專利名稱:快速負壓鑄造爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種真空鑄造設(shè)備,具體地說是一種適用于生產(chǎn)不銹鋼、高溫 合金等多種金屬精密鑄件的間歇式快速負壓鑄造爐。
背景技術(shù):
目前,在真空鑄造領(lǐng)域使用的主要設(shè)備是間歇式真空感應(yīng)熔煉爐。真空感 應(yīng)熔煉爐適合澆鑄外形結(jié)構(gòu)極復雜、精細、薄壁的、整體的尺寸精度和光潔程 度要求較高、力學性能和氣密性能等要求較高的多種鑄件,它還適合鑄造易產(chǎn) 生縮孔、疏松的鑄件。該熔煉爐的爐體結(jié)構(gòu)采用頂開蓋或橫開蓋,金屬材料與 鑄型被裝入感應(yīng)爐內(nèi)后,在真空狀態(tài)下通過電磁感應(yīng)加熱使金屬熔化后在真空 狀態(tài)下把金屬液注入鑄型。現(xiàn)有的真空感應(yīng)熔煉爐的真空速率太低,金屬在真 空室中熔化加料、熔煉除碴都不方便;鑄型室空間小、進出放置鑄型也不安全; 生產(chǎn)效率較低;使得鑄造成本提高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對上述問題,提供一種鑄造成本低的快速負壓鑄造爐。 按照本發(fā)明提供的技術(shù)方案所述快速負壓鑄造爐包括底座3,在底座3的 上方設(shè)置有感應(yīng)爐2,其特征是所述感應(yīng)爐2與澆鑄軸11固定連接,所述澆 注軸11轉(zhuǎn)動連接在爐架13的上部,所述爐架13的下端安裝于底座3上,所述 底座3與所述感應(yīng)爐2之間設(shè)置用于放置鑄型18的鑄型平臺20,所述底座3上 設(shè)置有能夠升降的真空罩1,所述真空罩1上設(shè)有澆鑄控制把手16;澆注時, 真空罩1下降,將感應(yīng)爐2罩住并抽真空,再用澆鑄控制把手16帶動澆鑄軸11 轉(zhuǎn)動,由澆注軸11帶動感應(yīng)爐2傾倒;所述真空罩1上設(shè)置有抽真空閥7及破 真空閥9,所述抽真空閥7與真空罐19相連。
所述鑄型平臺20為可以升降的平臺。所述真空罩1與安裝于底座3上的升 降裝置相連。所述升降裝置包括升降氣缸4、上下導軌5及導輪6,所述升降氣 缸4與所述真空罩1相連,所述導輪6設(shè)置在所述真空罩1上且與所述上下導 車九5禾目酉己^。
所述上下導軌5上設(shè)置有控制箱15。所述真空罩1上設(shè)置有真空控制表8 及視鏡10。所述真空罩1的內(nèi)壁設(shè)置用于將感應(yīng)爐2內(nèi)的金屬液引入鑄型8內(nèi) 的導向斗21。在爐架13上對應(yīng)于鑄型18的澆帽口的上方設(shè)置用于接納金屬液 的定位斗22。所述感應(yīng)爐2與用于提供電源的水電纜12相連。在底座3上設(shè)置 底盤14,所述鑄型平臺20安裝于所述底盤14上。
本發(fā)明的技術(shù)效果在于真空罩內(nèi)的真空由真空罐直接抽取速率高,提高 了鑄造效力、降低了鑄造成本。真空罩由升降氣缸控制在上下導軌中升降,在 同等真空爐體內(nèi)能鑄造更大的鑄件,鑄型進出爐更便利。
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進一步的說明。
如圖1所示,本發(fā)明一種快速負壓鑄造爐,包括底座3,底座3的上方為底 盤14。底座3的底盤14上方設(shè)置有感應(yīng)爐2,感應(yīng)爐2與水電纜12相連。感 應(yīng)爐2設(shè)置在爐架13上且與澆鑄軸11相連。底座3與感應(yīng)爐2之間設(shè)置有鑄 型平臺20,鑄型平臺20上放置鑄型18。鑄型平臺20為可以升降的平臺,這種 鑄型平臺20可根據(jù)鑄型18的高度快速調(diào)整,具體地說是在鑄型平臺20與底盤 14之間設(shè)置用于升降鑄型平臺20的升降機構(gòu)以及起導向作用的導向機構(gòu),所述 升降機構(gòu)可以是連桿機構(gòu)或缸體活塞機構(gòu),所述導向機構(gòu)可以是相互滾動配合
的導軌與導輪機構(gòu),也可以是相互滑動配合的滑槽與滑塊機構(gòu)。底座3上設(shè)置 有真空罩1,真空罩1的左側(cè)設(shè)有澆鑄控制把手16,澆鑄控制把手16與澆鑄軸 11相配合,閉罩后與澆鑄軸11同心,握緊澆鑄控制把手16能嚙合澆鑄軸11。
真空罩1的罩頂中央設(shè)置有抽真空閥7,抽真空閥7與真空罐19相連。真 空由真空罐19直接抽取速率高,提高了鑄造效力、降低了鑄造成本。真空罩l 的上前方設(shè)置有視鏡10。破真空閥9設(shè)置在視鏡10右側(cè),澆鑄完畢打開破真空 閥9對鑄料加壓補縮,消除罩內(nèi)負壓便于升罩。
真空罩1與升降裝置相連,升降裝置包括升降氣缸4、上下導軌5及導輪6。 升降氣缸4有兩只,分別與真空罩l相連。導輪6設(shè)置在真空罩1上且與上下 導軌5相配合。真空罩1由兩只升降氣缸4控制在上下導軌5中升降,在同等 真空爐體內(nèi)能鑄造更大的鑄件,鑄型進出爐更便利。上下導軌5的右導軌上設(shè) 置有控制箱15,用來控制真空罩1的上下及真空閥7、 9的開閉。
真空罩1上還設(shè)置有真空控制表8,用來顯示真空罩1內(nèi)的真空度。真空罩 l上設(shè)置有導向斗21,在澆鑄時對鑄液起導向作用。
