專利名稱：一種刷拋光大盤(pán)用的刷子的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于刷硅片拋光大盤(pán)的刷子。
背景技術(shù)：
在CMP技術(shù)快速發(fā)展的今天，對(duì)直接與產(chǎn)品接觸的拋光布的要求越 來(lái)越高，拋光布在與產(chǎn)品如(硅片)接觸過(guò)程中，拋光布表面的質(zhì)量嚴(yán)重 影響到產(chǎn)品的拋光質(zhì)量。所以很多使用拋光布的商家都不惜成本使用高檔 較為昂貴的拋光布來(lái)提高自己產(chǎn)品拋光質(zhì)量。在CMP過(guò)程中，拋光布絨 毛層攜帶的漿料與硅片反應(yīng)，生成復(fù)雜的硅的氧化物殘留在絨毛層內(nèi)，長(zhǎng) 時(shí)間不刷盤(pán)就會(huì)使得拋光布絨毛層攜帶漿料能力下降，并在表面產(chǎn)生硬 結(jié)，降低硅片表面的去除速率，俗稱釉化現(xiàn)象。釉化現(xiàn)象的產(chǎn)生會(huì)縮短拋 光布使用壽命，而拋光布?jí)勖拈L(zhǎng)短嚴(yán)重影響了拋光成本的高低。所以， 延長(zhǎng)拋光布使用壽命，成為降低生產(chǎn)成本重要的途徑。在拋光布使用一段 時(shí)間后，使用盤(pán)刷刷洗拋光布，以保持拋光布絨毛層的清潔程度，成為延 長(zhǎng)拋光布使用壽命和提高產(chǎn)品質(zhì)量的主要方法。目前，刷盤(pán)的主要方法是 使用圓形刷子在一定的壓力和轉(zhuǎn)速下對(duì)大盤(pán)進(jìn)行刷洗。此方法能消除拋光 過(guò)程帶來(lái)的釉化現(xiàn)象，但是不能很好的去除拋光布絨毛層內(nèi)的雜質(zhì)，如果 加長(zhǎng)刷時(shí)間，會(huì)對(duì)拋光布的表層有一定的磨損。 發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種刷拋光大盤(pán)用的刷子，該刷子結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單 實(shí)用，克服了現(xiàn)有的盤(pán)刷對(duì)拋光布絨毛層雜質(zhì)清除效果弱的缺點(diǎn)，從而提高清洗效率，提高硅片的制備性能與成品率。
為達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案 這種刷拋光大盤(pán)用的刷子，它包括刷體、刷體的上部為機(jī)械手部分，
刷體下部為一盤(pán)，盤(pán)的端面上置有刷毛，盤(pán)的周邊設(shè)有高壓噴嘴，刷體內(nèi)
有一供進(jìn)高壓水的水管,高壓噴嘴與水管連通。 所述刷體下部盤(pán)的橫斷面為圓形。 盤(pán)周邊的高壓噴嘴數(shù)量為一個(gè)或二個(gè)。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是該裝置結(jié)構(gòu)緊湊，操作簡(jiǎn)便，可由機(jī)器程序自動(dòng) 控制高壓水沖洗時(shí)間和時(shí)機(jī)。既可以消除拋光后大盤(pán)的釉化現(xiàn)象，又可以 有效地去除拋光布表面絨毛層內(nèi)的雜質(zhì)，從而提高加工后的產(chǎn)品的表面質(zhì) 量，提高硅片的制備性能與成品率。

圖l:用普通刷刷拋光大盤(pán)的狀態(tài)示意圖 圖2:本實(shí)用新型提供的刷大盤(pán)刷子示意圖 圖3:本實(shí)用新型使用狀態(tài)示意圖具體實(shí)施方式
圖l、圖2、圖3中，6為向拋硅片大盤(pán)表面添加的拋光液或純凈水， 7為拋硅片大盤(pán)，已有的普通刷包括刷體上部的機(jī)械手部分l，刷體下
面的盤(pán)2，刷毛3， 4為高壓去離子水噴嘴、8為外置高壓水泵、'以及5 為供進(jìn)高壓去離子水的水管5，噴嘴4與水管5連通。
所述的高壓噴嘴安裝在盤(pán)的周邊，高壓去離子水由外置高壓水泵提 供，可在刷盤(pán)時(shí)或刷盤(pán)后用高壓水沖洗拋光布。也可由機(jī)器程序自動(dòng)控制高壓水沖洗時(shí)間和時(shí)機(jī)。所述的高壓噴嘴在刷盤(pán)時(shí)水壓是O.l-lOMPa。
權(quán)利要求1、一種刷拋光大盤(pán)用的刷子，它包括刷體、刷體的上部為機(jī)械手部分，刷體下部為一盤(pán)，盤(pán)的端面上置有刷毛，其特征在于盤(pán)的周邊設(shè)有高壓噴嘴，刷體內(nèi)有一供進(jìn)高壓純凈水的水管，高壓噴嘴與水管連通。
2、 按照權(quán)利要求l所述的刷拋光大盤(pán)用的刷子，其特征在于所述 刷體下部盤(pán)的橫斷面為圓形。
3、按照權(quán)利要求1或2所述的刷拋光大盤(pán)用的刷子，其特征在于盤(pán)周邊的高壓噴嘴數(shù)量為一個(gè)或二個(gè)。
專利摘要一種刷拋光大盤(pán)用的刷子，它包括刷體、刷體的上部為機(jī)械手部分，刷體下部為一盤(pán)，盤(pán)的端面上置有刷毛，盤(pán)的周邊設(shè)有高壓噴嘴，刷體內(nèi)有一供進(jìn)高壓純凈水的水管，高壓噴嘴與水管連通。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是該裝置結(jié)構(gòu)緊湊，操作簡(jiǎn)便，可由機(jī)器程序自動(dòng)控制高壓水沖洗時(shí)間和時(shí)機(jī)。既可以消除拋光后大盤(pán)的釉化現(xiàn)象，又可以有效地去除拋光布表面絨毛層內(nèi)的雜質(zhì)，從而提高加工后的產(chǎn)品的表面質(zhì)量，提高硅片的制備性能與成品率。
文檔編號(hào)B24B41/00GK201287294SQ20082012354
公開(kāi)日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2008年11月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月4日
發(fā)明者庫(kù)黎明, 張國(guó)棟, 盛方毓, 索思卓, 鐘 葛, 閆志瑞, 陳海濱, 黃軍輝 申請(qǐng)人:北京有色金屬研究總院;有研半導(dǎo)體材料股份有限公司