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      傳送腔室接口用的漂浮狹縫閥的制作方法

      文檔序號:3424661閱讀:335來源:國知局
      專利名稱:傳送腔室接口用的漂浮狹縫閥的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明的實(shí)施例一般涉及一種用于與傳送腔室相接的狹縫閥。
      背景技術(shù)
      為了有效地在 一 或多個(gè)基板上進(jìn)行連續(xù)工藝,是將多個(gè)處理腔室耦接 在一起。效率對于半導(dǎo)體、平板顯示器、光電池及太陽能面板的制造是特 別重要的,因?yàn)橛诨迳线M(jìn)行數(shù)個(gè)連續(xù)工藝是常見的。將基板由一處理腔 室傳送至另一處理腔室,是需要將一傳送腔室與一或多個(gè)處理腔室耦接。 傳送腔室可將一或多個(gè)基板自一處理腔室移出,并將該基板傳送至一或多 個(gè)其它處理腔室、另一傳送腔室或甚至是加載鎖定室。處理腔室可直接耦 接至另一處理腔室或是一加載鎖定室。另外,加栽鎖定室可以耦接至另一 加載鎖定室。
      腔室之間的界面可設(shè)置有狹縫閥。當(dāng)開啟狹縫閥時(shí),是允許一或多個(gè) 基板于相鄰的腔室之間傳送。當(dāng)關(guān)閉狹縫閥時(shí),基板則無法在腔室之間傳 送。狹縫閥因此可使腔室密閉并與鄰近腔室隔絕,藉此,各個(gè)腔室具有其 獨(dú)立且與鄰近腔室隔絕的環(huán)境。
      因此,該技術(shù)領(lǐng)域需要一種可提供腔室之間有效密封的狹縫閥。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明一般是關(guān)于用于與一腔室相接的浮動(floating)狹縫閥。 一浮 動狹縫閥是相對于另一對象(例如腔室)而移動或「浮動(float)」。狹 縫閥可耦接于二腔室之間。當(dāng)耦接至狹縫閥的腔室加熱時(shí),狹縫閥亦可因 傳導(dǎo)而加熱。當(dāng)狹縫閥加熱時(shí),其可能會產(chǎn)生熱膨脹。當(dāng)腔室抽成真空時(shí), 狹縫閥可能因?yàn)檎婵掌疃冃?。通過在腔室及狹縫閥之間放置一個(gè)低摩 擦物質(zhì)間隔物,則在熱膨脹/收縮及/或真空偏差期間,狹縫閥不會磨抵腔室, 因此,不會產(chǎn)生不期望的微粒污染物。另外,用于將狹縫閥耦接至腔室且鉆設(shè)于腔室的狹孔的尺寸設(shè)計(jì)是可容納狹縫閥的熱膨脹/收縮及/或真空偏 差。
      在一實(shí)施例中, 一種狹縫閥包括一狹縫閥主體,該主體具有穿設(shè)于其 中之一開口,該開口的尺寸是允許一基板通過其中。該主體亦具有一第一
      溝槽,該第一溝槽是刻設(shè)(carved)于該主體的一表面內(nèi),并環(huán)繞該開口。 該主體亦具有數(shù)個(gè)第二溝槽,該些第二溝槽亦刻設(shè)于與第一溝槽相同的主 體的該表面內(nèi),該些第二溝槽設(shè)置于該第一溝槽的徑向外側(cè),該些第二溝 槽沿著一實(shí)質(zhì)線形路徑延伸。該狹縫閥亦包括一或多個(gè)間隔物組件,該些
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      在另一實(shí)施例中, 一種設(shè)備包括一傳送腔室、 一狹縫閥,及耦接于狹 縫閥與傳送腔室之間的o形環(huán)。傳送腔室包括一傳送腔室主體。該傳送腔 室主體具有 一第一開口,是穿設(shè)于該傳送腔室主體,該第一開口具有一
