国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      研磨墊的制作方法

      文檔序號:3422381閱讀:380來源:國知局
      專利名稱:研磨墊的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種研磨墊,且特別涉及一種用于化學(xué)機(jī)械研磨制程 的研磨墊。
      技術(shù)背景
      隨著產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步,平坦化制程經(jīng)常被采用于生產(chǎn)各種組件。在平坦化制程 中,研磨制程經(jīng)常為產(chǎn)業(yè)所使用。 一般來說,研磨制程是對被固定的物件施加 一個(gè)壓力以將其壓置于研磨墊上,并在物件及研磨墊表面彼此進(jìn)行相對運(yùn)動(dòng)。 藉由此相對運(yùn)動(dòng)所產(chǎn)生的摩擦,移除部分物件的表面,而使其表面逐漸平坦。
      一般來說,為了能夠偵測被研磨物件在研磨墊上的研磨情況,都會(huì)在研磨 墊中設(shè)計(jì)一個(gè)透明視窗。因此,使用光學(xué)偵測傳感器并透過此透明視窗便可以 檢測出被研磨物件的光譜變化,進(jìn)而判斷是否已經(jīng)達(dá)到研磨終點(diǎn)。然而,由于 透明視窗的存在,外界環(huán)境的短波長的光線也可以通過透明視窗而透射到研磨 漿液以及被研磨物件。由于研磨槳液及被研磨物件對于短波長的光線相當(dāng)敏 感,因此,長時(shí)間下來,研磨漿液及被研磨物件將可能因?yàn)閺耐该饕暣巴干涑?的短波長的光線而產(chǎn)生劣化
      實(shí)用新型內(nèi)容
      本實(shí)用新型的目的就是提供一種研磨墊,可以減少短波長的光線通過 透明視窗而使研磨漿液或被研磨物件產(chǎn)生劣化的問題。
      本實(shí)用新型提出的一種研磨墊,它包括一研磨層、 一設(shè)置于研磨層中 的透明視窗,以及若干可減少可見光以下波長光線穿透的填充顆粒散布于 透明視窗中。本實(shí)用新型提出的另一種研磨墊,它包括一研磨層、 一設(shè)置于研磨層 中的透明視窗,以及若干可減少紅光以下波長光線穿透的填充顆粒散布于 透明視窗中。
      本實(shí)用新型提出的另一種研磨墊,適用于一研磨設(shè)備,研磨設(shè)備具有 一光學(xué)偵測傳感器,光學(xué)偵測傳感器使用一偵測光線,它包括一研磨層、 一設(shè)置于研磨層中的透明視窗,以及若干可減少偵測光線波長以下的光線 穿透的填充顆粒散布于透明視窗中。
      本實(shí)用新型由于采用在研磨墊的透明視窗中散布有可減少短波長的 光線穿透的填充顆粒,因此外界短波長的光線就不易從透明視窗透射到研 磨漿液及被研磨物件,因而可以減少研磨漿液及被研磨物件受到短波長的 光線的照射而劣化的問題。
      為讓本實(shí)用新型的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下 文特舉較佳實(shí)施例,并配合所附圖式,作如下詳細(xì)說明。


      以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
      來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型。
      圖1為 本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的研磨墊的側(cè)視圖; 圖2為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的研磨墊的俯視圖; 圖3為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的研磨墊的側(cè)視圖。
      具體實(shí)施方式
      圖1為本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的研磨墊的側(cè)視圖。圖2為本實(shí)用新型 一個(gè)實(shí)施例的研磨墊的俯視圖。同時(shí)參照圖1以及圖2,本實(shí)施例的研磨 墊包括一研磨層102、 一透明視窗104以及若干填充顆粒106。
      例如研磨層102是由聚合物基材所構(gòu)成,聚合物基材可以是熱固性樹
      月旨(thermosetting resin)或熱塑性樹月旨(thermoplastic resin)所合成之聚合物基材。研磨層102除聚合物基材外,另外可以包含導(dǎo)電材料、研磨 顆粒、微球體(micro-sphere)或可溶解添加物于此聚合物基材中。另外, 研磨層102上可進(jìn)一步包括形成有多個(gè)溝槽。
      透明視窗104是設(shè)置于研磨層102中并且貫穿研磨層102。透明視窗 104的材質(zhì)為透明的聚合物,例如是透明熱固性塑料或熱塑性塑料。透明 視窗104的形狀可以依照實(shí)際所需而設(shè)計(jì)成橢圓形、圓形、方形或是任何 適用的形狀。
