專利名稱：：濺射靶材以及由該濺射靶材所得的濺射靶的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種濺射靶材、以及由該濺射靶材所得的濺射靶，該濺射靶材的特征在于，對角部實施倒角處理。
背景技術：
：到目前為止，作為在制造例如半導體等的電子元件用材料、以及電氣元件用材料時所使用的成膜法，一直廣泛采用能夠較容易地控制膜厚度以及成分的濺射法。在該濺射法中所使用的濺射靶一般采用以下的濺射靶，即通過粘合材料，將由欲形成薄膜的材料所組成的濺射靶材、以及由具有優(yōu)良導電性和導熱性的材質所組成的背板進行接合而成。當使用濺射靶進行濺射處理時，人們希望能盡可能地減少電弧的產生，從而進行穩(wěn)定的成膜。而且，在制造濺射靶材時，也需要通過抑制該靶材的裂紋或裂縫的產生，從而提高成品率。作為應對這些要求的靶材，在專利文件13中，公開了在邊緣部實施了倒角處理的靶材。這些靶材均在邊緣部實施了倒角處理，該邊緣部例如由濺射面和側面的兩個面所構成。但是，雖然這些靶材具有若干改善效果，但依然不是能夠可靠地減少電弧產生的制品。而且，當制造這些耙材時，也不能充分地抑制靶材的裂紋以及裂縫的產生。專利文件l:日本特開平11-61395號公報專利文件2:日本特開2000-345326號公報專利文件3:日本特開2003-55763號公報
發(fā)明內容發(fā)明所要解決的課題本發(fā)明是在以上情況的基礎上完成的，其目的在于，提供一種能夠可靠地減少電弧產生且難以產生裂紋和裂縫的濺射靶材、以及具備這種濺射耙材的濺射耙。3用于解決課題的手段本發(fā)明的濺射靶材為，一種具有矩形狀的濺射面、矩形狀的側面以及矩形狀的粘合面并呈近似板狀的濺射靶材，其特征在于，通過該濺射靶材所具有的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部，具有被實施倒角處理而成的形狀。所述倒角處理可以是C倒角處理，也可以是R倒角處理。這種倒角處理可以在濺射面一側所形成的角部上實施，也可以在粘合面一側所形成的角部上實施。并且，在所述濺射靶材中，也可以在兩個面抵接而形成的邊緣部上，實施倒角處理。本發(fā)明的濺射靶的特征在于，所述濺射靶材和背板，通過粘合材料粘合而成。另外，在所述濺射靶中，也可以并列設置多個所述濺射耙材。發(fā)明的效果由于本發(fā)明的濺射靶材，在通過構成該濺射靶材的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部上，實施倒角處理，因此在成為電弧產生的主要起點的角部上不具有尖形形狀部。因而使用本發(fā)明的濺射靶材，就能夠有效地抑制因角部而引起的電弧產生，從整個濺射耙來看，也能夠顯著減少電弧的產生。另外，使用本發(fā)明的濺射靶材，能夠抑制因電弧產生引起的裂縫或裂紋的生成，并能顯著提高濺射靶材的利用效率。其結果為，能夠實現(xiàn)穩(wěn)定的成膜工序。并且，濺射處理的等離子體，不僅在濺射面有時也會蔓延到側面，在這種情況下，將有可能產生因粘合面一側的角部而引起的電弧。但是，如果使用對粘合面一側的角部實施倒角處理的本發(fā)明的濺射靶材，就能夠抑制這種電弧的產生，也能夠有效防止因電弧沖擊而引起的裂縫以及裂紋的產生。另外，在本發(fā)明的濺射靶材中，還能夠有效防止因存在于角部的尖形形狀部而引起的真空包裝的破裂。圖1為本發(fā)明濺射靶材的一個示例的立體圖。圖2為，具有近似板狀的一般機械加工元件的立體圖。圖3為，本發(fā)明的濺射靶材的一個示例，即角部A的放大立體圖。(a)在角部A上實施Cl的C倒角處理；(b)在角部A上實施C2的C倒角處理；(c)在角部A上實施C3的C倒角處理。圖4為，本發(fā)明的濺射靶材的一個示例，即角部A的放大立體圖。(a)在角部A上實施Rl的R倒角處理；(b)在角部A上實施R2的R倒角處理；(c)在角部A上實施R3的R倒角處理。