專利名稱：濺射金屬膜機(jī)臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體制造機(jī)械領(lǐng)域，特別涉及濺射金屬膜機(jī)臺(tái)。
技術(shù)背景現(xiàn)有技術(shù)中的賊射金屬膜機(jī)臺(tái)(如美國瓦里安公司磁控濺射機(jī)臺(tái)M2i), 如圖1所示，包括用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的腔體11、腔體11外接的Ar (氬)氣 體管路12。 Ar氣體管路12另一端連接廠務(wù)氣體系統(tǒng)，使得廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供 的Ar氣體進(jìn)入腔體11。 Ar氣體管路12串接一電磁閥121，腔體11還外接去 除腔體真空的N2(氮)氣體管路13，管路13的另一端連接廠務(wù)氣體系統(tǒng)， 使得廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供的用于去除腔體真空的N2氣體進(jìn)入腔體11,不參與反 應(yīng)，在管路13串接一電磁閥132。在需進(jìn)行工藝反應(yīng)時(shí)，打開電磁閥121，廠 務(wù)氣體系統(tǒng)中的Ar氣體經(jīng)Ar氣體管路12進(jìn)入腔體11進(jìn)行工藝反應(yīng)。待工藝 反應(yīng)完成后，為了保養(yǎng)腔體ll,關(guān)閉電磁閥121,抽出腔體11內(nèi)的Ar氣體， 此時(shí)腔體ll內(nèi)處于真空狀態(tài)，打開電磁閥132，廠務(wù)氣體系統(tǒng)中去除腔體真空 的N2氣體經(jīng)管路13進(jìn)入腔體11?，F(xiàn)有M2i濺射金屬膜機(jī)臺(tái)，因?yàn)槿コ惑w 真空的N2氣體本身參數(shù)(如濃度、純度)的問題，僅是用于去除腔體真空， 不參加工藝反應(yīng)，因此現(xiàn)有濺射金屬膜機(jī)臺(tái)不能進(jìn)行生成TiN的工藝反應(yīng)。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題為現(xiàn)有濺射金屬膜機(jī)臺(tái)不能進(jìn)行生成 TiN的工藝反應(yīng)，為了實(shí)現(xiàn)利用現(xiàn)有濺射金屬膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行生成TiN的工藝反應(yīng)。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了 一種濺射金屬膜機(jī)臺(tái)， 包括用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的腔體11,腔體11外接用于引入氬氣氣體的管路12和用于引入去除腔體真空的氮?dú)鈿怏w的管路13，管路12上串接開關(guān)121,管 路13上串接開關(guān)132，其中上述管路13的靠近腔體部分131 —端與腔體11 相連，另一端通過三通4妄頭14連接管路13的遠(yuǎn)離腔體部分133和用于引入用 于反應(yīng)的氮?dú)鈿怏w的管路15，管路15上串接開關(guān)151,開關(guān)121和開關(guān)151 與聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)16相連，所述聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)16用于當(dāng)開關(guān)121打開時(shí)，打開開關(guān)151, 當(dāng)開關(guān)121關(guān)閉時(shí)，關(guān)閉開關(guān)151，開關(guān)132串接于管路13的遠(yuǎn)離腔體部分 133。本實(shí)用新型的有益效果由上述本實(shí)用新型提供的具體實(shí)施方案可以看出， 正是由于新增用于接入N2反應(yīng)氣體的管路15，使得改造后的濺射金屬膜機(jī)臺(tái) 能夠接入N2反應(yīng)氣體，并進(jìn)行生成TiN的工藝反應(yīng)。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)濺射金屬膜機(jī)臺(tái)結(jié)構(gòu)圖；圖2為本實(shí)用新型提供的第一實(shí)施例濺射金屬膜機(jī)臺(tái)結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型通過新增用于接入N2反應(yīng)氣體的管路15,使得改造后的濺射 金屬膜機(jī)臺(tái)能夠接入N2反應(yīng)氣體，并進(jìn)行生成TiN的工藝反應(yīng)。下面結(jié)合本實(shí)用新型的具體實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明，本 實(shí)用新型提供的第一實(shí)施例是一種濺射金屬膜機(jī)臺(tái)，其結(jié)構(gòu)如圖2所示，包括 用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的腔體11、腔體11外接用于引入Ar氣體的管路12。 Ar氣 體管路12另一端連接廠務(wù)氣體系統(tǒng)，使得廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供的Ar氣體進(jìn)入腔 體ll， Ar氣體管路12串接一電磁閥121。腔體11外接用于引入去除腔體真空 的N2氣體的管路13，管路13的靠近腔體部分131—端與腔體11相連，另一 端通過三通接頭14連接管路13的遠(yuǎn)離腔體部分133，遠(yuǎn)離腔體部分133串接 電磁閥132,遠(yuǎn)離腔體部分133的另一端連接廠務(wù)氣體系統(tǒng)，使得廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供的用于去除腔體真空的N2氣體進(jìn)入腔體11，三通接頭14的另一端連 接用于引入用于反應(yīng)的N2氣體的管路15,管路15上串接電磁閥151，電磁閥 121和電》茲閥151與聯(lián)動(dòng)4幾構(gòu)16相連，聯(lián)動(dòng)才幾構(gòu)16用于當(dāng)電石茲閥121打開時(shí)， 打開電^f茲閥151,當(dāng)電》茲閥121關(guān)閉時(shí)，關(guān)閉電》茲閥151。管if各15的另一端連 接廠務(wù)氣體系統(tǒng)，使得廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供的N2反應(yīng)氣體進(jìn)入腔體11 。