      透明視窗104內(nèi)分布可減少可見光(例如是波長400nm 720nm的可 見光)以下波長的光線穿透的若干填充顆粒106,例如是抗紫外線填充顆 粒。舉例來說,填充顆粒106可阻隔波長小于400nm的光線,例如是散射 或反射波長小于400nm的光線,而減少波長小于400nm的光線穿透透明視 窗104。依據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果,當(dāng)填充顆粒106的尺寸小于可見光波長的1/4, 例如填充顆粒106的尺寸小于100nm時(shí),可阻隔可見光以下波長的光線的 穿透且不影響可見光的穿透。此外,填充顆粒106的材質(zhì)包括陶瓷粉末, 例如是氧化硅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋁或是其組合。
      當(dāng)利用此研磨墊于研磨設(shè)備進(jìn)行研磨時(shí),在研磨過程中,可利用具有 偵測光線為可見光(例如是波長400nm 720nm的可見光)的光學(xué)偵測傳感 器,將可見光由研磨墊的底部經(jīng)由透明視窗104射向被研磨物件202的表 面,以偵測被研磨物件202的光譜變化,進(jìn)而判斷是否已經(jīng)達(dá)到研磨終點(diǎn)。
      本實(shí)用新型的透明視窗104內(nèi)分布有可減少可見光以下波長的光線 穿透的填充顆粒106,且不影響偵測用的可見光穿透透明視窗104,因而 可以降低甚至避免短波長的光線穿透透明視窗104而照射到研磨漿液或 是被研磨物件202,進(jìn)而減少短波長的光線通過透明視窗而使研磨漿液或 被研磨物件產(chǎn)生劣化的問題。
      根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例,請參照圖1以及圖2,可在透明視 窗104內(nèi)分布可減少紅光(例如是波長640nm 720nm的紅光)以下波長的光線穿透的若干填充顆粒106。舉例來說,填充顆粒106可阻隔波長小于 640nm的光線,例如是散射或反射波長小于640nm的光線,而減少波長小 于640nm的光線穿透透明視窗104。依據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果,當(dāng)填充顆粒106的尺 寸小于紅光波長的1/4,例如是填充顆粒106的尺寸小于160nm時(shí),可阻 隔紅光以下波長的光線的穿透且不影響紅光的穿透。此外,填充顆粒106 的材質(zhì)包括陶瓷粉末,例如是氧化硅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋁或是其組 合°
      類似上述實(shí)施例,當(dāng)利用此研磨墊于研磨設(shè)備進(jìn)行研磨時(shí),在研磨過 程中,可利用具有偵測光線為紅光(例如是波長640nm 720nm的紅光)的 光學(xué)偵測傳感器,將紅光由研磨墊的底部經(jīng)由透明視窗104射向被研磨物 件202的表面,以偵測被研磨物件202的光譜變化,進(jìn)而判斷是否已經(jīng)達(dá) 到研磨終點(diǎn)。
      而在本實(shí)施例中,透明視窗104內(nèi)分布有可減少紅光以下波長光線穿 透的填充顆粒106,且不影響偵測用的紅光穿透透明視窗104,因而可以 降低甚至避免短波長光線穿透透明視窗104而照射到研磨漿液或是被研 磨物件202,進(jìn)而減少短波長光線通過透明視窗而使研磨漿液或被研磨物 件產(chǎn)生劣化的問題。
      值得一提的是,上述兩個(gè)實(shí)施例是將可減少可見光或是紅光以下波長 的光線穿透的填充顆粒均勻地散布于整個(gè)透明視窗中(如圖1所示)。但本 實(shí)用新型不限于此,事實(shí)上,填充顆粒也可以僅散布于透明視窗的下半部 區(qū)域。請參照圖3,透明視窗104具有上半部區(qū)域104a以及下半部區(qū)域 104b,填充顆粒106僅分布于透明視窗104的下半部區(qū)域104b。
      在圖3的實(shí)施例中,雖然可減少可見光或是紅光以下波長的光線穿 透的填充顆粒106僅分布于透明視窗104的下半部區(qū)域104b,但其同樣 可以阻隔可見光或是紅光以下波長的光線,以解決傳統(tǒng)研磨墊存在有短波 長的光線會(huì)通過透明視窗而使研磨漿液或被研磨物件產(chǎn)生劣化的問題。此外,分布于透明視窗的填充顆粒不限于具有可阻隔小于特定波長 的光線,可視光學(xué)偵測傳感器所使用的偵測光線波長而做選擇。填充顆粒 可減少該偵測光線以下波長的光線的穿透,而不影響偵測光線穿透。舉例
      來說,若偵測光線的波長為入,則選擇填充顆粒的尺寸為小于A/4。填充 顆粒可阻隔波長小于A的短波長的光線穿透,且不影響波長為A的光線穿
      透。因此,可減少短波長光線穿透透明視窗而使研磨漿液或被研磨物件產(chǎn) 生劣化的問題。
      雖然本實(shí)用新型已揭露如上較佳實(shí)施例,然其并非用以限定本實(shí)用 新型,任何熟知此技術(shù)者,在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi),當(dāng)可作 些許的更動(dòng)與潤飾,因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求范圍 所界定的為準(zhǔn)。
      權(quán)利要求1、一種研磨墊,其特征在于,包括一研磨層;一透明視窗,設(shè)置于所述研磨層中;以及若干填充顆粒,散布于所述透明視窗中,所述若干填充顆??蓽p少可見光以下波長的光線的穿透。
      2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 為不影響可見光穿透的填充顆粒。