圖5為現(xiàn)有濺射靶材的一個示例的立體圖。在邊緣部33a33b上實施R倒角處理。圖6為本發(fā)明濺射靶材的一個示例的立體圖。在邊緣部45a45c上實施R倒角處理，并且在角部A上實施R倒角處理。圖7為，并列設置了多個濺射靶材1的濺射靶50的俯視圖。圖8為，表示在實施例中包裝時破裂的評價方法的圖。符號說明1濺射靶材2濺射面3側面4粘合面20邊緣部22角部23a、23b、23c邊緣部32濺射面33a、33b側面35a、35b通過R倒角處理形成曲面的邊緣部36角部43a、43b側面45a、45b、45c通過R倒角處理形成曲面的邊緣部50濺射靶(多分割靶)52背板60真空包裝薄膜62彈簧秤A濺射靶材的角部B濺射耙50的角部X在角部所形成的棱線C在多分割靶中各靶材的角部A所處的部位D在多分割靶中各靶材的角部A所處的部位d濺射靶材l的厚度l在抵接的各個面的長度具體實施例方式下面，根據(jù)需要參照附圖，對本發(fā)明的濺射靶材以及使用該濺射靶材制造的濺射靶進行詳細說明。在本說明書中的"倒角處理"是指，在由面和面相交而形成的角上進行斜面或圓角的處理。在只稱為"倒角處理"的情況下，對通過該處理所形成的角部形狀沒有嚴格限定。但是，在稱為"C倒角處理"以及"R倒角處理"的情況下，由各自的處理所形成的角部形狀，分別被限定為規(guī)定的形狀。C倒角處理是指，將面與面抵接的部分以規(guī)定的角度進行切割的加工處理，規(guī)定的角度是指，相對于抵接的面通常為45±15°。Qx。/。的C倒角處理是指，在所抵接的各個面的長度相對于濺射靶厚度的比例(％)是(x的C倒角處理。例如C，。是指，當濺射靶的厚度為10mm時，在抵接的各個面的5mm處以45±15°的角度進行切割的C倒角處理。Ca的C倒角處理是指，在抵接的各個面的長度是amm處以規(guī)定的角度進行切割的加工處理，例如C3是指，在抵接的各個面的長度為3mm處以規(guī)定的角度進行切割的加工處理半徑。所謂規(guī)定的角度，通常為45±15°。R倒角處理是指，將面與面抵接的部分加工成圓角形狀的加工處理。R|3%的R倒角處理是指，加工成半徑長度相對于濺射靶厚度的比例(％)為卩的圓角形狀的R倒角處理。例如R，是指，當濺射靶的厚度為10mm時，將其加工成半徑為5mm的圓角形狀的R倒角處理。Rb的C倒角處理是指，加工成半徑bmm的圓角形狀的R倒角處理。例如R3是指，加工成半徑3mm的圓角形狀的R倒角處理。<濺射耙材>圖1為，作為本發(fā)明濺射靶材的一個示例即濺射靶材l的立體圖。如圖1所示，濺射靶材1為，一種具有矩形狀的濺射面2、矩形狀的側面3以及矩形狀的粘合面4，并呈近似板狀的濺射靶材。濺射靶材1的特征在于，通過構成濺射靶材1的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部A，具有被實施倒角處理而成的形狀。圖2為，具有近似板狀的一般機械加工元件的立體圖。在機械加工元件等中，"邊緣部"是指兩個面相交的部位，在圖2中表示為邊緣部20。在機械加工元件等中，"角部"是指包括三個面的交點的部位，在圖2中表示為角部22。它們的定義都是以日本JISB0051-2004為標準的。濺射靶材1的角部A為，濺射面2、側面3和粘合面4這三個面抵接的部位，且該角部A被實施了倒角處理。這種角部在未被實施倒角處理的情況下，該角部呈包括三個面的邊緣部的交點的三棱錐狀。當進行濺射處理時，若在濺射靶材上存在這種三棱錐狀的角部，則由該形狀而引起的電弧的產生率將會變得非常高。該電弧的沖擊即使很小，也有可能在濺射耙材上產生缺口。而且，若沖擊較大，則濺射靶材有可能破裂。在本發(fā)明的濺射靶材中，通過對該角部A實施倒角處理，從而能夠去除存在于角部上的三棱錐狀部，并使濺射處理時的電弧的產生銳減，且能夠防止靶材的缺口以及裂紋。