專利名稱：成膜用掩模和掩模密合方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及成膜用掩模和掩模密合方法。
背景技術(shù)：
如例如專利文獻(xiàn)1公開的那樣，近年來，作為由具有容許成膜材料通過的開口圖 案的掩模主體和保持該掩模主體的保持框架構(gòu)成的成膜用掩模，提出了圖1所示那樣的以 框狀框架22包圍掩模主體21的4邊的所謂4邊固定軟張力掩模，其在不從4邊施加張力 或施加極弱的張力的同時通過該框狀框架22保持掩模主體21。該4邊固定軟張力掩模具有溫度變化小且量輕的優(yōu)點，由于溫度變化小，利用蒸 鍍裝置進(jìn)行蒸鍍時不易引起圖案偏差，并且，由于輕而能夠抑制傳送體系的成本。專利文獻(xiàn)1 日本特開2007-138256號公報

發(fā)明內(nèi)容
但是，上述那樣的4邊固定軟張力掩模與基板的密合性差，在利用例如蒸鍍等進(jìn) 行成膜時，存在不能按照掩模主體的開口圖案進(jìn)行成膜、基板上的成膜圖案模糊的問題。并且，如例如圖2所示，還提出了短條狀的掩模主體31以從2邊施加了張力 (tension)而不撓曲的狀態(tài)保持于保持框架32的構(gòu)成，但這樣的構(gòu)成中，如圖3所示，張力 導(dǎo)致掩模主體31的中央部33變形，與基板的密合性仍然較差，難以良好地進(jìn)行成膜。本發(fā)明解決了上述問題，通過在掩模主體因自重而能撓曲的狀態(tài)下僅將掩模主體 的相向的2個邊固定于保持框架的保持部，提供出實用性極其優(yōu)異的成膜用掩模和掩模密 合方法，所述成膜用掩模能夠消除掩模主體的撓曲不均而與基板良好地密合，能夠在保留 溫度變化小且量輕的優(yōu)點的情況下與基板良好地密合，實現(xiàn)成膜圖案精度良好的成膜。參照附圖對本發(fā)明的要點進(jìn)行說明。本發(fā)明涉及一種成膜用掩模，其由具有容許成膜材料通過的開口圖案的掩模主體 1和保持該掩模主體1的保持框架2構(gòu)成，用于在其上層疊基板6，所述成膜材料通過所述 開口圖案而附著于基板6，所述成膜用掩模的特征在于，所述保持框架2具有一對保持部4， 該一對保持部4分別沿著所述掩模主體1的4個邊中的相向的一對邊部3設(shè)置，分別保持 該一對邊部3 ；所述成膜用掩模以僅由該一對保持部4來保持所述掩模主體1的方式構(gòu)成， 該一對邊部3以在由所述一對保持部4保持的所述一對邊部3之間所述掩模主體1因自重 而撓曲、并且所述撓曲的量在該一對邊部3相向的方向上變化的方式固定于所述一對保持 部4。并且，本發(fā)明方案2涉及上述方案1所述的成膜用掩模，其特征在于，以所述掩模 主體1因自重而自然撓曲的狀態(tài)，所述掩模主體1的所述一對邊部3分別固定于所述一對 保持部4。并且，本發(fā)明方案3涉及上述方案2所述的成膜用掩模，其特征在于，所述一對保 持部4作為沿著由所述保持部4保持的所述一對邊部3具有長度的長部件，以能夠?qū)⒃撘?br> 3對邊部3分別同樣地固定于所述一對保持部4的方式構(gòu)成。并且，本發(fā)明方案4涉及上述方案2所述的成膜用掩模，其特征在于，關(guān)于所述掩 模主體1，背面與所述基板6表面相向，在與該背面相反一側(cè)的表面?zhèn)仍O(shè)有修正所述掩模主 體1的撓曲的撓曲修正體。并且，本發(fā)明方案5涉及上述方案3所述的成膜用掩模，其特征在于，關(guān)于所述掩 模主體1，背面與所述基板6表面相向，在與該背面相反一側(cè)的表面?zhèn)仍O(shè)有修正所述掩模主 體1的撓曲的撓曲修正體。并且，本發(fā)明方案6涉及上述方案4所述的成膜用掩模，其特征在于，所述撓曲修 正體為棒體7，以與固定于所述保持部4的一對邊部3大致平行的方式設(shè)置該棒體7。