專利名稱:平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實用新型涉及的是一種隔離結(jié)構(gòu),特別涉及的是一種平面陰極采用隔離 冷卻結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
磁控濺射鍍膜工藝是70年代后發(fā)展起來的新型鍍膜工藝,其是通過電子在 電場作用下加速飛向基片的過程中與惰性氣體氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的 氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,賊射出 大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。同時二次電 子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等 離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶 面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰 撞因此電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低, 擺脫磁力線的束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,從而提高工 作氣體的電離率和有效利用電子的能量。
對于平面陰極的冷卻是其中重要的一環(huán),目前市場上此類產(chǎn)品仍多采用非 隔離式冷卻方式,然而目前非隔離式冷卻方式的產(chǎn)品存在的一些弊端,由于將 磁鋼直接浸泡于冷卻水中,這就導(dǎo)致在長期的工作狀態(tài)下,循環(huán)的冷卻水中的 雜質(zhì)不斷吸附于》茲鋼表面,使得-磁鋼表面不清潔,從而影響》茲鋼表面磁場的強 度和均勻性,最終導(dǎo)致生產(chǎn)出的產(chǎn)品的膜層厚度不均勻等缺陷。
鑒于上述缺陷,本發(fā)明創(chuàng)作者經(jīng)過長期的研究和實踐,終于獲得了一種平 面陰極采用隔離冷卻結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于,提供一種平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),用以克服上 述缺陷。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案在于,提供一種平面陰極用
隔離冷卻結(jié)構(gòu),其設(shè)置在一平面陰極上,其包括 一基座,所述的基座上開有 槽體,并具有一進水口以及一出水口 ,在所述槽體兩側(cè)設(shè)置有多組磁鋼,其中, 還包括
一隔離水槽,其設(shè)置在所述的基座上,具有一用來盛裝冷卻液體的凹槽, 并置于所述的基座的槽體內(nèi),將所述的磁鋼與所述的冷卻液體相分離;
在所述的隔離水槽的邊緣設(shè)有密封圈,其上設(shè)有 一蓋板用以固定密封圏及 與上面部件相隔離;
較佳的,所述的隔離水槽為一體成型的環(huán)形槽體結(jié)構(gòu);
較佳的,所述的隔離水槽的凹槽底部與所述的基座之間設(shè)有用以承重的支 撐塊。
較佳的,在所述的隔離水槽的凹槽底部上設(shè)有一進水口以及一出水口 ,通 過一進水管以及出水管與所述基座槽體上的進水口以及出水口相對應(yīng);
較佳的,還包括 一隔水塊,緊密設(shè)置于所述隔離水槽凹槽底部的進水口 以及出水口之間,其邊緣與所述的隔離水槽凹槽相吻合;
較佳的,還包括一分流隔離板,其為一環(huán)形板,設(shè)置于所述的環(huán)形隔離水 槽的曲率最大處;
較佳的,所述的隔離水槽的邊緣設(shè)有通孔,用以通過螺栓和所述的基座相 固接;
較佳的,所述的隔離水槽的凸起處與所述的基座之間也設(shè)有支撐塊,用以 防止所述的隔離水槽的凹槽變形;
較佳的,所述隔離水槽的凹槽兩端邊緣處各焊接有多個金屬小片,用以放 置、固定密封圈。
與現(xiàn)有技術(shù)比較本實用新型的有益效果在于,既起到了冷卻耙材的作用又 將磁鋼與冷卻液體相隔離,起到了保護磁鋼的作用;由于磁鋼不直接浸泡于冷 卻液體中,所以磁鋼能較長時間的保持表面清潔,從而延長了其使用壽命,更 為重要的是,這種長時間保持磁鋼表面清潔的方法更進 一 步保證了磁鋼表面磁 場的強度和均勻程度,大大提高了濺射質(zhì)量;故此種磁鋼隔離式冷卻方式遠遠 優(yōu)于磁鋼浸泡式冷卻方式。
圖1為本實用新型平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu)的剖視圖2為本實用新型平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu)中隔離水槽的主視圖。
附圖標(biāo)記說明1-蓋板;2-隔離水槽;21 -凹槽;3-磁鋼;4-基座;
51-密封圏;52-平臺;62、 61 -支撐塊;7 -通孑L; 81-進水口; 82-出水口;
91 -隔水板;92 -分流隔離板。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖,對本新型上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點作更詳細的說明 請參閱圖l所示,其為本實用新型平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu)的剖視圖,其是 在原有的基礎(chǔ)上,增加了隔水結(jié)構(gòu),其整體設(shè)置在一平面陰極上,其包括一 基座4,所述的基座4上開有槽體,并具有一進水口以及一出水口 (圖中為示), 在所述槽體兩側(cè)設(shè)置有多組磁鋼3,在所述的隔離水槽的邊緣設(shè)有密封圈51, 其上設(shè)有一蓋板1用以固定密封圈及與上面部件相隔離;還包括 一 隔離水槽2, 其設(shè)置在所述的基座4上,具有用來盛裝冷卻液體的凹槽21,并置于所述的基 座4的槽體內(nèi),將所述的^f茲鋼51與所述的冷卻液體相分離;所述的隔離水槽2 為一體成型的環(huán)形槽體結(jié)構(gòu),所以其才會嵌設(shè)在所述的基座4開有槽體上;為 了使其保證所述隔離水槽2在盛裝冷卻液時具有足夠的強度和承重能力,在所 述的隔離水槽2的凹槽21底部與所述的基座4之間設(shè)有用以承重的支撐塊61; 同時所述的隔離水槽2的凸起處與所述的基座4之間也設(shè)有支撐塊62,用以防 止所述的隔離水槽2的凹槽21盛壓造成變形。
