70, 并回到槽30b中以用于隨后的排放或者直接被發(fā)送給排放設(shè)備 (未示出)。隨著槽10的凈皮排;改，閥門50保持打開狀態(tài)以準(zhǔn)備 用于遞送給工具的物質(zhì)。通過打開的閥門22和24,物質(zhì)乂人槽20 中4皮4是供》合工具。沒有^皮工具所4吏用的物質(zhì)的4壬<可部分都返回到 槽20中。所有其它的閥門都保持關(guān)閉狀態(tài)。在第九順次，在用去離子水穿過物質(zhì)回流線^各70進(jìn)4亍第二 次沖洗之后，槽30 4皮氣體來源所替代，如氮。通過打開的閥門 36和38,氮穿過物質(zhì)回流線if各70用于隨后乂人線;洛中的釋》文。4寺 被提供給工具的物質(zhì)的構(gòu)成被引入到槽10中用于混合和隨后的 再循環(huán)。作為替代的，預(yù)先混合的物質(zhì)被直接添加給槽10中用 于再循環(huán)。通過打開的閥門50,槽10局部地回流物質(zhì)。通過打 開的閥門22和24，物質(zhì)繼續(xù)乂人槽20中穿過物質(zhì)回;充線;洛60。 所有其它的閥門都^f呆持關(guān)閉狀態(tài)。
在用氮沖洗物質(zhì)回流線^各70之后，在第十順次，閥門36和 38凈皮關(guān)閉以隔絕物質(zhì)回流線^各70。通過打開的閥門50，槽10 局部;也回流物質(zhì)。通過打開的閥門22和24，來自才曹20中的物質(zhì) 繼續(xù)穿過物質(zhì)回流線;咯60。所有其它的閥門都〗呆持關(guān)閉狀態(tài)。
在第十一順次，閥門16和18一皮打開，且閥門50^皮關(guān)閉， 夂f昔此用來自槽10中的物質(zhì)填充物質(zhì)回流線i 各70，以在將物質(zhì)遞 送給工具之前允許物質(zhì)回流線路70達(dá)到系統(tǒng)壓力。在物質(zhì)回流 線^各70中的所有物質(zhì)3皮返回到槽10中。通過打開的閥門22和 24，物質(zhì)繼續(xù)從槽20穿過物質(zhì)回流線路60到達(dá)工具。沒有被工 具<吏用的任何部分物質(zhì)從物質(zhì)回流線3各60返回到槽20中。所有 其它的閥門都保持關(guān)閉狀態(tài)。
在第十二順次，當(dāng)物質(zhì)為了應(yīng)用于工具上而穿過物質(zhì)回流線 路70時(shí)，閥門16和18都保持打開的狀態(tài)。工具可以是凈皮流體 連4妾到物質(zhì)回流線路60上的相同的工具。沒有#皮工具4吏用的4壬 何部分物質(zhì)都從物質(zhì)回流線;洛70中返回到槽10中。通過打開的 閥門22和24,物質(zhì)繼續(xù)乂人20穿過物質(zhì)回流線^各60。沒有^皮工 具使用的任何部分物質(zhì)都從物質(zhì)回流線^各60中返回到槽20中。 所有其它的閥門都4呆持關(guān)閉的狀態(tài)。在第十三順次，當(dāng)槽20中的物質(zhì)實(shí)質(zhì)上被耗盡時(shí)，閥門22 和24被關(guān)閉且閥門40被打開，以隔絕槽20和物質(zhì)回流線路60。 第四物質(zhì)，比如去離子水，此時(shí)被引入到槽20中以在準(zhǔn)備好用 于工具的新的一批物質(zhì)之前對槽進(jìn)4亍沖洗和/或清潔。第四物質(zhì)可 以尋皮返回到槽20中以用于隨后的排;故，或者被直接轉(zhuǎn)移*會(huì)排》文 i殳備(未示出)。閥門16和18 4呆持打開狀態(tài)以4吏物質(zhì)/人槽10中 穿過物質(zhì)回流線^各70。沒有^皮工具^f吏用的物質(zhì)部分^皮返回到槽 10中。對工具回流線^各60進(jìn)行沖洗可以發(fā)生在這個(gè)順次中，在 這個(gè)順次中，閥門32和34^皮打開以-使去離子水穿過物質(zhì)回流線 if各60。在物質(zhì)回流線^各60中的去離子水可以返回到?jīng)_曹30中以用 于隨后的排放，或者作為替代的其被直接發(fā)送給排放設(shè)備(未示 出)。所有其它的閥門都^f呆持關(guān)閉狀態(tài)。
