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      濺鍍機光盤更換裝置的制作方法

      文檔序號:3422776閱讀:287來源:國知局
      專利名稱:濺鍍機光盤更換裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種濺鍍機,更具體地說涉及一種濺鍍機光盤更 換裝置。
      背景技術(shù)
      光盤生產(chǎn)中常用的鍍膜方法主要有蒸鍍和濺鍍。二十世紀(jì)的前 50年,世界各國科技人員經(jīng)過大量的試驗研究基本建立了濺射理論。 在二十世紀(jì)的后50年里,薄膜技術(shù)獲得了騰飛,這主要得益于真空技 術(shù)在鍍膜方面的應(yīng)用,使真空鍍膜實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。由于有了理論基礎(chǔ)和成熟的工藝,各種鍍膜設(shè)備也不斷推陳出新。其中Leybold公司較 早的開發(fā)出各種鍍膜設(shè)備,也包括用于光盤生產(chǎn)的真空濺鍍機。之后, 廣泛用于光盤的濺鍍機還有德國Balzers和Singulus公司的濺鍍機。蒸鍍是在真空中將金屬加熱蒸發(fā)產(chǎn)生金屬蒸氣,使其附著在基板 上凝聚成薄膜。蒸鍍的基板材質(zhì)沒有限制,從紙、金屬到陶磁都能使 用。蒸鍍有加熱式蒸鍍,還有電子槍加熱式及離子輔助式蒸鍍。蒸鍍 是光盤母盤制作中常用的方式之一 。濺鍍是通過離子碰撞而獲得薄膜的一種工藝,主要分為兩類陰 極濺鍍和射頻濺鍍。陰極濺鍍一般用于濺鍍導(dǎo)體如鋁、銀或半導(dǎo)體。 射頻濺鍍一般用于濺鍍非導(dǎo)體如。濺鍍主要利用輝光放電將氬氣離子 撞擊靶材表面;靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。同時 用強力磁鐵將電子呈螺旋狀運動,加速靶材周圍的氬氣離子化,使得 氬氣離子對陰極靶材的撞擊機率增加,形成雪崩式的狀態(tài),以此提高 濺鍍速率。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜好。為了確保濺鍍質(zhì)量,實行陰極濺鍍時對環(huán)境有較高的要求。首先 要在真空環(huán)境條件下,高真空可以減少氧化物的產(chǎn)生;使用惰性工藝 氣體,通常為氬氣,作為離子介質(zhì)撞擊靶材;形成電場——耙材為陰極,盤片為陽極;在真空腔內(nèi),用強力磁鐵產(chǎn)生磁場;由于濺鍍時產(chǎn) 生高熱,須用冷卻水對陰極進(jìn)行及時冷卻。光盤的濺鍍過程先將真空腔抽真空達(dá)到設(shè)定值,將盤片放入腔 內(nèi),真空腔內(nèi)盤片會被抽真空至高真空范圍。注入氬氣到真空腔,這 時真空腔的真空度降低,此時對靶材(陰極)和盤片(陽極)之間施 以幾百伏特的直流電壓,使氬氣在電場中被離子化,產(chǎn)生氬離子及自 由電子、在電場的作用下,帶正電荷的氬離子向陰極(靶材)加速, 而自由電子向陽極加速,被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原 子,因動能轉(zhuǎn)移使更多的氬原子被離子化,最后產(chǎn)生雪崩現(xiàn)象,等離 子體持續(xù)自行放電。大量氬離子撞擊靶材表面,氬離子的動能轉(zhuǎn)移至 靶材原子, 一部份轉(zhuǎn)化成靶材原子的動能,當(dāng)靶材原子獲得足夠動能, 它們會脫離靶材表面并自由地在濺鍍腔內(nèi)移動,最后覆蓋于盤片及腔 內(nèi)其他表面。而氬離子撞擊靶材的另一部份動能轉(zhuǎn)化為熱,因此靶材 必須用冷卻水冷卻。