      第一寬度; 一或多個(gè)第二開口,是穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第二 開口具有一第二寬度,該第二寬度小于該第一寬度;以及一或多個(gè)第三開 口,是穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第三開口具有一第三寬度,該第 三寬度大于該第二寬度,并小于該第一寬度。狹縫閥包括一狹縫閥主體, 該主體具有穿設(shè)于其中之一開口 ,該開口的尺寸是允許一基板通過該開口 , 該主體亦具有一第一溝槽,該第一溝槽是刻設(shè)于該主體內(nèi),并環(huán)繞該開口, 該主體亦具有 一或多個(gè)刻設(shè)于該主體內(nèi)的第二溝槽;以及一或多個(gè)間隔物 組件,是設(shè)置于該一或多個(gè)第二溝槽的至少其中之一者內(nèi)。
      在又一實(shí)施例中,是揭露一種沿著一傳送腔室滑動一狹縫閥的方法。 該方法包括加熱一處理腔室并傳導(dǎo)性地加熱該狹縫閥,該狹縫閥是耦接 至該處理腔室及該傳送腔室。該方法亦包括使該狹縫閥膨脹,該膨脹步驟 包括沿著該傳送腔室的一第 一表面而滑動一或多個(gè)間隔物組件。該傳送腔 室包括 一第一開口,是穿設(shè)于該傳送腔室主體,該第一開口具有一第一 寬度; 一或多個(gè)第二開口,是穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第二開口 具有一第二寬度,該第二寬度小于該第一寬度; 一或多個(gè)第三開口,是穿 設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第三開口具有一第三寬度,該第三寬度大 于該第二寬度,并小于該第一寬度。該狹縫閥包括 一狹縫閥主體,具有穿設(shè)于其中之一開口,該開口的尺寸是允許一基板通過該開口 ,該主體亦 具有一第一溝槽,該第一溝槽是刻設(shè)于該主體內(nèi),并環(huán)繞該開口,該主體
      亦具有 一 或多個(gè)刻設(shè)于該主體內(nèi)的第二溝槽;以及 一 或多個(gè)間隔物組件,
      是設(shè)置于該一或多個(gè)第二溝槽的至少其中之一者內(nèi)。


      為讓本發(fā)明的上述特征更明顯易懂,可配合參考實(shí)施例說明,其部分 繪示如附圖。須注意的是,雖然所附圖式揭露本發(fā)明特定實(shí)施例,但其并 非用以限定本發(fā)明的精神與范圍,任何熟習(xí)此技藝者,當(dāng)可作各種的更動 與潤飾而得等效實(shí)施例。
      圖1繪示設(shè)置于二腔室之間的狹縫閥的概要示圖。
      圖2繪示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的狹縫閥與傳送腔室之間的界面的前 視圖(透過傳送腔室來看)。
      圖3,繪示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的狹縫閥與傳送腔室之間的界面的 前視圖(透過傳送腔室來看),其中狹縫閥并未熱膨脹及/或真空變形。
      圖4,繪示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的圖3的狹縫閥與傳送腔室之間的 界面的前視圖,其中狹縫閥已熱膨脹及/或真空變形。
      圖5,繪示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的狹縫閥與傳送腔室之間的界面的 剖面視圖。
      為便于了解,圖式中相同的組件符號表示相同的組件。某一實(shí)施例采 用的組件當(dāng)不需特別詳述而可應(yīng)用到其它實(shí)施例。
      具體實(shí)施例方式
      本發(fā)明于下將描述與傳送腔室及處理腔室耦接的狹縫閥。示例性的傳 輸腔室、處理腔室及加載鎖定室是購自加州圣克拉拉的應(yīng)用材料公司 (Applied Materials, Inc.)的子公司AKT??深A(yù)期本發(fā)明亦可等效應(yīng)用至 其它傳送腔室、處理腔室及加載鎖定室,包括購自其它制造商者。另外, 應(yīng)了解雖然本發(fā)明討論耦接于傳送腔室與處理腔室之間的狹縫閥,但狹縫 閥亦可耦接于任兩個(gè)腔室之間,包括傳送腔室、處理腔室、加載鎖定室及其組合。