具體而言，這種倒角處理既可以是C倒角處理，也可以是R倒角處理。例如，在圖3中，圖示了對角部A實施了C倒角處理的本發(fā)明濺射靶材l的放大立體圖。圖3(a)為實施了以C1、且以45。進行切割的C倒角處理的濺射靶材l的圖；圖3(b)為實施了以C2、且以45。進行切割的C倒角處理的濺射靶材l的圖；圖3(c)為實施了以C3、且以45。進行切割的C倒角處理的濺射靶材1的圖。此時的濺射耙材1的厚度都是10mm。C倒角處理是指，如上文所述，對通過構成該濺射靶材l的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部A，以規(guī)定的角度進行切割的加工處理。所謂規(guī)定的角度，通常為45±15°，優(yōu)選為45°。當實施這種處理時，能夠去除由于三個面抵接而在角部A上所形成的三棱錐狀部，并能夠制成平面形狀，從而能夠有效地防止由于位于角部A的三棱錐狀部而產生的電弧。圖3(a)(c)都是沒有對邊緣部20實施倒角處理的示例，但從能夠自與角部A鄰接7的部位中去除尖形形狀部的觀點出發(fā)，優(yōu)選對這些邊緣部20也實施倒角處理。雖然這種C倒角處理能夠根據(jù)濺射靶材1的厚度d而改變，但是在濺射靶材1的厚度d為220mm左右時，優(yōu)選Ca%(a表示通常是380、優(yōu)選是350的數(shù)字)的C倒角處理。Ca。/。的C倒角處理為以下的C倒角處理，即、在由三個面抵接所形成的角部A上，通過進行C倒角處理而重新形成的三角形狀的面的各邊長度，相對于濺射靶材1的厚度d是a^。因此，所述Ca。/。(a表示通常是380、優(yōu)選是350的數(shù)字)的C倒角處理是指以下的C倒角處理，即、相對于濺射靶材1的厚度d，抵接的各個面的長度l的比例(％)、即通過進行C倒角處理而重新形成的三角形狀的面的各邊長度1，相對于濺射靶材l的厚度d的比例通常是380(%)、優(yōu)選是350(%)。具體而言，例如在濺射靶材l的厚度d為10mm的情況下，d。。/。是指以下的C倒角處理，在抵接的各個面的長度，即通過進行C倒角處理而重新形成的三角形狀的面的各邊長度1為lmm。另外，這種C倒角處理，也可以是C0.3C5的C倒角處理。C0.3C5的C倒角處理是指，在抵接的各個面的長度，即通過進行C倒角處理而重新形成的三角形狀的面的各邊長度l是0.35mm的C倒角處理。例如，雖然能夠根據(jù)濺射靶材1的厚度d而改變，但優(yōu)選為，相對于厚度5mm的濺射靶材1為C0.3C4的C倒角處理，相對于厚度10mm的濺射靶材1為C0.3C5的C倒角處理。具體而言，這種C倒角處理是通過以下這些方法而實施的，例如，使用了磨石或紙的手工作業(yè)、平面磨床、激光加工、機械加工、NC銑刀、研磨機或放電加工。另外，在圖4中，圖示了在角部A實施了R倒角處理的濺射靶材1的放大立體圖。圖4(a)為實施了Rl的R倒角處理的圖；圖4(b)為實施了R2的C倒角處理的圖；圖4(c)為實施了R3的C倒角處理的圖。此時的濺射靶材1的厚度都是10mm。如上所述，R倒角處理是指，將通過構成該濺射靶材1的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部A，制成圓角形狀的加工處理。當實施這種處理時，能夠去除由于三個面抵接而在角部A上所形成的三棱錐狀部，并能夠制成曲面形狀，從而能夠有效地防止由于位于角部A上的三棱錐狀部而產生的電弧。圖4(a)(c)都是沒有對邊緣部20實施倒角處理的示例，但從能夠自與角部A鄰接的部位中去除尖形形狀部的觀點出發(fā)，優(yōu)選也對這些邊緣部20實施倒角處理。雖然這種R倒角處理能夠根據(jù)濺射耙材1的厚度d而改變，但是在濺射靶材1的厚度d為220mm左右時，優(yōu)選R(3%(p表示通常是380、優(yōu)選是350的數(shù)字)的R倒角處理。