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      雙盤自轉(zhuǎn)偏心v形槽研磨機的制作方法

      文檔序號:3350583閱讀:252來源:國知局
      專利名稱:雙盤自轉(zhuǎn)偏心v形槽研磨機的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及球形零件研磨裝置,特別涉及高速、高精度陶瓷球軸 承中高精度陶瓷球的精密研磨/拋光加工裝置,屬于高精度球形零件加 工技術(shù)。
      技術(shù)背景高精度球是是圓度儀、陀螺、軸承和精密測量中的重要元件,并 常作為精密測量的基準,在精密設(shè)備和精密加工中具有十分重要的地 位。特別是在球軸承中大量使用,是球軸承的關(guān)鍵零件,軸承球的精 度(球形偏差、球直徑變動量和表面粗糙度)直接影響著球軸承的運 動精度、噪聲及壽命等技術(shù)指標,進而影響設(shè)備、儀器的性能。與傳統(tǒng)的軸承鋼球材料(GCrl5)相比,氮化硅等先進陶瓷材料具有耐磨、 耐高溫、耐腐蝕、無磁性、低密度(為軸承鋼的40%左右),熱脹系 數(shù)小(為軸承鋼的25%)及彈性模量大(為軸承鋼的1.5倍)等一系 列優(yōu)點,被認為是制造噴氣引擎、精密高速機床、精密儀器中高速、 高精度及特殊環(huán)境下工作軸承球的最佳材料。由于氮化硅等先進陶瓷 屬硬脆難加工材料,材料燒結(jié)后的陶瓷球毛坯主要采用磨削(粗加工) —研磨(半精加工)一拋光(精加工)的方法進行加工。對于陶瓷球 的研磨/拋光工藝而言,加工過程采用游離磨料,在機械、化學(xué)效應(yīng) 的作用下,對陶瓷球坯表面材料進行微小的去除,以達到提高尺寸精 度,提高表面完整性的目的。傳統(tǒng)的陶瓷球研磨/拋光加工主要是在 加工鋼質(zhì)軸承球的V形槽研磨設(shè)備上進行的,采用硬質(zhì)、昂貴的金剛石磨料作為磨料,加工周期長(完成一批陶瓷球需要幾周時間)。 漫長的加工過程以及昂貴的金剛石磨料導(dǎo)致了高昂的制造成本,限制 了陶瓷球的應(yīng)用。隨著儀器設(shè)備精度的不斷提高,對陶瓷球等特殊材 質(zhì)球體的加工精度提出了更高的要求,同時需要提高加工效率和一致 性以降低生產(chǎn)成本。研磨/拋光裝置對陶瓷球的研磨精度和效率有著重要的影響。研 磨過程中,球坯和研具的研磨方式直接決定了球坯的研磨成球運動。 而在保證毛坯球本身質(zhì)量和其它加工條件(壓力、速度、磨料)的前 提下,研磨跡線能否均勻覆蓋球面是高效研磨球坯,提高球度,獲得 高精密球的關(guān)鍵。因此,必須對研磨/拋光裝置的運行過程及陶瓷球 在研磨/拋光過程的運動狀態(tài)進行深入分析,掌握影響精度和效率的 原因,才能為陶瓷球的加工提供合理的設(shè)備和相應(yīng)的加工工藝。對于陶瓷球的研磨加工,國內(nèi)外已有一些相應(yīng)的加工裝置,如 V形槽研磨加工裝置、圓溝槽研磨加工裝置、錐形盤研磨加工裝置、 自轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置、磁懸浮研磨加工裝置等。在V形槽研磨 加工裝置、圓溝槽研磨加工裝置、錐形盤研磨加工裝置等設(shè)備的加工 過程中,球坯只能作"不變相對方位"研磨運動,即球坯的自旋軸對 公轉(zhuǎn)軸的相對空間方位固定,球坯繞著一固定的自旋軸自轉(zhuǎn)。實踐和 理論分析都表明"不變相對方位"研磨運動對球的研磨是不利的,球 坯與研磨盤的接觸點在球坯表面形成的研磨跡線是一組以球坯自轉(zhuǎn) 軸為軸的圓環(huán),研磨盤沿著三接觸點的三個同軸圓跡線對球坯進行 "重復(fù)性"研磨,不利于球坯表面迅速獲得均勻研磨,在實際加工中 需要依靠球坯打滑、攪動等現(xiàn)象,使球坯的自旋軸與公轉(zhuǎn)軸的相對工 件方位發(fā)生緩慢變化,達到均勻研磨的目的,但這種自旋角的變化非常緩慢,是隨機、不可控的,從而限制了加工的球度和加工效率。