      r圖1 J是繪示設(shè)置于傳送腔室102及處理腔室104之間的狹縫閥 108。處理系統(tǒng)100可包括一或多個(gè)耦接至傳送腔室102的處理腔室104。 狹縫閥108可設(shè)置于傳送腔室102與處理腔室104之間。應(yīng)理解雖然圖中 僅示出一個(gè)處理腔室104與傳送腔室102耦接,但亦可為多個(gè)處理腔室104 與傳送腔室102耦接。在處理腔室104與傳送腔室102耦接的各點(diǎn),狹縫 閥108可耦接在其間。相似地,當(dāng)任兩個(gè)腔室耦接在一起時(shí),狹縫閥108 亦可耦接在其間。
      處理腔室104可為用于處理基板的任何適合的處理腔室104,例如等 離子輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)室、物理氣相沉積(PVD)室,或是其 它腔室。經(jīng)處理的基板可以為半導(dǎo)體基板、平板顯示器基板、太陽能面板 基板或其它任何基板。在各處理腔室104中,可處理一或多個(gè)基板。
      r圖2」為根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的狹縫閥與傳送腔室之間的界面200 的前視圖(透過傳送腔室來看)。當(dāng)狹縫閥開啟,開口 202是存在于傳送 腔室與處理腔室之間,以允許一或多個(gè)基板通過其間。狹縫閥可通過一或 多個(gè)0形環(huán)208而密接至傳送腔室。 一或多個(gè)間隔物204可設(shè)置于傳送腔 室與狹縫閥之間。此外, 一或多個(gè)緊固件206可耦接于狹縫閥和傳送腔室 之間。 一或多個(gè)緊固件206可沿著一共同軸210設(shè)置。
      r圖3」為根據(jù)本發(fā)明的 一 實(shí)施例的狹縫閥與傳送腔室之間的界面300 的前視圖(透過傳送腔室來看),其中狹縫閥并未熱膨脹及/或真空變形。 如上所述, 一或多個(gè)O形環(huán)306可設(shè)置于狹縫閥與傳送腔室之間,以將傳 送腔室密接至狹縫閥。另外, 一或多個(gè)間隔物322可設(shè)置于傳送腔室及狹 縫閥之間。當(dāng)狹縫閥相對于傳送腔室移動時(shí), 一或多個(gè)間隔物322會隨著 狹縫閥移動。 一或多個(gè)間隔物322會降低狹縫閥與傳送腔室彼此之間相互 摩擦的機(jī)會,而降低可能會污染任何基板的微粒產(chǎn)生的機(jī)會。當(dāng)狹縫閥開 啟, 一或多個(gè)基板會通過傳送腔室與處理腔室之間的開口 302。
      一或多個(gè)緊固構(gòu)件304可額外的將傳送腔室耦接至狹縫閥。在一實(shí)施 例中,各個(gè)緊固構(gòu)件可與對應(yīng)之間隔物322對準(zhǔn)。各個(gè)緊固構(gòu)件304可設(shè) 置在穿設(shè)于傳送腔室的狹孔308、 310、 312、 314、 316、 318內(nèi)。應(yīng)了解雖然此處示出6個(gè)狹孔308、 310、 312、 314、 316、 318,但亦可設(shè)置更 多或更少個(gè)狹孔308、 310、 312、 314、 316、 318。舉例來說, 一或多個(gè) 狹孔可設(shè)置于處理腔室與傳送腔室之間的開口 302下方。另外, 一或多個(gè) 狹孔可設(shè)置于界面300之中央320的另一側(cè)。