并且，本發(fā)明方案7涉及上述方案5所述的成膜用掩模，其特征在于，所述撓曲修 正體為棒體7，以與固定于所述保持部4的一對邊部3大致平行的方式設(shè)置該棒體7。并且，本發(fā)明方案8涉及上述方案6所述的成膜用掩模，其特征在于，關(guān)于所述掩 模主體1，在撓曲的最下點部位置設(shè)置所述撓曲修正體。并且，本發(fā)明方案9涉及上述方案7所述的成膜用掩模，其特征在于，關(guān)于所述掩 模主體1，在撓曲的最下點部位置設(shè)置所述撓曲修正體。并且，本發(fā)明方案10涉及掩模密合方法，其是使上述方案1 9的任一項所述的 成膜用掩模與基板密合的掩模密合方法，其特征在于，在所述成膜用掩模5上層疊基板6， 在該基板6上層疊片狀的重壓部件8，利用該重壓部件8使基板6強(qiáng)制性撓曲，從而使所述 成膜用掩模5與基板表面密合。并且，本發(fā)明方案11涉及上述方案10所述的掩模密合方法，其特征在于，采用鎢 板作為所述重壓部件8。并且，本發(fā)明方案12涉及上述方案11所述的掩模密合方法，其特征在于，采用玻 璃、塑料或金屬制的基板作為所述基板6。本發(fā)明由于如上構(gòu)成，能夠得到實用性極其優(yōu)異的成膜用掩模和掩模密合方法， 所述成膜用掩模能夠消除掩模主體的撓曲不均而與基板良好地密合，能夠在保留溫度變化 小且量輕的優(yōu)點的情況下，與基板良好地密合，實現(xiàn)成膜圖案精度良好的成膜。


圖1是現(xiàn)有例的示意性說明圖。圖2是現(xiàn)有例的示意性說明圖。圖3是圖2的要部放大示意性說明截面圖。圖4是本實施例的掩模主體的示意性說明立體圖。圖5是本實施例的示意性說明立體圖。圖6是表示本實施例的使用狀態(tài)的示意性說明截面圖。圖7是說明不同重壓部件所致的層疊狀態(tài)的不同的示意性說明截面圖。
具體實施例方式基于附圖表示本發(fā)明的作用，對本發(fā)明的優(yōu)選的實施方式(如何實施發(fā)明)進(jìn)行 簡單說明。
一對邊部3分別固定于一對保持部4上，被保持框架2保持的掩模主體1因自重 而撓曲，因此在例如為了成膜而層疊基板6 (及磁鐵等)時，通過該基板6與掩模主體1的 撓曲的追隨，兩者良好地密合。例如4邊固定軟張力掩模由于未施加張力(或張力非常小)，乍一看其追隨基板的 撓曲而撓性彎曲，看似良好地密合，但由于固定了 4邊，撓曲量在縱向和橫向的兩個方向上 變化，雙方的撓曲相互干擾，掩模主體的撓曲產(chǎn)生不均，掩模主體變形，并且，由于該變形復(fù) 雜而無法得到良好的密合性。關(guān)于這一點，本發(fā)明具有將相向的一對邊部3(2個邊)固定于一對保持部4的構(gòu) 成，對于掩模主體1，在該一對邊部3之間掩模主體1因自重而撓曲，并且，所述撓曲量僅在 該一對邊部3相向的方向(1個方向)上變化，由于撓曲不被干擾而不易產(chǎn)生不均，因此掩 模主體1的變形簡單且小，能夠良好地追隨基板6的撓曲而良好地密合在一起。S卩，由于能夠?qū)崿F(xiàn)更自然的撓曲，即使基板6變得大型化而使撓曲變大，掩模主體 1也能柔性地追隨基板6的撓曲而進(jìn)行密合。因此，通過層疊基板6等而進(jìn)行成膜時，由于 與基板6良好地密合，因此能夠按照開口圖案進(jìn)行成膜而不會使基板6上的成膜圖案模糊。并且，與維持一定程度的張力而不使掩模主體1撓曲的情況相比，能夠降低保持 部4所需的強(qiáng)度，僅此就能夠使保持框架2變薄變輕。因此，傳送等變得容易，僅此就能提 高施工性。特別地，掩模主體1的變形所致的密合性降低和保持框架2的厚度加厚、重量加大 會隨著掩模(基板)的大型化而變得明顯，而根據(jù)本發(fā)明，即使是大型的掩模，也能變薄變 輕，并且能與基板良好地密合。