自 轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置具有可獨立轉(zhuǎn)動的三塊研磨盤,可以通過控制 研磨盤轉(zhuǎn)速變化來調(diào)整球坯的自旋軸的方位,球坯能作"變相對方位" 研磨運動,球坯表面的研磨跡線是以球坯自轉(zhuǎn)軸為軸的空間球面曲 線,能夠覆蓋大部分甚至整個球坯表面,有利于球坯表面獲得均勻、 高效的研磨。但裝置動力源多,結(jié)構(gòu)及控制系統(tǒng)復(fù)雜,對制造和裝配 精度都有較高的要求,加工成本高。陶瓷球磁懸浮研磨加工的主要特 征是采用磁流體技術(shù)實現(xiàn)對球坯的高效研磨,除了對球坯的加壓的方 式不同外,其研磨運動方式同V形槽研磨加工和錐形盤研磨加工中 的運動方式基本相同,因此,在其加工過程中球度同樣受到了限制。 磁懸浮研磨加工裝置和控制復(fù)雜,磁流體的成本也較高。因此,對于陶瓷球等難加工材料高精度球的加工,急需一種既有 較高的加工精度和加工效率,又具有結(jié)構(gòu)簡單,制造成本較低的陶瓷 球研磨/拋光加工設(shè)備。 發(fā)明內(nèi)容為了克服已有球形零件研磨裝置的不能兼顧加工精度效率和成本 的不足,本發(fā)明提供一種結(jié)構(gòu)簡單、制造成本低,同時具有較高的加 工精度和加工效率的雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,包括機架、安裝在機架上的上 研磨盤和下研磨盤,所述上研磨盤安裝在上研磨盤主軸上,所述上研 磨盤主軸連接上研磨盤驅(qū)動電機,所述下研磨盤連接下研磨盤驅(qū)動電 機,所述上研磨盤和下研磨盤上下布置,所述機架包括機體和上支架, 所述上支架可轉(zhuǎn)動地安裝在機體上端,所述上支架上安裝上研磨盤,所述機體上安裝下研磨盤,所述下研磨盤上表面開有至少三條以上供 放置球坯的V形槽,所述的各條V形槽為同心圓,所述同心圓的圓心 與下研磨盤的圓心重合,所述上研磨盤與下研磨盤相互偏心。作為優(yōu)選的一種方案所述上支架包括立柱和橫梁,所述立柱固 定安裝在機體上,所述橫梁可轉(zhuǎn)動地安裝在立柱上端,所述橫梁上安 裝上研磨盤主軸。作為優(yōu)選的另一種方案所述橫梁上安裝加壓裝置,所述加壓裝 置下端連接可調(diào)節(jié)下壓行程的加壓桿,所述加壓桿一端套裝在上研磨 盤主軸上,所述加壓桿一端壓在內(nèi)置蝶形彈簧的法蘭盤上,所述法蘭 盤套裝在上研磨主軸上,所述法蘭盤的下端與上研磨盤固定連接。進一步,所述法蘭盤連接測力計。所述下研磨盤上開有三條V形槽,當然,V形槽的條數(shù)也可以為3條、4條、5條、7條,甚至更多條,可以根據(jù)實際需要進行配置。本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思為雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機采用上下兩塊 研磨盤構(gòu)成研磨組件。上、下研磨盤各自由獨立電機通過驅(qū)動軸帶動, 轉(zhuǎn)速可調(diào)。下研磨盤上端面開多道V形槽,與同軸三盤、磁流體研磨 方式相比,更適用于大批量生產(chǎn)。上研磨盤的回轉(zhuǎn)主軸不經(jīng)過下研磨盤的v形槽的中心,即上下兩研磨盤的回轉(zhuǎn)中心不同軸,球坯與上研磨盤的接觸點將沿上盤徑向移動。該種方式對上下研磨盤的中心同軸要求不高,但能使研磨軌跡不斷變化,與v形槽研磨方式相比,能獲得更好的球形偏差。上研磨盤和下研磨盤不同偏心距的設(shè)置通過連接 立柱的橫梁的轉(zhuǎn)動實現(xiàn)。加壓裝置(可以是液壓、氣壓或機械加壓) 安裝于橫梁中間。加壓桿下端連接上研磨盤,加壓桿可上下移動實現(xiàn)上研磨盤的升降。