為使盤片濺鍍層的厚度均勻,耙材周圍的磁場分 布會提高等離子體的一致性。對于用于光盤的濺鍍機而言,為了滿足連續(xù)生產(chǎn)的需求, 一般都 包括光盤更換裝置,以便不斷更換光盤,依次進(jìn)行濺鍍。如圖1所示,現(xiàn)有的濺鍍機,其光盤更換裝置,包括換盤機械手 1和換片裝置2,換片裝置2包括機體21、固定桿22、波紋管23、 氣缸24、馬達(dá)25、至少一個托盤26。馬達(dá)25的輸出端連接機體21 的轉(zhuǎn)動軸,機體21上端到下端之間開有通孔211,通孔211內(nèi)側(cè)壁上 設(shè)有滑套212,所述托盤26固定在固定桿22上端,固定桿22下端 開有定位坑224,定位坑224內(nèi)設(shè)有一個定位塊221,固定桿22通過 滑套212可滑動的固定在通孔211內(nèi),氣缸24的推桿241從機體21 下端伸入上述通孔211連接定位塊221,并且墊片222和密封蓋223 將定位塊221固定在定位坑內(nèi),墊片222和密封蓋223均套在推桿 241上,并且墊片222和密封蓋223與推桿241之間留有空隙,因此 墊片222和密封蓋223均不與推桿241接觸,使得推桿241可相對轉(zhuǎn) 動機體21、固定桿22轉(zhuǎn)動,波紋管23套在固定桿22上,并且波紋 管23位于托盤26和機體21之間,換盤機械手1位于托盤26上方。初始狀態(tài),換盤機械手1將白基片放進(jìn)一個托盤26后,氣缸24 帶動推桿241向下運動,固定桿22跟著推桿241向下運動,壓縮波 紋管23。然后馬達(dá)25工作,帶動機體21旋轉(zhuǎn),固定桿22及托盤26 跟著機體21旋轉(zhuǎn),使得固定桿22上端的托盤26轉(zhuǎn)到陰極罩3內(nèi)。 接著,氣缸24向上頂,波紋管23張開,固定桿22上端的托盤26上 升到合適位置,陰極罩3開始對白基片進(jìn)行濺鍍。濺鍍完以后,氣缸 24帶動推桿241向下運動,固定桿22跟著推桿241向下運動,壓縮 波紋管23。然后馬達(dá)25工作,帶動機體21旋轉(zhuǎn),固定桿22及托盤 26跟著機體21旋轉(zhuǎn),使得固定桿22上端的托盤26轉(zhuǎn)到換盤機械手 l下方后,氣缸24向上頂,波紋管23張開,固定桿22上端的托盤 26上升到初始位置(即初始狀態(tài)的位置),換盤機械手l將白基片取 走,再換上一個白基片,這樣周而復(fù)始的運行下去。由于墊片的兩面分別與定位塊、密封蓋接觸,由于定位塊固定在 推桿末端,是不會轉(zhuǎn)動的,而密封蓋連接固定桿,是會跟著固定桿轉(zhuǎn) 動的,因此墊片與密封蓋之間會不斷摩擦,墊片在一定時間的時候后, 會變薄,導(dǎo)致固定桿無法下降到合適的位置,光盤更換裝置工作不正 常,需要經(jīng)常進(jìn)行維修,更換墊片,大大影響了生產(chǎn)效率。 發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是對現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行改進(jìn),提供一種濺鍍機光盤 更換裝置,可以有效地減少部件之間的磨損,無需經(jīng)常進(jìn)行維修,采 用的技術(shù)方案如下本實用新型的濺鍍機光盤更換裝置,采用軸承代替墊片、密封蓋, 其具體結(jié)構(gòu)如下濺鍍機光盤更換裝置包括換盤機械手和換片裝置, 換片裝置包括機體、固定桿、波紋管、氣缸、馬達(dá)、至少一個托盤; 馬達(dá)的輸出端連接機體的轉(zhuǎn)動軸,機體上端到下端之間開有通孔,通 孔內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有滑套,所述托盤固定在固定桿上端,固定桿下端開有 定位坑,定位坑內(nèi)設(shè)有定位塊,固定桿通過滑套可滑動的固定在通孔 內(nèi),氣缸的推桿從機體下端伸入上述通孔連接定位塊,波紋管套在固 定桿上,并且波紋管位于托盤和機體上端之間,換盤機械手位于托盤 架上方,其特征在于所述換片裝置還包括軸承,軸承設(shè)在固定桿定 位坑內(nèi)側(cè)壁與位于定位塊下方的推桿之間,軸承將定位塊固定在定位坑內(nèi)。