在第十四順次，在去離子水穿過物質(zhì)回流線if各60之后，槽 30可以用KOH填滿，或者被含有KOH的槽30a (未示出)所替 換。閥門32和34保持打開狀態(tài)以使KOH從槽30中穿過物質(zhì)回 流線^各60。閥門16和18 4呆持打開狀態(tài)以4吏物質(zhì)乂人槽10中穿過 物質(zhì)回流線^各70。沒有—皮工具<吏用的4壬4可部分物質(zhì)都返回到槽 10中。在槽20被排放時(shí)，閥門40保持打開以準(zhǔn)備遞送給工具的 另 一批物質(zhì)。所有其它的閥門都保持關(guān)閉狀態(tài)。
在第十五順次，當(dāng)槽10中的物質(zhì)下降到一個(gè)較低水平時(shí)， 待#皮4是供*會(huì)工具的物質(zhì)的構(gòu)成#:引入到槽20中以用于隨后的再 循環(huán)。作為替代的，預(yù)先混合的物質(zhì)可以被直接添加到槽20中 用于回流。通過打開的閥門16和18，槽20局部地進(jìn)4亍回流。通 過打開的閥門16和18,物質(zhì)乂人10中穿過物質(zhì)回流線路70。KOH 繼續(xù)通過打開的閥門32和34穿過物質(zhì)回;危線^各60。所有其它的 閥門都保持關(guān)閉狀態(tài)。在第十六順次，在KOH穿過物質(zhì)回流線^各60之后，槽30 可以被去離子水填滿，或者被含有去離子水的槽30b (未示出) 所替換。去離子水通過打開的閥門32和34穿過物質(zhì)回流線路60， 并返回到槽30b中用于隨后的排放，或者直接被發(fā)送給排放設(shè)備 (未示出)。槽30通過打開的閥門40進(jìn)4亍局部地回流。通過打 開的閥門16和18，物質(zhì)從才曹10中穿過物質(zhì)回流線路70。所有 其它的閥門都保持關(guān)閉。
在第十七順次，當(dāng)槽10中的物質(zhì)顯著的^f氐時(shí)，閥門18#皮關(guān) 閉以阻止工具^殳有^f吏用的物質(zhì)的4壬4可部分返回到?jīng)_曹10中。閥門 26和28 ^皮打開且閥門50 一皮關(guān)閉，乂人而1'吏4尋才曹20中的物質(zhì)穿過 物質(zhì)回流線路70。沒有被工具使用的來自槽10或20中的任何部 分物質(zhì)^皮返回到槽20中。去離子水通過打開的閥門32和34繼 續(xù)穿過物質(zhì)回流線路60 。所有其它的閥門都保持關(guān)閉狀態(tài)。
在第十7\順次，在去離子水穿過物質(zhì)回流線i 各60進(jìn)4亍第二 次沖洗之后，槽30被氣體來源所替換，比如氮。氮通過打開的 閥門32和34穿過物質(zhì)回流線^各60以用于隨后的乂人線;洛中^皮釋 ;故。閥門50 ^皮打開，且第四物質(zhì)，比如去離子水，-陂引入到槽 20中以在準(zhǔn)備好用于工具的新的一批物質(zhì)之前對槽進(jìn)4亍沖洗和/ 或清潔。第四物質(zhì)可以^皮返回到槽20中用于隨后的4非;改，或者 直接被轉(zhuǎn)移給排放設(shè)備(未示出)。物質(zhì)通過打開的閥門26和28 繼續(xù)/人槽20中穿過物質(zhì)回流線路70.。所有其它的閥門都l呆持關(guān) 閉狀態(tài)。
在第十九順次，閥門32和34 #皮關(guān)閉以隔絕物質(zhì)回流線if各70, 此時(shí)物質(zhì)回流線路70已經(jīng)準(zhǔn)備好進(jìn)4于隨后的物質(zhì)回流線^各轉(zhuǎn)換。 槽10 一皮排;故以準(zhǔn)備另一批物質(zhì)。物質(zhì)通過打開的閥門26和28 從槽20中穿過物質(zhì)回流線路70。所有其它的閥門都保持關(guān)閉狀 態(tài)。只要工具處于4吏用中，第一個(gè)整個(gè)十九次序可以-故重復(fù)。每