當上研磨盤與球坯接觸后,加壓桿把壓力通過內(nèi)置 蝶形彈簧的法蘭盤傳遞至上研磨盤,對球坯施加加工載荷。通過調(diào)整 加壓桿的下壓行程條件加工載荷,壓力值可以通過測力計顯示。上研 磨盤的位置完全由加壓桿的行程決定, 一旦行程定下來,上研磨盤的 位置就不動了,保證了穩(wěn)定加壓。本發(fā)明的有益效果主要表現(xiàn)在1、 上、下研磨盤各自由獨立電機驅(qū)動,上研磨盤有一定的周向轉(zhuǎn)速,且 上、下研磨盤存在偏心距可調(diào),使得槽內(nèi)球坯表面研磨軌跡更加均勻 性,能獲得更好的球形偏差;2、下研磨盤可開多道V形槽,球坯自轉(zhuǎn)軸可在180。范圍內(nèi)擺動,且各槽內(nèi)球坯的研磨方式均勻性相同,加工一致性好,更適用于大批量生產(chǎn);3、在加工精度、效率及機械結(jié)構(gòu)上具有明顯的綜合優(yōu)勢。


      圖1是本發(fā)明給出的其中一個實施實例的結(jié)構(gòu)示意圖,為研磨裝 置整體圖。圖2是本發(fā)明研磨機理圖。圖3是本發(fā)明下精密球表面研磨跡線仿真示意圖。 圖4是加壓裝置的示意圖。
      具體實施方式
      下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步描述。參照圖1 圖4, 一種雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,包括機架、 安裝在機架上的上研磨盤12和下研磨盤13,所述上研磨盤12連接上 研磨盤主軸,所述上研磨盤主軸連接上研磨盤驅(qū)動電機8,所述下研 磨盤13連接下研磨盤主軸,所述下研磨盤主軸連接下研磨盤驅(qū)動電機1,所述上研磨盤12和下研磨盤13上下布置,所述機架包括機體2 和上支架,所述上支架可轉(zhuǎn)動地安裝在機體上端,所述上支架上安裝上研磨盤12,所述機體2上安裝下研磨盤13,所述下研磨盤13上表 面開有至少三條以上供放置球坯的V形槽,所述的各條V形槽為同心 圓,所述同心圓的圓心與下研磨盤的圓心重合,所述上研磨盤12與下 研磨盤13相互偏心。所述上支架包括立柱3和橫梁6,所述立柱3固定安裝在機體2 上,所述橫梁6可轉(zhuǎn)動地安裝在立柱3上端,所述橫梁6上安裝上研 磨盤主軸。所述橫梁6上安裝加壓裝置7,所述加壓裝置7下端連接可調(diào)節(jié) 下壓行程的加壓桿4,所述加壓桿4 一端套裝在上研磨盤主軸上,所 述加壓桿一端壓在內(nèi)置蝶形彈簧的法蘭盤11上,所述法蘭盤11的下 端與上研磨盤12連接,所述法蘭盤11的上端與上研磨盤主軸9固定 連接,所述法蘭盤套裝在上研磨主軸上,所述法蘭盤的下端與上研磨 盤固定連接。所述下研磨盤主軸14通過傳動皮帶15與下研磨盤驅(qū)動電機1的 輸出軸連接。法蘭盤11連接測力計10。法蘭盤11包括上法蘭盤和下法蘭盤, 中間放了碟形彈簧, 一起組成一個整體傳遞力的機構(gòu);其中下法蘭盤 固定在上研磨盤上,上法蘭盤位于彈簧上面,與加壓桿緊密接觸。所述下研磨盤13上開有三條V形槽,當然,V形槽的條數(shù)也可 以為3條、4條、5條、7條,甚至更多條,可以根據(jù)實際需要進行配 置。如圖l所示,本發(fā)明給出的其中一種雙自轉(zhuǎn)研磨盤高效陶瓷球研 磨裝置包括有上研磨盤、下研磨盤、研磨盤主軸、立柱、加壓裝置、傳動機構(gòu)、驅(qū)動電機等組成。上研磨盤12通過橫梁6與立柱3連接。 橫梁6可以轉(zhuǎn)動,帶動上研磨盤12的轉(zhuǎn)動,實現(xiàn)上研磨盤12與下研 磨盤13的偏心。加壓裝置7下端連接加壓桿4。加壓桿4 一端套裝在 上研磨盤主軸上,所述加壓桿一端壓在法蘭盤11的上法蘭盤上,上研 磨盤12安裝在法蘭盤11的下法蘭盤的下端,通過加壓桿4的上下移 動來實現(xiàn)上研磨盤12的升降。當上研磨盤12與球坯接觸后,加壓桿 4把壓力通過內(nèi)置蝶形彈簧的法蘭盤傳遞至上研磨盤12,對球坯施加 加工載荷。通過調(diào)整加壓桿4的下壓行程給出加工載荷,壓力值可以 通過測力計10顯示。上研磨盤的位置完全由加壓桿4的行程決定,一 旦行程定下來,上研磨盤的位置就不動了,保證了穩(wěn)定加壓。研磨盤 13開多道V行槽,用于放置批量球坯。上、下研磨盤分別由電機通過 驅(qū)動帶驅(qū)動,獨立轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)速可調(diào)。