并且，例如對于掩模主體1，背面與基板6表面相向，在掩模主體1的與該背面相 反一側(cè)的表面?zhèn)仍O(shè)置與固定于保持部4的一對邊部3大致平行的棒體7以修正掩模主體1 的撓曲的情況下，能夠使掩模主體1均勻地?fù)锨?，消除掩模主體1的形成了開口圖案的區(qū)域 與該區(qū)域以外的區(qū)域的撓曲量的差，進(jìn)一步提高與基板6的密合性。特別地，對于掩模主體 1，在撓曲的最下點部位置設(shè)置棒體7時，能夠良好地消除撓曲量的差。對于上述那樣的成膜用掩模5，例如可以在成膜用掩模5上層疊基板6，在該基板6 上層疊片狀的重壓部件8，利用該重壓部件8使基板6強(qiáng)制性撓曲，從而使成膜用掩模5良 好地與基板表面密合。此時，作為重壓部件8采用具有柔軟性且?guī)в兄亓康逆u板時，能夠使 基板6更良好地?fù)锨?，與掩模主體密合。
實施例基于圖4 7對本發(fā)明的具體的實施例進(jìn)行說明。如圖4、5所示，本實施例是成膜用掩模，其由具有容許成膜材料通過的開口圖案 的掩模主體1和保持該掩模主體1的保持框架2構(gòu)成，用于在其上層疊基板6，所述成膜材 料通過所述開口圖案而附著于基板6，所述成膜用掩模中，所述保持框架2具有沿著所述掩 模主體1的4邊中相向的一對邊部3分別設(shè)置并分別保持該一對邊部3的一對保持部4 ；所 述成膜用掩模以僅通過該一對保持部4來保持所述掩模主體1的方式構(gòu)成；以如下方式將 該一對邊部3固定于所述一對保持部4 在由所述一對保持部4保持的所述一對邊部3之 間，所述掩模主體1因自重而撓曲，并且，所述撓曲量在該一對邊部3相向的方向上變化。
5
對各部進(jìn)行具體說明。掩模主體1是以因瓦合金材料等金屬材料為原材料的一般的方形的金屬掩模。該 掩模主體1由開口圖案(省略圖示)和開口圖案以外的框部分(省略圖示)形成，具有在 成膜裝置內(nèi)的成膜材料通過的區(qū)域設(shè)置的成膜區(qū)域和在該成膜區(qū)域的外側(cè)(外周)設(shè)置的 非成膜區(qū)域。具體地說，在成膜區(qū)域的左右分別設(shè)置作為非成膜區(qū)域的耳部9，該耳部9固定于 保持框架2的保持部4。其中，耳部9可以與掩模主體1的成膜區(qū)域的長邊側(cè)和短邊側(cè)中的 任一側(cè)連接設(shè)置。保持框架2是由因瓦合金材料等金屬材料構(gòu)成的框體。本實施例中，將該框體的 相向的一對相向邊部10設(shè)定為保持部4。并且，保持部以外的另一對相向邊部11以不與掩 模主體1的(不被保持部4保持的)另一對邊部12接觸的方式設(shè)置。該相向邊部10與相 向邊部11通過角部連接。該保持框架2以如下方式構(gòu)成為了不使該保持框架2碰到掩模主體1的成膜區(qū) 域，保持框架2的開口部至少要大于掩模主體1的成膜區(qū)域，并且要將掩模主體1的耳部9 固定于作為保持部4的一對相向邊部10。本實施例中，將掩模主體1的一對邊部3固定于保持框架2的一對保持部4，使得 該掩模主體1不受張力并且掩模主體1因自重而自然撓曲。具體地說，以掩模主體1未固定于保持部4并為與水平方向大致平行的狀態(tài)時的 自然最大撓曲量B為基準(zhǔn)，在與水平方向大致平行地支持掩模主體1的狀態(tài)下，將左右耳部 9的一側(cè)固定于一個保持部4，以如下方式(中央部不發(fā)生變形的方式)將左右耳部9的另 一側(cè)的固定位置適當(dāng)進(jìn)行設(shè)定并調(diào)整而固定于另一個保持部4 左右耳部9的另一側(cè)的固 定位置既不過于靠近所述左右耳部9的一側(cè)的固定位置而強(qiáng)制性地使其凹彎曲，也不過于 遠(yuǎn)離而拉伸。