因?yàn)槲镔|(zhì)遞送系統(tǒng)包4舌兩個(gè)或更多個(gè)向工具遞送物質(zhì)的線 3各，以及兩個(gè)或更多個(gè)物質(zhì)來源，所以工具可以持續(xù)不斷i也運(yùn)4亍， 即使是當(dāng)物質(zhì)供給線路按照預(yù)先規(guī)定進(jìn)行沖洗和/或清潔時(shí)，這種
及再循環(huán)給第二槽，因此死體積和物質(zhì)損失將得到降低。被流體 連4妻到 一 個(gè)物質(zhì)循環(huán)線^各上的兩個(gè)或更多個(gè)物質(zhì)來源之間的循 環(huán)傳送也可以允許結(jié)束服務(wù)的物質(zhì)循環(huán)線贈(zèng)4妄受多步?jīng)_洗。這與 典型的系統(tǒng)是相反的，在典型的系統(tǒng)中當(dāng)一個(gè)來源供應(yīng)一個(gè)4吏用 中的供給線路而第二來源供應(yīng)第二不是處于使用中的供給線路 時(shí)就會(huì)發(fā)生停才幾時(shí)間，在這種情況下，在處于4吏用中的供《會(huì)線^各 中的物質(zhì)被耗盡之前，沒有處于使用中的供給線路的多步?jīng)_洗就 不會(huì)完成。
在槽回流線^各之間進(jìn)^f亍切換(其中兩個(gè)槽回流線i 各供應(yīng)單個(gè) 物質(zhì)回流線路)的另一個(gè)優(yōu)勢是減少了線路壓力的變化，這種線 路壓力的變化會(huì)影響工具的生產(chǎn)率。在沒有處于使用中的槽回流
線路中物質(zhì)的回流可以 <吏物質(zhì)來源在其祐:流體連4妄到系統(tǒng)之前 達(dá)就到系統(tǒng)壓力，這樣可以減少或消除系統(tǒng)壓力中的下降或峰 值。近似地，在處于使用狀態(tài)中的物質(zhì)回流線路將物質(zhì)提供給工 具的同時(shí)i真充沒有處于^f吏用^l犬態(tài)的物質(zhì)回流線^各可以減少或消 除在當(dāng)沒有處于4吏用狀態(tài)中的物質(zhì)回流線蹈4皮4妄到線^各上時(shí)的 系統(tǒng)壓力的下降或峰^f直。
本發(fā)明所^>開的4是供物質(zhì)的方法可以手動(dòng)扭J亍，也可以通過 使用并入到系統(tǒng)中的控制器進(jìn)行自動(dòng)執(zhí)行。舉例來說，系統(tǒng)可以的。
情況經(jīng)常需要 間周期。由于4包括與傳感器連通的控制器以及與流體相關(guān)聯(lián)的各種不同的閥 門以處理線3各和工具。
附圖2示出本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案，在其中控制器1104皮 加入到附圖1中所示的物質(zhì)遞送系統(tǒng)中。如在附圖2中所示出的 那樣，物質(zhì)遞送系統(tǒng)200包括物質(zhì)的第一和第二來源10， 20以 及第二物質(zhì)的來源30。閥門和線^各與附圖1中所示的那些相同， 而且是以相同的參考凝:值表示的。