      權(quán)利要求
      1. 一種雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,包括機架、安裝在機架上的上研磨盤和下研磨盤,所述上研磨盤安裝在上研磨盤主軸上,所述上研磨盤主軸連接上研磨盤驅(qū)動電機,所述下研磨盤連接下研磨盤驅(qū)動電機,所述上研磨盤和下研磨盤上下布置,其特征在于所述機架包括機體和上支架,所述上支架可轉(zhuǎn)動地安裝在機體上端,所述上支架上安裝上研磨盤,所述機體上安裝下研磨盤,所述下研磨盤上表面開有至少三條以上供放置球坯的V形槽,所述的各條V形槽為同心圓,所述同心圓的圓心與下研磨盤的圓心重合,所述上研磨盤與下研磨盤相互偏心。
      2、 如權(quán)利要求1所述的雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,其特征在于 所述上支架包括立柱和橫梁,所述立柱固定安裝在機體上,所述橫梁 可轉(zhuǎn)動地安裝在立柱上端,所述橫梁上安裝上研磨盤主軸。
      3、 如權(quán)利要求2所述的雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,其特征在于 所述橫梁上安裝加壓裝置,所述加壓裝置下端連接可調(diào)節(jié)下壓行程的 加壓桿,所述加壓桿一端套裝在上研磨盤主軸上,所述加壓桿一端壓 在內(nèi)置蝶形彈簧的法蘭盤上,所述法蘭盤套裝在上研磨主軸上,所述 法蘭盤的下端與上研磨盤固定連接。
      4、 如權(quán)利要求2所述的雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,其特征在于所述法蘭盤連接測力計。
      5、 如權(quán)利要求4所述的雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,其特征在于所述下研磨盤上開有三條v形槽。
      全文摘要
      一種雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機,包括機架、安裝在機架上的上研磨盤和下研磨盤,所述上研磨盤安裝在上研磨盤主軸上,所述上研磨盤主軸連接上研磨盤驅(qū)動電機,所述下研磨盤連接下研磨盤驅(qū)動電機,所述上研磨盤和下研磨盤上下布置,所述機架包括機體和上支架,所述上支架可轉(zhuǎn)動地安裝在機體上端,所述上支架上安裝上研磨盤,所述機體上安裝下研磨盤,所述下研磨盤上表面開有至少三條以上供放置球坯的V形槽,所述的各條V形槽為同心圓,所述同心圓的圓心與下研磨盤的圓心重合,所述上研磨盤與下研磨盤相互偏心。本發(fā)明提供一種結(jié)構(gòu)簡單、制造成本低,同時具有較高的加工精度和加工效率的雙盤自轉(zhuǎn)偏心V形槽研磨機。
      文檔編號B24B11/00GK101279434SQ20081006146
      公開日2008年10月8日 申請日期2008年5月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月4日
      發(fā)明者呂冰海, 張克華, 王志偉, 袁巨龍, 苗 錢, 鋒 陳, 黎 陶 申請人:浙江工業(yè)大學(xué);湖南大學(xué)
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