該掩模主體1的一對邊部3 (耳部9)與保持部4(相向邊部10)通過接合劑牢固 粘接起來。具體地說，框體的一對相向邊部10以遍及掩模主體1的耳部9的全長的方式與其 接觸，將該掩模主體1的耳部9的下表面與框體的相向邊部10的上表面以遍及長度方向的 大致全部區(qū)域的方式使用接合劑進(jìn)行大致均勻地固定。其中，耳部9的下表面與相向邊部10的上表面既可以全面粘接，也可以僅粘接一 部分。并且，本實施例中，將耳部9與保持部4以遍及長度方向的大致全部區(qū)域的方式大 致均勻地粘接在一起，但也可以隔開預(yù)定間隔進(jìn)行粘接(也可以隔開間隔設(shè)置多個粘接部 分)。并且，并不限于利用接合劑的粘接，也可以利用熔接等其他方法將掩模主體1的邊部 3固定于保持部4。并且，由于是在張力(拉力和擠壓力)沒有作用于掩模主體1的狀態(tài)即掩模主體 1不受到張力的狀態(tài)下將所述一對邊部3固定于保持部4，所以掩模主體1在所述一對邊部 3(耳部9)之間因自重而自然撓曲成彎曲圓弧狀，撓曲量在一對邊部3的相向方向上變化。 因此，本實施例中，距一對邊部3分別為相等距離的位置為撓曲最下點位置，撓曲量最大。需要說明的是，在附圖中為了說明將撓曲量B夸大表示，但撓曲量B實際上非常 小，相對于厚度為數(shù)mm的掩模主體1，撓曲量B通常為數(shù)十μπι 數(shù)百μπι左右。并且，保持框架2的厚度也根據(jù)撓曲量B進(jìn)行了夸大表示，實際上為數(shù)mm左右。并且，本實施例中，對于掩模主體1，在與密合于所述基板表面的背面相反一側(cè)的 表面?zhèn)仍O(shè)有與固定于所述保持部4的一對邊部3大致平行的棒體7，從而修正了所述掩模主 體1的撓曲。具體地說，所述棒體7與保持框架2同樣地為因瓦合金材料等金屬材料制，對于所 述掩模主體1，在撓曲的最下點部位置(撓曲量最大的位置)設(shè)置有1根棒體7。這樣做的目的是，掩模主體1中，在與該掩模主體1的耳部9平行的方向上掩模主 體1的撓曲會產(chǎn)生不均，因此在不妨礙自然撓曲的范圍內(nèi)以一定程度的重量物拉伸撓曲量 小的部分，修正撓曲的不均。通過該棒體7，掩模主體1與基板表面的密合性變得更加良好。 即，本實施例的構(gòu)成中，撓曲量僅在一對邊部3的相向方向上變化，而在平行方向上撓曲量 不變化。需要說明的是，本實施例中，在掩模主體1的撓曲最下點部位置設(shè)置了 1根棒體7， 但也可以不限于最下點部而在其他部位設(shè)置，還可以設(shè)置多根。并且，也可以利用棒體7將 掩模主體1的撓曲形狀變形為波浪狀等其他形狀而非彎曲圓弧形狀。并且，棒體7可以在 固定于所述保持部4的一對邊部3的相向方向上設(shè)置。另外，上述實施例中，作為撓曲修正 體的具體例舉出了棒體7，但并不限于此，也可以是板狀或網(wǎng)眼狀。但是，為了不妨礙成膜， 需要設(shè)置在框部分以便至少不堵塞開口圖案。并且，本實施例中，在不施加張力的情況下將掩模主體1固定于保持部4，但也可 以稍稍施加張力進(jìn)行固定(可以制成所謂軟張力掩模)。對于本實施例的成膜用掩模5，例如，將其設(shè)置在成膜裝置的掩模支架13上，在該 成膜用掩模5上層疊玻璃基板6，在該玻璃基板6上層疊具有柔軟性的片狀重壓部件8，利 用該重壓部件8使玻璃基板6強(qiáng)制性撓曲，從而使所述成膜用掩模5密合于基板表面，進(jìn) 而，層疊能夠?qū)⒀谀Ｖ黧w1通過磁力吸引而拉近至基板側(cè)的磁鐵14，以利用磁鐵14進(jìn)一步 使成膜用掩模5與玻璃基板6密合(參照圖6)，從而用于從下方通過蒸鍍、CVD或者濺射等 成膜手段使成膜材料飛散而在玻璃基板6上進(jìn)行成膜。