在附圖2中，傳感器112被布置在槽10中，傳感器114被布 置在槽20中?？梢岳斫獾氖牵谒褂玫膫鞲衅?，傳感器112 并不需要一皮;改置在才曹10和20中以才企測剩余在槽中的物質(zhì)的彩: 量。傳感器信號線^各116和118分別將來自傳感器112和114的 傳感器輸出提供給控制器110?？刂破鱅IO可以被配置以根據(jù)第 一個(gè)整個(gè)前面所討i侖的十九個(gè)順次的^f壬一或全部并^f昔助線^各112 來控制閥門12、 14、 16、 18、 22、 24、 26和28。線路120被表 示為單一線;咯以i"更于表示，然而，可以理解的是，線;洛120可以 是單一線^各，多條線路、總線網(wǎng)絡(luò)以及它們的結(jié)合。控制器110 可以 一皮配置以#4居第 一 個(gè)前面所描述的十九順次中的4壬 一 或全 部并4昔助線路122來4空制閥門32、 34、 36和38。 4專感器112和 114可以是液面?zhèn)鞲衅饕詸z測何時(shí)槽10和20中物質(zhì)的數(shù)量低于 預(yù)期水平，從而導(dǎo)致控制器啟動(dòng)閥門操作以將對主要物質(zhì)的供應(yīng) 從一個(gè)槽轉(zhuǎn)換到另一個(gè)槽。物質(zhì)遞送系統(tǒng)200的閥門才喿作的順序 與物質(zhì)遞送系統(tǒng)100的相同。
在另一個(gè)實(shí)施方案中，附加的傳感器(未示出)可以^皮;故置 在物質(zhì)遞送系統(tǒng)200的槽10和20中以提供槽10和20中物質(zhì)數(shù) 量的第二低水平的標(biāo)識(shí)，其中第二低水平標(biāo)識(shí)要小于第 一低水平 標(biāo)識(shí)。如前面所述的， 一些水平傳感器不需要被放置在槽中。舉 例來說， 一個(gè)低水平傳感器和一個(gè)低-低水平傳感器可以被放置在每個(gè)槽中。
一旦低水平傳感器檢測到剩余在槽10中的物質(zhì)達(dá)
到預(yù)先確定的數(shù)量時(shí)，就會(huì)向控制器IIO提供一個(gè)信號以使槽20 聯(lián)才幾，這時(shí)槽IO仍然繼續(xù)分發(fā)物質(zhì)。在前面所述的第六順次中， 控制器110可以被配置以打開和關(guān)閉閥門。 一旦低-低水平傳感器 才企測到剩余在槽10中的物質(zhì)達(dá)到第二預(yù)先確定的ft量時(shí)，就會(huì) 向控制器IIO提供一個(gè)信號以隔絕槽10，如在前面所述的在第七 順次中一才羊。
控制器可以使用 一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)來執(zhí)行。舉例來說， 比如那些基于Intel PENTIUM⑧型處理器、Motorola Power PC 處理器、SunUltraSPARC⑧處理器、Hewlett-Packard PA-RISC⑧處 理器或其它任何處理器以及它們結(jié)合的通用計(jì)算機(jī)。作為替代 的，所述的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)可以包括專門編程、特殊用途的硬件，舉 例來說，特定用途集成電路(ASIC)或?qū)Ｓ糜谖镔|(zhì)處理系統(tǒng)的控 制器。
計(jì)算4幾系統(tǒng)可以包括一個(gè)或多個(gè)處理器，所述的處理器典型 地被連接到一個(gè)或多個(gè)存儲(chǔ)裝置上，所述的存儲(chǔ)裝置可以包括下 列中的一個(gè)或多個(gè)，例如，》茲盤驅(qū)動(dòng)器存Y渚器、閃速存^f諸裝置、 RAM存儲(chǔ)裝置或用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的其它裝置。存儲(chǔ)器典型地被應(yīng) 用于在物質(zhì)處理系統(tǒng)和/或計(jì)算4幾系統(tǒng)的才喿作期間進(jìn)4亍程序和翁: 據(jù)的存儲(chǔ)。舉例來說，存儲(chǔ)器可以被用來存儲(chǔ)關(guān)于一段時(shí)間內(nèi)的 參數(shù)的歷史數(shù)據(jù)，以及操作數(shù)據(jù)。