該倒角處理是指，半徑r的長度相對于濺射靶材l的厚度d的比例(％)通常是380(%)、優(yōu)選是350(%)的R倒角處理。在這里，例如在濺射靶材1的厚度d為10mm的情況下，R10%是指，將其加工成半徑r的長度為lmm的圓角形狀的處理。因此，作為所述倒角處理，當濺射靶材1的厚度為5mm時，優(yōu)選半徑為0.154mm的R倒角處理，當濺射靶材1的厚度為10mm時，優(yōu)選半徑為0.38mm的R倒角處理。另外，這種R倒角處理，也可以是R0.3R5的R倒角處理。R0.3R5的R倒角處理是指，半徑r的長度為0.35mm的R倒角處理。具體而言，這種R倒角處理是通過與C倒角處理中所采用的方法相同的方法而實施的。在本發(fā)明的濺射靶材中，通過至少三個面抵接而形成的角部，只需具有實施了所述倒角處理而成的形狀即可。例如，如果是實施了所述R倒角處理的角部，則形成該角部的曲面形狀，只需呈具有一部分的由該R倒角處理所形成的曲面形狀即可。作為本發(fā)明的濺射靶材，最優(yōu)選為，形成角部的曲面形狀全部都是由R倒角處理所形成的曲面。另外，在圖3(b)中，也可以為，對位于實施了C倒角處理的角部周邊的、通過C倒角處理而重新形成的邊緣部23a23c，再進一步實施R倒角處理后的形狀。圖5為，表示現(xiàn)有濺射靶材的一個示例的立體圖，雖然在側面33a33b與濺射面32抵接的邊緣部35a35b上實施了R倒角處理，但沒有對角部實施任何倒角處理。圖6為表示本發(fā)明的濺射耙材1的一個示例的立體圖，在側面43a43b與濺射面2抵接的邊緣部45a45c上實施了R倒角處理，并且也在角部上實施了R倒角處理。如圖5所示，在現(xiàn)有的濺射靶材10中，即使在邊緣部35a35b上實施R倒角處理從而形成曲面，但是也在角部36上形成了因邊緣部35a和35b的R倒角處理而導致的棱線X。特別是在具有該棱線X的尖形形狀部存在于角部36時，不僅在濺射處理時從該部位處容易產生電弧，而且還因電弧而容易產生裂縫，并且也有可能成為靶材產生裂紋的原因。但是，如圖6所示，在本發(fā)明的濺射靶材l中，由于在由濺射面2和側面43a43b組成的三個面抵接所形成的角部A上，實施R倒角處理，因此不會存在如圖5所示的棱線X，也不會在角部A上形成尖形形狀部。因此，能夠有效地防止因棱線X引起的電弧產生。另外，雖然圖6以在角部A實施了R倒角處理的本發(fā)明濺射靶材1為例，與現(xiàn)有的示例進行了比較說明，但如上所述，在本發(fā)明的濺射靶材l的角部A實施的倒角處理，不只是R倒角處理也可以是C倒角處理。但是，從還能可靠地去除在與角部A鄰接的部位中的尖形形狀部的觀點出發(fā)，優(yōu)選為R倒角處理。而且，圖6為在邊緣部45a45c上實施R倒角處理的狀態(tài)，但如圖3以及圖4所示，也可以是在邊緣部未實施倒角處理的狀態(tài)。g卩、在本發(fā)明的濺射靶材1中，只要如圖3圖4所示、至少在角部A實施倒角處理即可，但從進一步可靠地去除尖形形狀部的觀點出發(fā)，優(yōu)選在邊緣部也實施倒角處理。在濺射面2的一側，形成有四個濺射靶材1的角部A，并且在濺射面2的背面一側即粘合面4一側，也形成有四個濺射耙材l的角部A。若在直接受到濺射處理沖擊的濺射面2—側所形成的角部A上，實施所述的角部的倒角處理，則能夠更加有效地抑制電弧的產生。但是，濺射處理的沖擊，有時會根據(jù)該濺射處理條件而到達濺射耙材的側面，該沖擊也有時會從靶材的側面?zhèn)鲗У秸澈厦妗．斒艿竭@種沖擊時，如果在濺射靶材1的粘合面一側所形成的角部A上存在尖形形狀部，則有可能促進電弧的產生。而且，該電弧的產生，有可能成為濺射耙材1的龜裂或裂紋的誘因。因此，優(yōu)選為，在濺射靶材l的粘合面一側所形成的角部A上也實施倒角處理，從而去除能夠成為電弧的產生原因的尖形形狀部。通過粘合材料，將濺射靶材1與背板接合在該粘合面上，從而能夠制造濺射靶。