      在基材處理的過程中,處理腔室或鄰近腔室可加熱至高于約300。C的 溫度。基于傳導(dǎo)之故,狹縫閥亦會被加熱。在一實(shí)施例中,狹縫閥可傳導(dǎo) 性地加熱至約120 ~約20CTC。在另一實(shí)施例中,狹縫閥可傳導(dǎo)性地加熱 至約120 ~約13(TC。由于狹縫閥被加熱,則狹縫閥會膨脹。 一旦狹縫閥 冷卻,則其會收縮。相反地,由于傳送腔室并未直接耦接至處理腔室,而 是直接耦接至狹縫閥,故傳送腔室不會經(jīng)歷大幅度的熱膨脹/收縮。因此, 狹縫閥可相對于傳送腔室而膨脹及收縮。由于狹縫閥相對于較不變的傳送 腔室的膨脹及收縮之故,狹縫閥可允許沿著界面300而在傳送腔室及狹縫 閥之間滑動。相似地,當(dāng)處理腔室抽成真空時(shí),則狹縫閥可能因?yàn)槭┘又?本身的真空壓力而相對于傳送腔室產(chǎn)生變形。
      由于熱膨脹/收縮及/或真空變形之故,狹縫閥可相對于傳送腔室而膨脹 及/或收縮。因此,當(dāng)狹縫閥相對于傳送腔室膨脹及收縮時(shí),緊固構(gòu)件304 及間隔物322可隨著狹縫閥移動。距離界面300之中央320的距離愈遠(yuǎn), 則狹縫閥的膨脹程度愈大,因此,緊固構(gòu)件304及間隔物322的移動程度 也愈大。故,傳送腔室中的狹孔308、 310、 312、 314、 316、 318隨著離 界面300之中央320的距離愈遠(yuǎn),則會相繼變大。
      最接近界面300之中央320的狹孔308的寬度以箭頭A表示,且由于 狹孔308接近中央320之故,緊固構(gòu)件304有些微空間可移動。于狹縫 308中的緊固構(gòu)件304的中央與界面300之中央320相距的距離為G。狹 孔310的寬度以B表示,其相對于狹縫308而與界面300之中央320相 隔較大的距離H。狹孔310的寬度B大于狹孔308的寬度A。
      狹孔312的寬度以箭頭C表示,并且相較于狹孔310而與界面300 之中央320相隔較大的距離1。狹孔312的寬度C大于狹孔310的寬度B。 狹孔314的寬度以箭頭D表示,并且相較于狹孔312而與界面300之中 央320相隔較大的距離J。狹孔314的寬度D大于狹孔312的寬度C。狹
      9孔316的寬度以箭頭E表示,并且相較于狹孔314而與界面300之中央 320相隔較大的距離K。狹孔316的寬度E大于狹孔314的寬度D。狹孔 318的寬度以箭頭F表示,并且相較于狹孔316而與界面300之中央320 相隔較大的距離L。狹孔318的寬度F大于狹孔316的寬度E。因此,距 離界面300之中央320愈遠(yuǎn),則狹孔愈大。
      r圖4」為根據(jù)本發(fā)明的「圖3」所示的狹縫閥與傳送腔室之間的界面 300的前視圖,其中狹縫閥為熱膨脹及/或真空變形。由于狹縫閥的熱膨脹 及/或真空變形,緊固構(gòu)件304會相對于傳送腔室而移動。緊固構(gòu)件304 相對于傳送腔室的移動是顯示為緊固構(gòu)件304于傳送腔室的狹孔310、 312、 314、 316、 318內(nèi)移動的距離。由于狹孔308鄰近界面300之中央 320,故狹孔308中的緊固構(gòu)件304并不會明顯地相對于傳送腔室而移動。 因此,狹孔308中的緊固構(gòu)件304維持與界面300之中央320實(shí)質(zhì)相距距 離G。然而,由于狹縫閥的熱膨脹之故,在各個(gè)其它狹孔310、 312、 314、 316、 318內(nèi)的緊固構(gòu)件304會相對于傳送腔室而移動。
      狹孔310中的緊固構(gòu)件304的中央與界面300的中央320相距距離M。 距離M大于距離H。狹孔312中的緊固構(gòu)件304的中央與界面300的中 央320相距距離N。距離N大于距離I。狹孔314中的緊固構(gòu)件304的中 央與界面300的中央320相距距離P。距離P大于距離J。狹孔316中的 緊固構(gòu)件304的中央與界面300的中央320相距距離R。距離R大于距離 K。狹孔318中的緊固構(gòu)件304的中央與界面300的中央320相距距離S。 距離S大于距離L。另外亦注意間隔物322也移動了 ,間隔物322在膨脹 /收縮/變形的過程中沿著傳送腔室滑動。