軟件，包括實(shí)現(xiàn)本發(fā)明實(shí)施方 案的禾呈序碼可以^皮存^f渚在計(jì)算沖幾可讀和/或可寫非易失性記錄存 儲(chǔ)器上，而且通?？梢証皮拷貝到存^f諸器中，其中它可以凈皮處理器 執(zhí)行。這種程序碼可以用多種程序語言來寫入，舉例來說，Java, Visual Basic， C， C#, 或C++、 Fortran、 Pascal、 Eiffel、 Basic、 COBAL或它們的各種組合。計(jì)算4幾系統(tǒng)的各部件可以通過一 個(gè)或多個(gè)相互連4妾才幾構(gòu)耦 合在一起，這些相互連4妄才幾構(gòu)包括一個(gè)或多個(gè)信息轉(zhuǎn)移通^各(例 如，在一皮集成在一個(gè)相同的裝置內(nèi)的各部件之間)和/或網(wǎng)*各(例 如，在存在于分開的離散的裝置中的各部件之間)。相互連接機(jī) 構(gòu)能夠在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)各部件之間進(jìn)行通訊(例如，數(shù)據(jù)、指令) 的交換。
計(jì)算機(jī)系統(tǒng)也可以包括一個(gè)或多個(gè)輸入裝置，舉例來說，4定 盤、鼠標(biāo)、跟蹤5求、麥克風(fēng)、觸^莫屏和其它的人-4幾交流裝置， 還包括一個(gè)或多個(gè)輸出裝置，例如，打印裝置、顯示屏或揚(yáng)聲器。 另外，計(jì)算才幾系統(tǒng)可以包含一個(gè)或多個(gè)界面(未示出)，所述的 界面能夠?qū)⒂?jì)算機(jī)系統(tǒng)連接到通訊網(wǎng)絡(luò)上(另外，或者作為替代 的，網(wǎng)癥各可以由計(jì)算才幾系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)部件來形成)。
才艮據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方案， 一個(gè)或多個(gè)l敘入裝置可 以包^l舌用于測量物質(zhì)處理系統(tǒng)和/或其部^f牛的參凄史的傳感器。作為 替代的，傳感器、計(jì)量閥和/或其它部件，可以被連接到通訊網(wǎng)絡(luò) 上，該通訊網(wǎng)絡(luò)被可選擇地耦合到計(jì)算機(jī)系統(tǒng)上。上述的任何一 個(gè)或多個(gè)可以^皮l馬合到另 一個(gè)計(jì)算4幾系統(tǒng)或部件上以通過一個(gè) 或多個(gè)通訊網(wǎng)絡(luò)與計(jì)算才幾系統(tǒng)進(jìn)行通信。如此配置可以允許任何 傳感器或信號產(chǎn)生裝置坐落在離子系統(tǒng)和/或控制器顯著遠(yuǎn)的位 置，和/或允許任何傳感器位于離任何子系統(tǒng)和/或控制器顯著遠(yuǎn) 的位置，而且仍可以在它們之間提供數(shù)據(jù)。這樣的通訊機(jī)構(gòu)可以 通過使用任何適合的纟支術(shù)來實(shí)現(xiàn)，包括，〗旦不限于，那些利用無 線協(xié)議的4支術(shù)。
控制器可以包括一個(gè)或多個(gè)計(jì)算才幾存〗諸介質(zhì)，比如可讀和/ 或可寫非易失性記錄介質(zhì)，在其中信號可以被存儲(chǔ)限定將被一個(gè) 或多個(gè)處理器執(zhí)行的程序。所述的介質(zhì)，舉例來說，可以是》茲盤 或閃存。在典型的操作中，處理器可以使數(shù)據(jù)(比如，實(shí)現(xiàn)本發(fā)明一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方案的代碼)從存儲(chǔ)介質(zhì)中被讀入到存儲(chǔ)器 中，所迷的存儲(chǔ)器與介質(zhì)相比允許信息更快速地-陂一個(gè)或多個(gè)處 理器存取。處理器典型的可是易失性隨才幾存取存儲(chǔ)器，比如動(dòng)態(tài)