對于用以起到冷卻作用的液體,是在所述的隔離水槽的環(huán)形凹槽21內(nèi)部循 環(huán)的,請參閱圖2所示,其為本實用新型平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu)中隔離水槽 的主視圖,其勢必需要一個進水和一個出水口,進而在所述的隔離水槽的凹槽 21底部上設(shè)有一進水口 81以及一出水口 82,通過一進水管以及出水管與所述 基座4槽體上的進水口以及出水口相對應(yīng)(圖中未示)。
由于從所述進水口 81進入所述隔離水槽凹槽21的冷卻液體溫度比較低, 而經(jīng)過循環(huán)后的冷卻液體的溫度會升高,為了使所述的進水口 81的液體和從出 水口 82排出的液體不至于混合而影響冷卻效果,還包括 一隔水塊91,緊密設(shè) 置于所述隔離水槽凹槽21底部的進水口 81以及出水口 82之間,其邊緣與所述 的隔離水槽凹槽21的弧度相吻合,其可以采用焊接方式結(jié)合在一起,上端還要 設(shè)置一密封件,防止冷卻液混合。
由于從所述進水口 81進入的冷卻液體沿隔離水槽凹槽21前進,因此在環(huán) 形隔離水槽21的曲率最大處自然會產(chǎn)生相對比較大的沖擊和壓力,為了避免造 成不良的影響,其還包括一分流隔離板92,其為一環(huán)形板,設(shè)置于所述的環(huán)形 隔離水槽21的曲率最大處,自然的將液體分成兩路,從而減少了對一側(cè)隔離水 槽凹槽21的壓力。
為了可以將所述的隔離水槽2與基座4固定好,所述的隔離水槽4的邊緣 設(shè)有若干通孔7,用以通過螺栓和所述的基座4上相對應(yīng)的螺孔相固接,這樣可 以保證結(jié)合的強度,以及隔離水槽2形狀的穩(wěn)定。
同時也為了防止液體由于封閉不良流出,還要進行密封,所述隔離水槽2 的凹槽兩端邊緣處各焊接有多個金屬小片52,用以放置、固定密封圏,同時所 述隔離水槽2的凸起處也要設(shè)置密封圏51,從而保證進出水有相對獨立的流通 通道,不至于混流。
綜上,此種設(shè)計方法將隔離水槽置于平面陰極磁鋼與濺射靶材之間,并在 隔離水槽上方壓蓋一蓋板,使之與上面部分相分離,再采用外圍密封和中間密 封將冷卻液體很好的密封在隔離水槽內(nèi)部,冷卻液體通過凹槽循環(huán)冷卻平面陰 極,隔離水槽周邊做有通孔,用螺栓通過通孔固定在平面陰極基座上,這樣就 起到了隔離冷卻、密封、固定等作用。
以上說明對本新型而言只是說明性的,而非限制性的,本領(lǐng)城普通技術(shù)人 員理解,在不脫離以下所附權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下,可做出許 多修改,變化,或等效,但都將落入本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其設(shè)置在一平面陰極上,其包括一基座,所述的基座上開有槽體,并具有一進水口以及一出水口,在所述槽體兩側(cè)設(shè)置有多組磁鋼,其特征在于,還包括一隔離水槽,其設(shè)置在所述的基座上,具有一用來盛裝冷卻液體的凹槽,并置于所述的基座的槽體內(nèi),將所述的磁鋼與所述的冷卻液體相分離;在所述的隔離水槽的邊緣設(shè)有密封圈,其上設(shè)有一蓋板,用以固定密封圈及與上面部件相隔離。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的 隔離水槽為一體成型的環(huán)形槽體結(jié)構(gòu)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的 隔離水槽的凹槽底部與所述的基座之間設(shè)有用以承重的支撐塊。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,在所述 的隔離水槽的凹槽底部上設(shè)有一進水口以及一 出水口 ,通過一進水管以及出水 管與所述基座槽體上的進水口以及出水口相對應(yīng)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括 一隔水塊,緊密設(shè)置于所述隔離水槽凹槽底部的進水口以及出水口之間,其邊 緣與所述的隔離水槽凹槽相吻合。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括 一分流隔離板,其為一環(huán)形板,設(shè)置于所述的環(huán)形隔離水槽的曲率最大處。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的 隔離水槽的邊緣設(shè)有通孔,用以通過螺栓和所述的基座相固接。
8、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的 隔離水槽的凸起處與所述的基座之間也設(shè)有支撐塊,用以防止所述的隔離水槽 的凹槽變形。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其特征在于,所述隔 離水槽的凹槽兩端邊緣處各焊接有多個金屬小片,用以放置、固定密封圈。
專利摘要本實用新型為一種平面陰極用隔離冷卻結(jié)構(gòu),其設(shè)置在一平面陰極上,其包括一基座,所述的基座上開有槽體,并具有一進水口以及一出水口,在所述槽體兩側(cè)設(shè)置有多組磁鋼,其中,還包括一隔離水槽,其設(shè)置在所述的基座上,具有一用來盛裝冷卻液體的凹槽,并置于所述的基座的槽體內(nèi),將所述的磁鋼與所述的冷卻液體相分離。在所述的隔離水槽的邊緣設(shè)有密封圈,其上設(shè)有一蓋板用以固定密封圈及與上面部件相隔離。
文檔編號C23C14/35GK201183821SQ20082000872
公開日2009年1月21日 申請日期2008年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月26日
發(fā)明者何光俊, 施玉安 申請人:上海北玻鍍膜技術(shù)工業(yè)有限公司