定位塊可相對固定桿轉(zhuǎn)動,其實是固定桿轉(zhuǎn)動,而定位塊不動。 當(dāng)氣缸的推桿向下拉動定位塊時,定位塊對軸承施加壓力,而采用軸 承來代替墊片、密封蓋,由于軸承磨損很小,可以大幅減少維修的頻 率。一種較優(yōu)的方案,所述軸承采用滑動軸承,滑動軸承包括軸承座、 軸瓦,軸瓦放置在軸承座內(nèi),軸承座安裝在固定桿定位坑內(nèi)側(cè)壁上, 軸瓦安裝在推桿上。和滾動軸承相比,滑動軸承承載力高、抗震性好、 工作平穩(wěn)可靠、噪音小、磨損較小、壽命長,可以更加有效的減少維 修的頻率。另一種可以選擇的方案,所述軸承采用滾動軸承,但是滾動軸承 的磨損還是比較大。采用這種方案,濺鍍機光盤更換裝置還需要包括 第一定位緊固件、第二定位緊固件,第一定位緊固件固定在固定桿上, 并且第一定位緊固件頂住滾動軸承的外圈,第二定位緊固件固定在推 桿上,并且第一定位緊固件頂住滾動軸承的內(nèi)圈。第一定位緊固件與 固定桿一同轉(zhuǎn)動,因此第一定位緊固件與滾動軸承的外圈之間沒有相 對位移,不會磨損軸承的外圈,第二定位緊固件固定在推桿上,因此 第二定位緊固件與內(nèi)圈一樣不轉(zhuǎn)動,因此第二定位緊固件與內(nèi)圈之間 沒有相對位移,不會磨損滾動軸承的內(nèi)圈。本實用新型對照現(xiàn)有技術(shù)的有益效果是,由于采用軸承代替墊 片、密封蓋,軸承磨損很小,因此可以大幅減少維修的頻率,有效的 提高生產(chǎn)效率。


      圖1是本實用新型現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖2是本實用新型優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實施方式
      如圖2所示,本優(yōu)選實施例中的濺鍍機光盤更換裝置,包括換盤 機械手1和換片裝置2,換片裝置2包括機體21、固定桿22、波紋 管23、氣缸24、馬達(dá)25、滑動軸承222'、兩個托盤26。所述馬達(dá)25的輸出端連接機體21的轉(zhuǎn)動軸,機體21上端到下 端之間開有通孔211,通孔211內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有滑套212,所述托盤26固定在固定桿22上端,固定桿22下端開有定位坑224,定位坑224 內(nèi)設(shè)有定位塊221 ,固定桿22通過滑套212可滑動的固定在通孔211 內(nèi),氣缸24的推桿241從機體21下端伸入上述通孔211連接定位塊 221,所述滑動軸承222'設(shè)在固定桿22定位坑內(nèi)側(cè)壁與位于定位塊 221下方的推桿之間。滑動軸承222'包括軸承座2221'、軸瓦2222', 軸瓦2222'放置在軸承座2221'內(nèi),滑動軸承222'的軸承座2221' 安裝在固定桿22定位坑224內(nèi)側(cè)壁上,滑動軸承222'的軸瓦2222' 安裝在推桿241上,滑動軸承222'上端頂住定位塊221,將定位塊 221固定在定位坑內(nèi),推桿241可相對機體21、固定桿22轉(zhuǎn)動,波 紋管23套在固定桿22上,并且波紋管23位于托盤26和機體21之 間,換盤機械手1位于托盤26上方。