      通過允許狹縫閥相對于傳送腔室移動,則O形環(huán)306可維持密接至傳 送腔室。若缺乏相對于傳送腔室移動的能力,狹縫閥會因?yàn)閭鲗?dǎo)加熱所產(chǎn) 生的膨脹而變形,并傷害O形環(huán),且與傳送腔室之間無法密封。
      r圖5」繪示根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的傳送腔室502與狹縫閥504之 間的界面500的剖面視圖。0形環(huán)508可設(shè)置于傳送腔室502及狹縫閥 504之間。0形環(huán)508可部分設(shè)置于狹縫閥504的溝槽518中。 一或多個(gè) 間隔物506可設(shè)置于狹縫閥504及傳送腔室502之間。 一或多個(gè)間隔物506可埋頭鉆設(shè)(countersunk)于狹縫閥504中,并延伸出狹縫閥504 的外有距離T。
      一或多個(gè)間隔物506可包括一低摩擦及低熱傳導(dǎo)的材料。在一實(shí)施例 中,低摩擦與低熱傳導(dǎo)材料可包括陶瓷、工程塑料(engineering plastic)、 聚醯胺、聚醯亞胺、涂覆有N舊(鎳硼合金)的金屬、涂覆有WS2 (二硫 化鴒)的金屬,及其組合。在一實(shí)施例中,金屬包括不銹鋼。材料的低熱 傳導(dǎo)性可減少由狹縫閥傳導(dǎo)至傳送腔室的熱量。低摩擦是允許間隔物506 沿著與狹縫閥504相接的傳送腔室的一側(cè)520而滑動。由于熱膨脹/收縮及 /或真空變形而造成狹縫閥504移動時(shí),間隔物506可沿著傳送腔室502 的一側(cè)520滑動。當(dāng)狹縫閥收縮時(shí),間隔物506亦可沿著傳送腔室502的 一側(cè)520滑動。
      一或多個(gè)間隔物506可設(shè)置于O形環(huán)508的大氣側(cè)。由于間隔物506 位于O形環(huán)508的大氣側(cè),則在間隔物506沿著傳送腔室502的一側(cè)520 滑動時(shí),由間隔物506及/或傳送腔室502的一側(cè)520所產(chǎn)生的微粒則不 會進(jìn)入包含在傳送腔室502及處理腔室中的處理空間而污染工藝。間隔物 506可協(xié)助維持傳送腔室502與狹縫閥504之間的距離T。維持傳送腔室 502與狹縫閥504之間的距離T可降低當(dāng)狹縫閥504熱膨脹/收縮及/或真 空變形時(shí),狹縫閥504與傳送腔室502之間相互摩擦的可能性。當(dāng)狹縫閥 504與傳送腔室502相互摩擦?xí)r,微粒會使狹縫閥504、傳送腔室502或 兩者剝落。微粒可能會污染基板??苫讵M縫閥504的熱膨脹/收縮及/或 真空變形而設(shè)定距離T。距離T可以為可允許狹縫閥504與傳送腔室502 之間為有效密封,并同時(shí)可降低傳送腔室502與狹縫閥504之間產(chǎn)生摩擦 的可能性的足夠距離。
      緊固構(gòu)件510可額外將狹縫閥504耦接至傳送腔室502。緊固構(gòu)件510 可包括一螺紋部分516,該螺紋部分516是螺鎖耦接至狹縫閥504。平滑 部分522可設(shè)置于延伸穿過傳送腔室502的狹孔524中。當(dāng)狹縫閥504 產(chǎn)生熱膨脹及/或真空變形,并沿著傳送腔室502的一側(cè)520滑動時(shí),平滑 部分522可以于狹孔524中移動。緊固構(gòu)件510可包括一罩蓋部分512, 而罩蓋部分512具有一凸緣部分514。凸緣部分514可抵靠在傳送腔室502的一側(cè)526。凸緣部分514可預(yù)防緊固構(gòu)件510將狹縫閥504過度旋緊并 夾擠至傳送腔室502。間隔物506以及抵靠在傳送腔室502的一側(cè)526的 凸緣部分514的組合可協(xié)助維持傳送腔室502與狹縫閥504之間的距離T。 間隔物506以及抵靠在傳送腔室502的一側(cè)526的凸緣部分514的組合亦 可協(xié)助將O形環(huán)508密接在傳送腔室502及狹縫閥504之間。