作為重壓部件8，優(yōu)選具有柔軟性且?guī)в幸欢ǔ潭戎亓康牟考?。具體地說，由鎢和 彈性體構(gòu)成的鎢板是適宜的。使用鎢板的情況下，借助該鎢板，基板6隨著該鎢板的彎曲而 彎曲，推壓掩模主體1，與該掩模主體1良好地密合(參照圖7(b))。關(guān)于這一點，例如將鋁或玻璃等堅硬物質(zhì)用作重壓部件8’時，如圖7(a)所示，其 不能良好地?fù)锨?，不能使基?’撓曲，導(dǎo)致基板6’與成膜用掩模5’的密合性不良。其中， 作為重壓部件8不限于鎢板，也可以使用氟橡膠或硅板。并且，作為磁鐵14使用橡膠磁鐵時，成膜用掩模5、基板6、重壓部件8、磁鐵14分 別會良好地?fù)锨⒚芎?，是適宜的。并且，作為基板6不限于玻璃基板6，塑料或金屬(箔)等其他的基板也能同樣良 好地成膜。由于本實施例為如上構(gòu)成，一對邊部3分別被固定于一對保持部4上，被保持框架 2保持的掩模主體1因自重而撓曲，因此例如為了進(jìn)行成膜而層疊基板6 (和磁鐵等)時，該 基板6與掩模主體1的撓曲相追隨，兩者良好地密合。對于例如4邊固定軟張力掩模，由于不施加張力(或張力非常小)，乍一看其追隨
7基板的撓曲而撓性彎曲，看似良好地密合，但由于固定了 4邊，撓曲量在縱向和橫向的兩個 方向上變化，雙方的撓曲相互干擾，掩模主體的撓曲產(chǎn)生不均，掩模主體變形，并且，由于該 變形復(fù)雜而無法得到良好的密合性。關(guān)于這一點，本實施例具有將相向的一對邊部3(2個邊)固定于一對保持部4上 的構(gòu)成，對于掩模主體1，在該一對邊部3之間掩模主體1因自重而撓曲成圓弧狀，并且，所 述撓曲量僅在該一對邊部3的相向方向(1個方向)上變化，由于撓曲不被干擾而不易產(chǎn)生 不均，因此掩模主體1的變形簡單且小，能夠良好地追隨基板6的撓曲而良好地密合。S卩，由于能夠?qū)崿F(xiàn)更自然的撓曲，即使基板6變得大型化而使撓曲變大，掩模主體 1也能柔性地追隨基板6的撓曲而進(jìn)行密合。因此，通過與基板6等層疊而進(jìn)行成膜時，由 于與基板6良好地密合，因此能夠按照開口圖案進(jìn)行成膜而不會使基板6上的成膜圖案模 糊。并且，與維持一定程度的張力而不使掩模主體1撓曲的情況相比，能夠降低保持 部4所需的強(qiáng)度，僅此就能夠使保持框架2變薄變輕。因此，傳送等變得容易，僅此就能提 高施工性。特別地，掩模主體1的變形所致的密合性降低和保持框架2的厚度加厚、重量加大 會隨著掩模(基板)的大型化而變得明顯，而根據(jù)本實施例，即使是大型的掩模，也能變薄 變輕，并且能與基板良好地密合。并且，對于掩模主體1，在與密合于基板表面的背面相反一側(cè)的表面?zhèn)仍O(shè)置與固定 于保持部4上的一對邊部3大致平行的棒體7，修正了掩模主體1的撓曲，因此能夠使掩模 主體1均勻地?fù)锨谀Ｖ黧w1的形成開口圖案的區(qū)域與該區(qū)域以外的區(qū)域的撓曲量 的差，進(jìn)一步提高與基板6的密合性。特別地，對于掩模主體1，在撓曲的最下點部位置設(shè)置 了棒體7，因此能夠進(jìn)一步良好地消除撓曲量的差。因此，本實施例中，能夠消除掩模主體的撓曲不均而與基板良好地密合，能夠在保 留溫度變化小且量輕的優(yōu)點的情況下與基板良好地密合，能夠按照開口圖案良好地成膜而 不會使基板上的蒸鍍圖案模糊，實用性極其優(yōu)異。本發(fā)明不限于本實施例，各構(gòu)成要件的具體構(gòu)成可以適當(dāng)設(shè)計。
權(quán)利要求
