專利名稱：低輻射鍍膜玻璃膜層厚度調(diào)節(jié)用異型擋板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于低輻射鍍膜玻璃制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種真空磁控濺射鍍膜時(shí) 玻璃膜層厚度調(diào)節(jié)用異型擋板，它是真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的一種配件。
背景技術(shù)：
玻璃鍍膜產(chǎn)品按照功能分類，可分為熱反射膜和低輻射膜。其中，低輻射鍍膜玻璃是指 表面鍍上擁有極低表面輻射率的金屬或其他化合物組成的多層膜層的特種玻璃。低輻射鍍膜 玻璃是種綠色、節(jié)能、環(huán)保的玻璃產(chǎn)品。普通玻璃的表面輻射率在0.84左右低輻射鍍膜玻璃 的表面輻射率在0.25以下。這種不到頭發(fā)絲百分之一厚度的低輻射膜層對遠(yuǎn)紅外熱輻射的反 射率很高，能將80%以上的遠(yuǎn)紅外熱輻射反射回去，而普通透明浮法玻璃、吸熱玻璃的遠(yuǎn)紅 外反射率僅在12%左右，所以低輻射鍍膜玻璃具有良好的阻隔熱輻射透過的作用。
真空磁控濺射鍍膜屬于離線低輻射鍍膜玻璃工藝。真空磁控濺射鍍膜是在真空狀態(tài)下將 陰極材料濺射出來，在經(jīng)清洗處理的玻璃工件上沉積成膜。采用不同的陰極材料，可在玻璃 表面沉積金屬或化合物薄膜，制成鍍膜玻璃。該鍍膜玻璃可廣泛用于建筑用玻璃，根據(jù)要求 可實(shí)現(xiàn)遮光、隔熱等功能。
鍍膜的基本過程是玻璃工件經(jīng)清洗、烘干、抽氣、鍍膜、充氣、輸出。其中，鍍膜是 在真空濺射鍍膜室進(jìn)行。在真空鍍膜室內(nèi)設(shè)有濺射靶，從濺射靶濺射出來的金屬或者金屬化 合物沉積于玻璃表面形成膜層，鍍膜完畢，玻璃由傳動裝置輸出，整個(gè)生產(chǎn)過程是半連續(xù)或 者連續(xù)的。在濺射靶源周圍設(shè)置有調(diào)節(jié)膜層厚度的擋板，現(xiàn)有技術(shù)的擋板形狀為合頁形，折 邊的一面是工作面，主要作用是遮擋靶源，使鍍膜集中于玻璃面板，折邊的另一面是固定面， 用于固定擋板。(如圖3所示)其不足之處是1)根據(jù)不同鍍膜厚度，須選擇不同規(guī)格的擋 板；2)鍍平板玻璃時(shí)，膜層容易出現(xiàn)兩端膜層厚，中間薄的缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實(shí)用新型目的是提高一種低輻射鍍膜玻璃膜層厚度調(diào)節(jié) 用異型擋板，改善現(xiàn)有技術(shù)鍍膜時(shí)膜層厚度調(diào)節(jié)不均勻問題和平板玻璃鍍膜兩端膜層厚中間 薄的缺陷。
本實(shí)用新型具體采用如下技術(shù)方案一種低輻射鍍膜玻璃膜層厚度調(diào)節(jié)用異型擋板，所述擋板設(shè)置在真空濺射鍍膜室濺射靶 源周圍，包括異型擋板本體，其特征是，所述異型擋板本體具有工作面板和固定面板，兩塊 面板長邊相等、呈直角對折，其中工作面板是異型的，所述工作面板兩端寬，中間窄；另一 塊固定面板為長方形，其上設(shè)有沉孔式螺栓孔。
本實(shí)用新型所述工作面板可以通過外接與工作面板形狀匹配的平板，延長異型擋板的寬度。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是1)本實(shí)用新型工作面板寬度可調(diào)，不需 要整體更換擋板即可實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)膜層厚度的目的，操作方便；2)本實(shí)用新型工作面板異型， 有效避免鍍膜時(shí)兩端膜層厚，中間薄的缺陷。


圖l是本實(shí)用新型正視示意圖2是本實(shí)用新型俯視示意圖3是現(xiàn)有技術(shù)擋板正視示意圖。
圖中，l-工作面板，2-固定面板，3-沉孔式螺栓孔。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例
如圖l、 2所示， 一種低輻射鍍膜玻璃膜層厚度調(diào)節(jié)用異型擋板，包括異型擋板本體，所 述異型擋板本體具有工作面板1和固定面板2，兩塊面板長邊相等、呈直角對折，其中工作 面板l是異型的，所述工作面板l兩端寬，中間窄，本實(shí)用新型的工作面板可采用現(xiàn)有技術(shù) 通過緊固、連接的方式，外接與工作面板1形狀匹配的擋板，延長工作面板l的寬度；另一 塊固定面板2為長方形，其上設(shè)有沉孔式螺栓孔4。
本實(shí)施例僅涉及對現(xiàn)有技術(shù)改進(jìn)部分，其他與現(xiàn)有技術(shù)相同，在此不作詳述。
權(quán)利要求1.一種低輻射鍍膜玻璃膜層厚度調(diào)節(jié)用異型擋板，所述擋板設(shè)置在真空濺射鍍膜室濺射靶源周圍，包括異型擋板本體，其特征是，所述異型擋板本體具有工作面板和固定面板，兩塊面板長邊相等、呈直角對折，其中工作面板是異型的，所述工作面板兩端寬，中間窄；另一塊固定面板為長方形，其上設(shè)有沉孔式螺栓孔。
專利摘要一種低輻射鍍膜玻璃膜層厚度調(diào)節(jié)用異型擋板，屬于低輻射鍍膜玻璃制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，所述擋板設(shè)置在真空濺射鍍膜室濺射靶源周圍，包括異型擋板本體，其特征是，所述異型擋板本體具有工作面板和固定面板，兩塊面板長邊相等、呈直角對折，其中工作面板是異型的，所述工作面板兩端寬，中間窄；另一塊固定面板為長方形，其上設(shè)有沉孔式螺栓孔。本實(shí)用新型通過調(diào)節(jié)擋板工作面寬度調(diào)整鍍膜厚度，另外，本實(shí)用新型避免了鍍膜時(shí)兩端厚中間薄的缺點(diǎn)，效果良好。
文檔編號C23C14/34GK201292403SQ200820225969
公開日2009年8月19日 申請日期2008年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月21日
發(fā)明者慶 張, 琛 李, 邢漢忠 申請人:淄博盛達(dá)創(chuàng)業(yè)玻璃有限公司