初始狀態(tài),換盤機械手1將白基片放進(jìn)一個托盤26后,氣缸24 帶動推桿241向下運動,固定桿22跟著推桿241向下運動,壓縮波 紋管23。然后馬達(dá)25工作,帶動機體21旋轉(zhuǎn),固定桿22及托盤26 跟著機體21旋轉(zhuǎn),使得固定桿22上端的托盤26轉(zhuǎn)到陰極罩3內(nèi)。 接著,氣缸24向上頂,波紋管23張開,固定桿22上端的托盤26上 升到合適位置,陰極罩3開始對白基片進(jìn)行濺鍍。濺鍍完以后,氣缸 24帶動推桿241向下運動,固定桿22跟著推桿241向下運動,壓縮 波紋管23。然后馬達(dá)25工作,帶動機體21旋轉(zhuǎn),固定桿22及托盤 26跟著機體21旋轉(zhuǎn),使得固定桿22上端的托盤26轉(zhuǎn)到換盤機械手 1下方后,氣缸24向上頂,波紋管23張開,固定桿22上端的托盤 26上升到初始位置(即初始狀態(tài)的位置),換盤機械手l將白基片取 走,再換上一個白基片,這樣周而復(fù)始的運行下去。當(dāng)氣缸24的推桿241向下拉動定位塊221時,定位塊221壓在 滑動軸承222'上,而采用滑動軸承222'來代替墊片、密封蓋,由 于滑動軸承222'的磨損小,因此可以減少維修的頻率。
      權(quán)利要求1、一種濺鍍機光盤更換裝置,包括換盤機械手和換片裝置,換片裝置包括機體、固定桿、波紋管、氣缸、馬達(dá)、至少一個托盤;馬達(dá)的輸出端連接機體的轉(zhuǎn)動軸,機體上端到下端之間開有通孔,通孔內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有滑套,所述托盤固定在固定桿上端,固定桿下端開有定位坑,定位坑內(nèi)設(shè)有定位塊,固定桿通過滑套可滑動的固定在通孔內(nèi),氣缸的推桿從機體下端伸入上述通孔連接定位塊,波紋管套在固定桿上,并且波紋管位于托盤和機體上端之間,換盤機械手位于托盤架上方,其特征在于所述換片裝置還包括軸承,軸承設(shè)在固定桿定位坑內(nèi)側(cè)壁與位于定位塊下方的推桿之間,軸承將定位塊固定在定位坑內(nèi)。
      2、 如權(quán)利要求1所述的濺鍍機光盤更換裝置,其特征在于所述 軸承采用滑動軸承,滑動軸承包括軸承座、軸瓦,軸瓦放置在軸承座 內(nèi),軸承座安裝在固定桿定位坑內(nèi)側(cè)壁上,軸瓦安裝在推桿上。
      專利摘要一種濺鍍機光盤更換裝置,包括換盤機械手和換片裝置,換片裝置包括機體、固定桿、波紋管、氣缸、馬達(dá)、至少一個托盤;馬達(dá)的輸出端連接機體的轉(zhuǎn)動軸,機體上端到下端之間開有通孔,通孔內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有滑套,所述托盤固定在固定桿上端,固定桿下端開有定位坑,定位坑內(nèi)設(shè)有定位塊,固定桿通過滑套可滑動的固定在通孔內(nèi),氣缸的推桿從機體下端伸入上述通孔連接定位塊,波紋管套在固定桿上,并且波紋管位于托盤和機體上端之間,換盤機械手位于托盤架上方,所述換片裝置還包括軸承,軸承設(shè)在固定桿定位坑內(nèi)側(cè)壁與位于定位塊下方的推桿之間,軸承將定位塊固定在定位坑內(nèi)。本實用新型可以大幅減少維修的頻率,有效的提高生產(chǎn)效率。
      文檔編號C23C14/34GK201217692SQ20082013927
      公開日2009年4月8日 申請日期2008年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月14日
      發(fā)明者郭曉明 申請人:廣東中唱一帆科技發(fā)展有限公司
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