      通過補(bǔ)償在處理過程中狹縫閥的預(yù)期熱膨脹/收縮及/或真空變形,狹縫 閥則不會變形或是與鄰近腔室摩擦而產(chǎn)生有害的污染物。在不存在有狹縫 閥的變形及對鄰近腔室的摩擦之前提下,則可在狹縫閥與腔室之間維持有 效的密封。
      惟本發(fā)明雖以較佳實(shí)施例說明如上,然其并非用以限定本發(fā)明,任何 熟習(xí)此技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)所作的更動與潤飾,仍 應(yīng)屬本發(fā)明的技術(shù)范疇。本發(fā)明的范疇由權(quán)利要求所界定。
      權(quán)利要求
      1.一種狹縫閥,包括狹縫閥主體,具有穿設(shè)于其中的開口,該開口的尺寸是允許基板通過該開口,該主體還具有第一溝槽,該第一溝槽刻設(shè)(carved)于該主體的表面內(nèi),并環(huán)繞該開口,該主體亦具有數(shù)個(gè)第二溝槽,該些第二溝槽亦刻設(shè)于與該第一溝槽相同的該主體的該表面內(nèi),該些第二溝槽設(shè)置于該第一溝槽的徑向外側(cè),該些第二溝槽沿著實(shí)質(zhì)線形路徑延伸;以及一或多個(gè)間隔物組件,設(shè)置于該些第二溝槽的至少其中之一內(nèi)。
      2. 如權(quán)利要求1所述的狹縫閥,其中該一或多個(gè)間隔物組件包括至少 一材料,該材料是選自由陶瓷、聚醯胺、聚醯亞胺、鎳硼合金(N舊)、二 硫化鴒(WS2)及其組合所組成的群組。
      3. 如權(quán)利要求1所述的狹縫閥,其中該一或多個(gè)間隔物組件包括不銹鋼。
      4. 如權(quán)利要求3所述的狹縫閥,其中該不銹鋼是涂覆有一材料,該材 料是選自由鎳硼合金(N舊)、二硫化鎢(WS2)及其組合所組成的群組。
      5. —種設(shè)備,包括傳送腔室,包括傳送腔室主體,該傳送腔室主體具有第一開口,穿設(shè)于該傳送腔室主體,該第一開口具有第一寬度; 一或多個(gè)第二開口,穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第二開口具有第二寬度,該第二寬度小于該第一寬度;以及一或多個(gè)第三開口,穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第三開口具有第三寬度,該第三寬度大于該第二寬度,并小于該第一寬度;狹縫閥,該狹縫閥包括狹縫閥主體,具有穿設(shè)于其中的開口,該開口的尺寸是允許基板通過該開口,該主體還具有第一溝槽,該第一溝槽刻設(shè)于該主體內(nèi),并環(huán)繞該開口 ,該主體亦具有一或多個(gè)刻設(shè)于該主體內(nèi)的第二溝槽;以及一或多個(gè)間隔物組件,設(shè)置于該一或多個(gè)第二溝槽的至少其中之一內(nèi);以及O形環(huán),耦接于該狹縫閥與該傳送腔室之間。
      6. 如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中該至少一第二開口及該至少一第三 開口是沿著一共同軸設(shè)置。
      7. 如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其中該一或多個(gè)第三開口包括數(shù)個(gè)開口 , 其中各個(gè)該些第三開口的該第三寬度隨著沿該共同軸更遠(yuǎn)離該第二開口而 增力口。
      8. 如權(quán)利要求7所述的設(shè)備,更包括緊固構(gòu)件,該緊固構(gòu)件穿設(shè)于各 個(gè)該些第二開口及各個(gè)該些第三開口 ,其中該緊固構(gòu)件是與該狹縫閥主體 耦接,并且其中該緊固構(gòu)件包括一罩蓋部分,該罩蓋部分是耦接至該傳送 腔室的第一表面,且該第一表面是相對于該傳送腔室與該至少一 O形環(huán)及 該一或多個(gè)間隙物組件耦接的第二表面。