本發(fā)明的工作過程真空罩1由兩只升降氣缸4控制,開啟后在感應(yīng)爐2 中加入已經(jīng)熔煉處理好的合金料,并放置好鑄型18,再降下真空罩1罩在底座 3上。真空罩1的真空由真空罐19快速抽取,澆鑄軸11控制感應(yīng)爐2使鑄液傾 入導向斗21鑄入鑄型18。澆鑄完成后,打開破真空閥9,使得真空罩l內(nèi)形成 常壓,啟動升降氣缸4將真空罩1升起,即可把鑄型18取出,脫殼后獲得理想 的鑄件。
本發(fā)明生產(chǎn)得到的鑄件夾渣少、無疏松,可鑄造很薄、面積大、形狀結(jié)構(gòu) 復雜的鑄件,合金內(nèi)的氣孔少,鑄件充型好、棱角分明、表面光滑,沒有"欠鑄"、 "缺肉"等缺陷,節(jié)約生產(chǎn)成本。
本發(fā)明適合外形內(nèi)構(gòu)較復雜、精細、薄壁的、整體的尺寸精度和光潔度要 求較高,力學性能和氣密性能等要求高的各種鑄件。它還適合鑄造易產(chǎn)生縮孔、 疏松的鑄件。定位斗22位于鑄型18的澆帽口上方的爐架13上。
權(quán)利要求
1、一種快速負壓鑄造爐,包括底座(3),在底座(3)的上方設(shè)置有感應(yīng)爐(2),其特征是所述感應(yīng)爐(2)與澆鑄軸(11)固定連接,所述澆注軸(11)轉(zhuǎn)動連接在爐架(13)的上部,所述爐架(13)的下端安裝于底座(3)上,所述底座(3)與所述感應(yīng)爐(2)之間設(shè)置用于放置鑄型(18)的鑄型平臺(20),所述底座(3)上設(shè)置有能夠升降的真空罩(1),所述真空罩(1)上設(shè)有澆鑄控制把手(16);澆注時,真空罩(1)下降,將感應(yīng)爐(2)罩住并抽真空,再用澆鑄控制把手(16)帶動澆鑄軸(11)轉(zhuǎn)動,由澆注軸(11)帶動感應(yīng)爐(2)傾倒;所述真空罩(1)上設(shè)置有抽真空閥(7)及破真空閥(9),所述抽真空閥(7)與真空罐(19)相連。
2、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述鑄型平臺(20) 為可以升降的平臺。
3、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述真空罩(1) 與安裝于底座(3)上的升降裝置相連。
4、 按照權(quán)利要求3所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述升降裝置包括 升降氣缸(4)、上下導軌(5)及導輪(6),所述升降氣缸(4)與所述真空罩(1)相連,所述導輪(6)設(shè)置在所述真空罩(1)上且與所述上下導軌(5) 相配合。
5、 按照權(quán)利要求4所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述上下導軌(5) 上設(shè)置有控制箱(15)。
6、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述真空罩(1) 上設(shè)置有真空控制表(8)及視鏡(10)。
7、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述真空罩(1) 的內(nèi)壁設(shè)置用于將感應(yīng)爐(2)內(nèi)的金屬液引入鑄型(8)內(nèi)的導向斗(21)。
8、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是在爐架(13)上對 應(yīng)于鑄型(18)的澆帽口的上方設(shè)置用于接納金屬液的定位斗(22)。
9、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是所述感應(yīng)爐(2) 與用于提供電源的水電纜(12)相連。
10、 按照權(quán)利要求1所述的快速負壓鑄造爐,其特征是在底座(3)上設(shè) 置底盤(14),所述鑄型平臺(20)安裝于所述底盤(14)上。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種快速負壓鑄造爐,包括底座,底座的上方設(shè)置有感應(yīng)爐,感應(yīng)爐設(shè)置在爐架上且與澆鑄軸聯(lián)接成一體,底座與感應(yīng)爐之間設(shè)置有鑄型平臺,底座上設(shè)置有真空罩,真空罩上設(shè)有澆鑄控制把手,澆鑄控制把手與澆鑄軸相配合,真空罩與升降裝置相連,真空罩上設(shè)置有抽真空閥及破真空閥,抽真空閥與真空罐相連。本發(fā)明真空罩內(nèi)的真空由真空罐直接抽取速率高,提高了鑄造效力、降低了鑄造成本。真空罩由升降氣缸控制在上下導軌中升降,在同等真空爐體內(nèi)能鑄造更大的鑄件,鑄型進出爐更便利。本發(fā)明適合外形結(jié)構(gòu)較復雜、精細、薄壁的、整體的尺寸精度和光潔度要求高,力學性能和氣密性能等要求高的各種鑄件。
文檔編號B22D18/06GK101513668SQ20091002959
公開日2009年8月26日 申請日期2009年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月26日
發(fā)明者強 馮, 宏 邵 申請人:無錫剛正精密吸鑄有限公司