為了增加對(duì)N2反應(yīng)氣體的過濾，管路15串接過濾器153和過濾器154， 為了對(duì)N2反應(yīng)氣體進(jìn)行流量控制，管路15串接流量控制器152，過濾器153、 電磁閥151、流量控制器152和過濾器154的接口用Gaskit (金屬密封圈)依 次連接起來，之后通過過濾器154與三通接頭14連接，流量控制器152為節(jié) -虎閥或減壓閥。在需進(jìn)行工藝反應(yīng)時(shí)，開關(guān)電磁閥151的信號(hào)用的是開關(guān)電磁閥121的信 號(hào)。當(dāng)開關(guān)電磁閥121的信號(hào)發(fā)生時(shí)，電磁閥151打開，廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供的 N2反應(yīng)氣體才會(huì)進(jìn)入腔體11參加反應(yīng)。打開電磁閥121和電磁閥151 (此時(shí) 電磁閥132為關(guān)閉狀態(tài))，廠務(wù)氣體系統(tǒng)中的Ar氣體經(jīng)Ar氣體管路12進(jìn)入腔 體ll,廠務(wù)氣體系統(tǒng)提供的N2反應(yīng)氣體經(jīng)管路15進(jìn)入腔體11, N2反應(yīng)氣體 和Ar氣體一起進(jìn)入腔體后，產(chǎn)生等離子轟擊Ti靶材，被擊出的Ti原子與電離 的N+反應(yīng)生成TiN淀積在晶片上。待工藝反應(yīng)完成后，為了保養(yǎng)腔體ll，關(guān) 閉電磁閥121和電磁閥151，抽出腔體ll內(nèi)的Ar氣體和N2反應(yīng)氣體，此時(shí) 腔體11內(nèi)處于真空狀態(tài)，打開電磁閥131，廠務(wù)氣體系統(tǒng)中去除腔體真空的 N2氣體經(jīng)管路13進(jìn)入腔體11。本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí) 用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng) 和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種濺射金屬膜機(jī)臺(tái)，包括用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的腔體(11)，腔體(11)外接用于引入氬氣氣體的管路(12)和用于引入去除腔體真空的氮?dú)鈿怏w的管路(13)，管路(12)上串接開關(guān)(121)，管路(13)上串接開關(guān)(132)，其特征在于，管路(13)的靠近腔體部分(131)一端與腔體(11)相連，另一端通過三通接頭(14)連接管路(13)的遠(yuǎn)離腔體部分(133)和用于引入用于反應(yīng)的氮?dú)鈿怏w的管路(15)，管路(15)上串接開關(guān)(151)，開關(guān)(121)和開關(guān)(151)與聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)(16)相連，所述聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)(16)用于當(dāng)開關(guān)(121)打開時(shí)，打開開關(guān)(151)，當(dāng)開關(guān)(121)關(guān)閉時(shí)，關(guān)閉開關(guān)(151)，開關(guān)(132)串接于管路(13)的遠(yuǎn)離腔體部分(133)。
2、 如權(quán)利要求1所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述開關(guān)(121 )、開關(guān)(132) 和開關(guān)(151 )為電石茲閥。
3、 如權(quán)利要求2所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述管路(15)上還串接有 流量控制器(152)。
4、 如權(quán)利要求3所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，流量控制器(152)為節(jié)流閥。
5、 如權(quán)利要求3所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，流量控制器(152)為減壓閥。
6、 如權(quán)利要求3所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述管路(15)上還串接有 過濾器(153)。
7、 如權(quán)利要求6所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述管路(15)上還串接有 過濾器(154),所述開關(guān)(151)位于過濾器(153)和過濾器(154)之間， 過濾器(154)與三通4妄頭(14)相連接。
8、 如權(quán)利要求7所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，過濾器(153)、開關(guān)(151)、 流量控制器(152 )和過濾器(154 )依次連接，過濾器(154 )與三通接頭(14 ) 相連接。
9、 如權(quán)利要求8所述的機(jī)臺(tái)，其特征在于，過濾器(153)、開關(guān)(151)、 流量控制器(152)和過濾器(154)通過金屬密封圏連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種濺射金屬膜機(jī)臺(tái)，為了利用現(xiàn)有濺射金屬膜機(jī)臺(tái)進(jìn)行生成TiN的工藝反應(yīng)，該機(jī)臺(tái)包括腔體11，腔體11外接用于引入氬氣氣體的管路12和用于引入去除腔體真空的氮?dú)鈿怏w的管路13，管路12上串接開關(guān)121，管路13上串接開關(guān)132，管路13的靠近腔體部分131一端與腔體11相連，另一端通過三通接頭14連接管路13的遠(yuǎn)離腔體部分133和用于引入用于反應(yīng)的氮?dú)鈿怏w的管路15，管路15上串接開關(guān)151，開關(guān)121和開關(guān)151與聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)16相連，開關(guān)132串接于管路13的遠(yuǎn)離腔體部分133，由于新增管路15，使得改造后的濺射金屬膜機(jī)臺(tái)能夠接入N2反應(yīng)氣體，并進(jìn)行生成TiN的工藝反應(yīng)。
文檔編號(hào)C23C14/35GK201217691SQ20082008024
公開日2009年4月8日 申請(qǐng)日期2008年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月28日
發(fā)明者崔曉娟, 張明才, 亮 禤, 肖士悅 申請(qǐng)人:北大方正集團(tuán)有限公司;深圳方正微電子有限公司