所制造的濺射靶在發(fā)貨時利用真空包裝進行捆包，如果是現(xiàn)有的濺射靶，則由于在角部存在尖形形狀部，因而經常會發(fā)生真空包裝的破裂。但是，在本發(fā)明的濺射靶材l中，由于在角部A實施倒角處理，因此能夠從角部中去除尖形形狀部，從而減少真空包裝的破裂。對于本發(fā)明的濺射靶材1的材質，沒有特別的限制，可包括如ITO(Indium-Tin-Oxide)這種以In或Sn為主成分的金屬氧化物、鋁、銅、鈦、鉻、鉬、AZO(鋁一鋅氧化物)等。其中優(yōu)選為，在非常需要靶尺寸大型化的平板顯示器用成膜中所采用的材料，即ITO(Indium-Tin-Oxide)。<濺射靶>本發(fā)明的濺射靶通常為，通過粘合材料，將一個所述的濺射靶材1接合在背板上而制造的。對背板的材質沒有特別的限定，優(yōu)選使用具有優(yōu)良的導電性、導熱性的純銅、銅合金等。作為粘合材料的材質，其受到濺射靶材和背板的材質的影響，對其沒有特別的限定，例如可以使用In類、Sn類、Ag類、Zn類等合金焊料、蠟材料、樹脂等。另外，如圖7的濺射靶50的俯視圖所示，本發(fā)明的濺射靶可以是濺射靶50、即多分割靶，該濺射靶50是通過并列設置多個濺射耙材1，并在它們的粘合面上，通過粘合材料將這些濺射靶材1接合于背板52而制造的。在這種情況下，在各個濺射靶材l的多個位置上形成有角部A，但是在這多個角部A中，至少對濺射靶50上所形成的角部B實施所述的倒角處理即可。但是，從能夠更加可靠地抑制電弧產生的觀點出發(fā)，優(yōu)選在各個濺射耙材1上所形成的角部A處也實施倒角處理。另外，如圖7所示，這些角部A所處的部位，被大致區(qū)分為部位C和部位D，但對位于哪個部位的角部A實施倒角處理，可根據(jù)與所使用的濺射裝置的關系來決定。通過這種方式，能夠在實施濺射處理時對最容易成為電弧產生原因的濺射靶的角部B上所形成的尖形形狀部進行去除，從而能夠更加有效地防止電弧的產生。實施例下面根據(jù)實施例，對本發(fā)明再進行具體的說明，但本發(fā)明不受這些實施例的限定。另外，使用所獲得的濺射靶材，按照以下的評價項目進行了評價?！墩澈蠒r的缺口》ii使用粘合材料(純In)，將所獲得的濺射靶材接合(粘合)在無氧銅制的背板上。從背板上剝離該濺射靶材，并再次使用粘合材料(純In)進行了粘合。重復十次該粘合后，對在濺射靶材上有沒有產生缺口進行了確認。〇在粘合面的全部邊緣部中，完全沒有產生缺口。在粘合面的全部邊緣部中，產生了13處的缺口。X:在粘合面的全部邊緣部中，產生了4處以上的缺口?！栋b時的破裂》在真空包裝用薄膜的剩余部分的折疊加工、捆包過程或裝卸過程時，被真空包裝后的濺射靶通常會受到500g左右的負載。因此，如圖8所示，對包裝時的破裂的評價為，使用厚度為lOO)im的真空包裝用薄膜(聚丙烯一聚乙烯制造的雙層結構的薄膜)，對所獲得的濺射靶材進行了真空包裝，并配置成上表面為粘合面，下表面為濺射面。然后，使用彈簧秤62，從上表面的上方沿箭頭方向(垂直方向)以500g的力牽拉真空包裝用薄膜的剩余部分，并對此時的真空包裝上有無破裂進行了確認。〇真空包裝上沒有發(fā)生破裂。X:真空包裝上發(fā)生了破裂?！峨娀‘a生次數(shù)》使用所獲得的濺射靶，在以下所示的濺射條件下，實施濺射處理，并通過電弧計數(shù)器(pArcMonitorMAMGenesis、株式會社，乂一夕亍夕乂口^一制造)，對電弧產生次數(shù)進行了計數(shù)。濺射條件工藝壓力-0.4Pa接通電能二3W/cm2濺射時間=3小時成膜溫度=室溫如圖6所示，制造了寬150mmx長635mmx厚10mm的近似板狀的ITO濺射靶材(SnO2二10重量X，相對密度為99.8%)，在邊緣部45a45c上實施了Rl的倒角處理，并且在位于濺射面2的四個角部A上實施了Rl的倒角處理。