      3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒為抗紫外線填充顆粒。
      4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述可見光的波長 范圍為介于400nm至720nm。
      5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 阻隔波長小于400nm的光線。
      6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 散射或反射波長小于400nm的光線。
      7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 的尺寸小于100nm。
      8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 的材質(zhì)包括陶瓷粉末。
      9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 均勻地分布于整個(gè)所述透明視窗中。
      10、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 分布于所述透明視窗的下半部區(qū)域。
      11、 一種研磨墊,其特征在于,包括-一研磨層;一透明視窗,設(shè)置于所述研磨層中;以及若干填充顆粒,散布于所述透明視窗中,若干填充顆粒為可減少紅光 以下波長光線穿透的填充顆粒。
      12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒為不影響紅光穿透的填充顆粒。
      13、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述紅光的波長 范圍為介于640nm至720nm。
      14、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒阻隔波長小于640nm的光線。
      15、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒散射或反射波長小于640nm的光線。
      16、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒的尺寸小于160nm。
      17、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒的材質(zhì)包括陶瓷粉末。
      18、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒均勻地分布于整個(gè)所述透明視窗中。
      19、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒分布布于所述透明視窗的下半部區(qū)域。
      20、 一種研磨墊,適用于一研磨設(shè)備, 有一光學(xué)偵測傳感器,所述光學(xué)偵測傳感器使用一研磨層;一透明視窗,設(shè)置于所述研磨層中;以及若干填充顆粒,分布于所述透明視窗中,所述若干填充顆??蓽p少 該偵測光線波長以下的光線的穿透。
      21、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆其特征在于,所述研磨設(shè)備具 貞測光線,包括粒不影響偵測光線穿透的填充顆粒。
      22、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述偵測光線為 可見光。
      23、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒為抗紫外線填充顆粒。
      24、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述偵測光線為 紅光。
      25、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒的尺寸小于所述偵測光線波長的1/4。
      26、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒的材質(zhì)包括陶瓷粉末。
      27、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆 粒均勻地分布于整個(gè)所述透明視窗中。
      28、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的研磨墊,其特征在于,所述若干填充顆粒 分布于所述透明視窗的下半部區(qū)域。
      專利摘要一種研磨墊,其包括一研磨層、一透明視窗設(shè)置于研磨層中,以及若干填充顆粒散布于透明視窗中以減少短波長的光線的穿透。
      文檔編號B24D99/00GK201267964SQ20082011926
      公開日2009年7月8日 申請日期2008年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月23日
      發(fā)明者莊志成, 施文昌, 涂良池, 王昭欽 申請人:智勝科技股份有限公司
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1