隨才幾存取存儲(chǔ)器(DRAM)或靜態(tài)存儲(chǔ)器(SRAM)或其它有利 于處理器傳送信息的任何合適的裝置。
可以理解的是，本發(fā)明并沒有被限制在用軟件來執(zhí)行，或者 在前面所討^侖的作為可仿#文的實(shí)施例的計(jì)算才幾系統(tǒng)上來扭^亍。也 確實(shí)，例如，除了在通用計(jì)算機(jī)、控制器或他們的各部件或片段 上執(zhí)行之外，也可以作為替代的在專用系統(tǒng)中執(zhí)行，或者由專用 的可編程邏輯控制器(PLC)或在專用的控制系統(tǒng)中執(zhí)行。再者， 能夠被理解的是，本發(fā)明的 一個(gè)或多個(gè)特征或方面可以在軟件 中、力更件中、或固件中或他們的4壬<可結(jié)合中浮皮實(shí)施。舉例來i兌， 控制器所執(zhí)行的運(yùn)算法則的一個(gè)或多個(gè)片段可以在分開的計(jì)算 機(jī)中執(zhí)行，然后可以通過一個(gè)或多個(gè)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行通信。
本發(fā)明的系統(tǒng)和方法的其它的實(shí)施方案可以預(yù)期超過在此 所描述的那些可仿歲丈的實(shí)施例。
在此已經(jīng)描述了本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施方案的幾個(gè)方面，可以 理解的是，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)很容易理解其各種不同的替換、 修正和改進(jìn)。所述的替換、修正和改進(jìn)都屬于本申請公開的一部 分，而且落入到本發(fā)明的原理和保護(hù)范圍之內(nèi)。據(jù)此，前面所描 述的說明和附圖僅僅是作為實(shí)施例而提供的。
權(quán)利要求
1. 一種將物質(zhì)提供給半導(dǎo)體工具的方法，該方法包括使第一物質(zhì)穿過與工具流體連接的第一回流線路；將第一物質(zhì)的第一部分從第一回流線路中遞送給工具；以及使第一物質(zhì)穿過與工具流體連接的第二回流線路。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括中斷第 一物質(zhì)的第 一部分/人第 一回流線^^)j工具的流動(dòng)；使第一回流線路的一部分與工具隔絕，并與第一物質(zhì)的來源隔絕；以及使第二物質(zhì)穿過第 一 回流線^各的所述部分。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，進(jìn)一步包括中斷第二物質(zhì)穿過第一回流線;f各的所述部分的流動(dòng)；以及使第三物質(zhì)穿過第 一回流線^各的所述部分。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中使第一物質(zhì)穿過第二回流 線3各包4舌使來自第 一物質(zhì)的第 一來源和第二來源的第 一物質(zhì)穿過。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，進(jìn)一步包括中斷第 一物質(zhì)從第 一來源和第二來源的至少一個(gè)向第二 回;危纟戈^各的5充動(dòng)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，進(jìn)一步包括使第 一物質(zhì)從物質(zhì)的第二來源穿過第二回流線路；以及 將第 一物質(zhì)的 一部分從第二回流線路遞送給工具。