然后，使用所述的粘合材料，將該濺射靶材1接合于無氧銅制的背板(230x750x20mm)上，從而制成了濺射靶。使用所獲得的濺射靶，進行了有關所述各評價項目的評價。所得的結果如表l所示。[比較例1]如圖5所示，制造了寬150mmx長635mmx厚10mm的近似板狀的ITO濺射靶材(SnO2二10重量X，相對密度為99.8%)，在邊緣部35a35b上實施了R1的倒角處理。然后，以與實施例l相同的方式，制造了濺射靶，并進行了各項評價。所得的結果如表1所示。制造了由表1所示材質組成的ITO濺射靶材，在位于濺射面2的四個角部A上實施了C0.3的倒角處理，并且在位于粘合面的邊緣部以及角部上實施了C0.5的倒角處理。然后，以與實施例1相同的方式，制造了濺射靶，并進行了各項評價。所得的結果如表1所示。制造了由表1所示材質組成的ITO濺射靶材，并且沒有對邊緣部以及角部實施任何倒角處理。然后，以與實施例l相同的方式，制造了濺射靶，并進行了各項評價。所得的結果如表l所示。制造了由表1所示材質組成的ITO濺射靶材，并根據(jù)表1所示的內容，在邊緣部或角部上實施了倒角處理。然后，以與實施例l相同的方式，制造了濺射靶，并進行了各項評價。所得的結果如表l所示。制造了兩個寬150mmx長635mmx厚10mm的近似板狀的ITO濺射靶材(SnO2=10重量％，相對密度為99.7%),在邊緣部45a45c上實施了Rl的倒角處理，并且在位于粘合面的邊緣部以及角部上實施了C3的倒角處理。然后，使用所述的粘合材料，將這兩個濺射靶材接合于背板上，從而制成了并列設置有兩個濺射靶材的多分割濺射靶。兩個濺射耙材被配置為，使其各自的長邊平行排列，且其間隔為0.3mm。關于濺射面，在角部B實施了Rl的倒角處理，并在位于兩個濺射靶材相互對置的分割部處的角部A上也實施了倒角處理。使用所得的多分割濺射靶，進行了有關所述各評價項目的評價。所得的結果如表1所示。[實施例11]將位于濺射面和粘合面的邊緣部以及角部上的倒角處理按照表1所示的內容實施，而在位于兩個濺射耙材相互對置的分割部處的角部A上沒有實施倒角處理，除此之外，以與實施例10相同的方式制造了多分割濺射耙。使用所獲得的多分割濺射靶，進行了有關所述各評價項目的評價。所得的結果如表1所示o制造了四個寬150mmx長635mmx厚10mm的近似板狀的ITO濺射耙材"1102=10重量％，相對密度為99.5%)，在位于粘合面的邊緣部上實施了C0.3的倒角處理。然后，使用所述的粘合材料，將四個濺射靶材接合于背板上，從而制成了并列設置有四個濺射靶材的多分割濺射耙。四個濺射耙材被設置為，使其各自的兩邊分別與其它濺射靶材的兩邊平行排列，且其間隔為0.3mm。關于濺射面，在角部B上實施了C2的倒角處理，而在位于四個濺射耙材相互對置的分割部處的角部A上沒有實施倒角處理。使用所獲得的多分割濺射耙，進行了有關所述各評價項目的評價。所得的結果如表1所示。按照表1所示的內容，在位于濺射面和粘合面的邊緣部以及角部上實施了倒角處理，除此之外，以與實施例12相同的方式制造了多分割濺射耙。使用所獲得的多分割濺射靶，進行了有關所述各評價項目的評價。所得的結果如表1所示。制造Sn02—5重量％的Ta20s靶材(相對密度為98%，寬150mmx長635mmx厚6mm)來代替ITO濺射靶材，并且按照表l所示的內容，在位于濺射面和粘合面上的邊緣部以及角部處實施了倒角處理，除此之外，以與施例l相同的方式制造了濺射靶，并進行了各種評價。所得的結果如表l所示。[實施例1617]制造ZnO—2重量％的八1203耙材(相對密度為99%，寬150mmx長635mmx厚10mm)來代替ITO濺射耙材，并且按照表1所示的內容，在位于濺射面和粘合面上的邊緣部以及角部處實施了倒角處理，除此之外，以與實施例1相同的方式制造了濺射靶，并進行了各種評價。所得的結果如表1所示。