      9. 如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,更包括緊固構(gòu)件,該緊固構(gòu)件穿設(shè)于各 個(gè)該些第二開口及各個(gè)該些第三開口 ,其中該緊固構(gòu)件是與該狹縫閥主體耦接,并且其中該緊固構(gòu)件包括一罩蓋部分,該罩蓋部分是耦接至該傳送 腔室的第一表面,且該第一表面是相對于該傳送腔室與該至少一 O形環(huán)及 該 一或多個(gè)間隙物組件耦接的第二表面。
      10. 如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中該間隙物組件包括至少一材料, 該材料是選自由陶瓷、聚醯胺、聚醯亞胺、鎳硼合金(N舊)、二硫化鎢(WS2 ) 及其組合所組成的群組。
      11. 如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中該一或多個(gè)間隔物組件包括不銹鋼。
      12. 如權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中該不銹鋼是涂覆有一材料,該 材料是選自由鎳硼合金(N舊)、二硫化鎢(WS2 )及其組合所組成的群組。
      13. 如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中該狹縫閥是額外耦接至一處理腔室。
      14. 如權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中該傳送腔室主體更包括 一或多個(gè)第四開口,是穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第四開口具有一第四寬度,該第四寬度是實(shí)質(zhì)等于該第二寬度;以及一或多個(gè)第五開口,穿設(shè)于該傳送腔室主體,各個(gè)該些第五開口具有 第五寬度,該第五寬度是實(shí)質(zhì)等于該第三寬度;其中該至少一第二開口及該至少一第三開口是沿著第一共同軸設(shè)置, 其中該至少一第四開口與該至少一第五開口是沿著第二共同軸設(shè)置,該第 二共同軸不同于該第一共同軸,以及其中該至少一第四開口與該至少一第 二開口是沿著第三共同軸設(shè)置,該第三共同軸不同于該第一共同軸及該第 二共同軸。
      15. 如權(quán)利要求14所述的設(shè)備,其中該第一共同軸與該第二共同軸 為實(shí)質(zhì)平^亍。
      全文摘要
      本發(fā)明一般包括用于與一腔室相接的浮動(floating)狹縫閥。一浮動狹縫閥是相對于另一對象(例如腔室)而移動或「浮動(float)」。狹縫閥可耦接于二腔室之間。當(dāng)耦接至狹縫閥的腔室加熱時(shí),狹縫閥亦可因傳導(dǎo)而加熱。當(dāng)狹縫閥加熱時(shí),其可能會產(chǎn)生熱膨脹。當(dāng)腔室抽成真空時(shí),狹縫閥可能因?yàn)檎婵掌疃冃?。通過在腔室及狹縫閥之間放置一個(gè)低摩擦物質(zhì)間隔物,則在熱膨脹/收縮及/或真空偏差期間,狹縫閥不會磨抵腔室,因此,不會產(chǎn)生不期望的微粒污染物。另外,用于將狹縫閥耦接至腔室且鉆設(shè)于腔室的狹孔的尺寸設(shè)計(jì)是可容納狹縫閥的熱膨脹/收縮及/或真空偏差。
      文檔編號C23C16/00GK101627148SQ200880006747
      公開日2010年1月13日 申請日期2008年2月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月1日
      發(fā)明者J·M·懷特, 松本隆之, 栗田真一 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司
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