7. #4居權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括中斷第 一物質(zhì)的第 一部分/人第 一來源向第二回流線3各的 流動(dòng)；以及<吏第二物質(zhì)穿過第二回流線3各。
8. 才艮據(jù)4又利要求7所述的方法，進(jìn)一步包括中斷第二物質(zhì)向第二回流線3各的流動(dòng)；以及使第三物質(zhì)穿過第二回流線路。
9. 才艮據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，進(jìn)一步包括中斷第三物質(zhì)向第二回流線3各的流動(dòng)；以及 使一種氣體穿過第二回流線路。
10. —種物質(zhì)遞送系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括與工具流體連接的第 一 回流線路； 與工具流體連^妄的第二回流線^各；與第 一 回流線3各和工具上游的第二回流線i 各流體連4妻的 物質(zhì)的第一來源；與第 一回流線路和工具上游的第二回流線路流體連接的物質(zhì)的第二來源；以及控制器，其響應(yīng)物質(zhì)的第 一來源的物質(zhì)的預(yù)先確定的凄丈 量、物質(zhì)的第二來源的物質(zhì)的預(yù)先確定的tt量以及第 一回流 線路和第二回流線路中的至少 一個(gè)的使用操作的持續(xù)時(shí)間 中的至少 一個(gè)，該控制器纟皮配置以在第 一回流線^各和第二回 流線;洛的至少 一 個(gè)中提供實(shí)質(zhì)上恒定的物質(zhì)的流動(dòng)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的物質(zhì)遞送系統(tǒng)，進(jìn)一步包括與第一回 流線路和第二回流線路流體連接的第二物質(zhì)的來源，其中控 制器被進(jìn) 一 步配置以將第二物質(zhì)提供給第 一 回流線路和第 二回;危線^各中的一個(gè)。
12. —種物質(zhì)遞送系統(tǒng)，該系統(tǒng)包4舌與工具流體連接的第 一 回流線路； 與工具流體連接的第二回流線路；與第 一回流線路和工具上游的第二回流線路流體連接的 物質(zhì)的第一來源；與第 一回流線路和工具上游的第二回流線路流體連接的 物質(zhì)的第二來源；用于l吏物質(zhì)乂人物質(zhì)的第 一來源和物質(zhì)的第二來源中的至 少 一 個(gè)提供纟會(huì)第 一 回流線;咯和第二回流線3各中至少 一 個(gè)的 裝置；以及用于凈化第 一回流線3各和第二回流線^各中至少 一個(gè)的裝置。
全文摘要
公開的是用于將物質(zhì)遞送給工具的系統(tǒng)和方法。物質(zhì)遞送系統(tǒng)利用待被遞送給工具的兩個(gè)或更多個(gè)物質(zhì)的來源。工具的一個(gè)或多個(gè)來源可以是分批混合機(jī)。物質(zhì)遞送系統(tǒng)也包括將物質(zhì)提供給工具的至少兩個(gè)物質(zhì)遞送回流線路。這個(gè)物質(zhì)遞送系統(tǒng)可以被手動(dòng)或自動(dòng)控制以物質(zhì)的供應(yīng)從一個(gè)來源切換到另一個(gè)，或者從一個(gè)物質(zhì)遞送回流線路切換到另一個(gè)物質(zhì)遞送回流線路。
文檔編號B24B37/04GK101490815SQ200780027324
公開日2009年7月22日 申請日期2007年7月17日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月17日
發(fā)明者大衛(wèi)·凱迪耶利, 托德·格雷夫斯, 楊瑞龍 申請人:迅捷公司