制造ZnO—2重量％的Ga2Cb靶材(相對密度為99%，寬150mmx長635mmx厚7mm)來代替ITO濺射靶材，并且按照表l所示的內容，在位于濺射面和粘合面上的邊緣部以及角部處實施了倒角處理，除此之外，以與實施例1相同的方式制造了濺射靶，并進行了各種評價。所得的結果如表1所示。制造A1耙材(純度為99.999%,寬150mmx長635mmx厚16mm)來代替ITO濺射靶材，并且按照表l所示的內容，在位于濺射面上的邊緣部以及角部處實施了倒角處理，除此之外，以與實施例l相同的方式制造了濺射耙，并進行了各種評價。所得的結果如表1所示。制造Cu耙材(純度為99.999%，寬150mmx長635mmx厚2mm)來代替ITO濺射靶材，并且按照表l所示的內容，在位于濺射面上的邊緣部以及角部處實施了倒角處理，除此之外，以與實施例l相同的方式制造了濺射耙，并進行了各種評價。所得的結果如表l所示。制造Mo靶材(純度為99.95%，寬150mmx長635mmx厚4mm)來代替ITO濺射靶材，并且按照表l所示的內容，在位于濺射面上的邊緣部以及角部處實施了倒角處理，除此之外，以與實施例l相同的方式制造了濺射耙，并進行了各種評價。所得的結果如表l所示。15<table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>權利要求1、一種濺射靶材，其具有矩形狀的濺射面、矩形狀的側面以及矩形狀的粘合面并呈近似板狀，其特征在于，通過該濺射靶材所具有的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部，具有被實施倒角處理而成的形狀。2、根據(jù)權利要求1所述的濺射靶材，其特征在于，所述倒角處理為C倒角處理。3、根據(jù)權利要求2所述的濺射靶材，其特征在于，所述C倒角處理為Ca%的C倒角處理，所述Ca。/。中的a表示380的數(shù)字。4、根據(jù)權利要求2所述的濺射靶材，其特征在于，所述C倒角處理為，C0.3C5且以45。進行切割的C倒角處理。5、根據(jù)權利要求1所述的濺射靶材，其特征在于，所述倒角處理為R倒角處理。6、根據(jù)權利要求5所述的濺射靶材，其特征在于，所述R倒角處理為R(3%的R倒角處理，所述RP。/。中的P表示380的數(shù)字。7、根據(jù)權利要求5所述的濺射靶材，其特征在于，所述R倒角處理為，R0.3R5的R倒角處理。8、根據(jù)權利要求1至7中任意一項所述的濺射靶材，其特征在于，所述倒角處理是在形成于濺射面一側的角部上實施的。9、根據(jù)權利要求1至8中任意一項所述的濺射耙材，其特征在于，所述倒角處理是在形成于粘合面一側的角部上實施的。10、根據(jù)權利要求1至9中任意一項所述的濺射靶材，其特征在于，在由兩個面抵接而形成的邊緣部上，實施倒角處理。11、根據(jù)權利要求1至10中任意一項所述的濺射靶材，其特征在于，所述濺射靶材由ITO組成。12、一種濺射靶，其特征在于，其由權利要求1至10中任意一項所述的濺射靶材以及背板，通過粘合材料粘合而成。13、根據(jù)權利要求12所述的濺射靶，其特征在于，并列設置有多個權利要求1至10中任意一項所述的濺射靶材。全文摘要本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠可靠地減少電弧的產生且能夠抑制裂紋和裂縫產生的濺射靶材以及由該濺射靶材所得的濺射靶。本發(fā)明的濺射靶材為，一種具有矩形狀的濺射面、矩形狀的側面以及矩形狀的粘合面并呈近似板狀的濺射靶材，其特征在于，在通過構成該濺射靶材的多個面中的至少三個面抵接而形成的角部上，實施倒角處理。文檔編號C23C14/34GK101631893SQ200880008239公開日2010年1月20日申請日期2008年11月26日優(yōu)先權日2007年11月28日發(fā)明者松前和男申請人:三井金屬礦業(yè)株式會社