一種成膜用掩模，其由掩模主體和保持該掩模主體的保持框架構(gòu)成，所述掩模主體具有容許成膜材料通過的開口圖案，該成膜用掩模用于在其上層疊基板，所述成膜材料通過所述開口圖案而附著于所述基板，所述成膜用掩模的特征在于，所述保持框架具有一對保持部，該一對保持部分別沿著所述掩模主體的4個邊中的相向的一對邊部設(shè)置并分別保持該一對邊部，所述成膜用掩模以僅利用該一對保持部來保持所述掩模主體的方式構(gòu)成；該一對邊部固定于所述一對保持部，使得在由所述一對保持部保持的所述一對邊部之間，所述掩模主體因自重而撓曲，并且所述撓曲的量在該一對邊部相向的方向上變化。
2.如權(quán)利要求1所述的成膜用掩模，其特征在于，以所述掩模主體因自重而自然撓曲 的狀態(tài)，所述掩模主體的所述一對邊部分別固定于所述一對保持部。
3.如權(quán)利要求2所述的成膜用掩模，其特征在于，所述一對保持部作為沿著由所述保 持部保持的所述一對邊部具有長度的長部件，以能夠?qū)⒃撘粚叢糠謩e同樣地固定于所述 一對保持部的方式構(gòu)成。
4.如權(quán)利要求2所述的成膜用掩模，其特征在于，所述掩模主體的背面與所述基板表 面相向，在所述掩模主體的與該背面相反一側(cè)的表面?zhèn)仍O(shè)有用于修正所述掩模主體的撓曲 的撓曲修正體。
5.如權(quán)利要求3所述的成膜用掩模，其特征在于，所述掩模主體的背面與所述基板表 面相向，在所述掩模主體的與該背面相反一側(cè)的表面?zhèn)仍O(shè)有用于修正所述掩模主體的撓曲 的撓曲修正體。
6.如權(quán)利要求4所述的成膜用掩模，其特征在于，所述撓曲修正體為棒體，以與固定于 所述保持部的一對邊部大致平行的方式設(shè)置該棒體。
7.如權(quán)利要求5所述的成膜用掩模，其特征在于，所述撓曲修正體為棒體，以與固定于 所述保持部的一對邊部大致平行的方式設(shè)置該棒體。
8.如權(quán)利要求6所述的成膜用掩模，其特征在于，所述撓曲修正體設(shè)置在所述掩模主 體的撓曲的最下點部位置。
9.如權(quán)利要求7所述的成膜用掩模，其特征在于，所述撓曲修正體設(shè)置在所述掩模主 體的撓曲的最下點部位置。
10.一種掩模密合方法，其是使權(quán)利要求1 9的任一項所述的成膜用掩模與基板密合 的掩模密合方法，其特征在于，在所述成膜用掩模上層疊基板，在該基板上層疊片狀的重壓 部件，利用該重壓部件使基板強(qiáng)制性撓曲，從而使所述成膜用掩模與基板表面密合。
11.如權(quán)利要求10所述的掩模密合方法，其特征在于，采用鎢板作為所述重壓部件。
12.如權(quán)利要求11所述的掩模密合方法，其特征在于，采用玻璃、塑料或金屬制的基板 作為所述基板。全文摘要
本發(fā)明提供成膜用掩模和掩模密合方法，該掩模與基板良好地密合，能夠?qū)崿F(xiàn)成膜圖案精度良好的成膜，實用性極其優(yōu)異。所述掩模由具有容許成膜材料通過的開口圖案的掩模主體1和保持該掩模主體1的保持框架2構(gòu)成，用于在其上層疊基板6，所述成膜材料通過所述開口圖案而附著于基板6，所述成膜用掩模的特征在于，所述保持框架2具有一對保持部4，該一對保持部4分別沿著所述掩模主體1的4個邊中的相向的一對邊部3設(shè)置，并分別保持該一對邊部3，所述成膜用掩模以僅通過該一對保持部4來保持所述掩模主體1的方式構(gòu)成，以在由所述一對保持部4保持的所述一對邊部3之間，所述掩模主體1因自重而撓曲，并且，所述撓曲量在該一對邊部3相向的方向上變化的方式將該一對邊部3固定于所述一對保持部4。
文檔編號C23C14/04GK101896635SQ20088012055
公開日2010年11月24日 申請日期2008年11月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月13日
發(fā)明者小林良弘, 松本榮一, 石川樹一郎, 近藤喜成, 鈴木健太郎 申請人:特機(jī)株式會社