專利名稱：研磨方法、研磨墊與研磨系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種研磨技術(shù)，且特別涉及一種可提供研磨液具有不同的流場分布的 研磨墊、研磨系統(tǒng)與研磨方法。
背景技術(shù)：
隨著產(chǎn)業(yè)的進步，平坦化工藝經(jīng)常被采用為生產(chǎn)各種元件的工藝。在平坦化工藝 中，化學機械研磨工藝經(jīng)常為產(chǎn)業(yè)所使用。一般來說，化學機械研磨工藝是通過供應具有化 學品混合物的研磨液于研磨墊上，并對被研磨物件施加一壓力以將其壓置于研磨墊上，且 在物件及研磨墊彼此進行相對運動。通過相對運動所產(chǎn)生的機械摩擦及研磨液的化學作用 下，移除部分物件表層，而使其表面逐漸平坦，來達成平坦化的目的。圖1是現(xiàn)有的一種研磨墊的俯視示意圖，圖2是圖1中的研磨墊沿著線段A-A’的 剖面圖。請參照圖1，研磨墊100包括研磨層102與多個圓形溝槽104，這些圓形溝槽104是 以同心圓的方式配置在研磨層102中用來容納研磨液。在進行研磨時，研磨層102與研磨 物件105 (例如為晶圓)的表面相接觸，同時研磨墊100沿著旋轉(zhuǎn)方向即箭頭101所示方向 轉(zhuǎn)動。在研磨墊100轉(zhuǎn)動的同時，研磨液持續(xù)地供應至研磨墊100上并流經(jīng)研磨層102與 研磨物件105之間。由圖2所示，部分研磨液通過研磨墊100轉(zhuǎn)動產(chǎn)生的離心力(centrifugal force)，使研磨液自圓形溝槽104以徑向地向外方向流動至研磨層102表面，如研磨液的流 動方向即箭頭103所示方向。在進行研磨時，研磨液的流場分布會影響研磨特性。因此， 提供具有使研磨液流場分布不同的研磨墊為產(chǎn)業(yè)選擇，以因應不同研磨工藝的需求是需要 的。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種研磨墊，能夠使研磨液具有不同的流場分布。本發(fā)明提供一種研磨系統(tǒng)，能夠使研磨液具有不同的流場分布本發(fā)明提供一種研磨方法，能夠使研磨液具有不同的流場分布。本發(fā)明提出一種研磨墊，至少包括一研磨層與配置在研磨層中的表面圖案；此研 磨層具有研磨面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域；而上述表面圖案至少包括數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中 心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具 有數(shù)個溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，所述數(shù)個溝槽截面的左側(cè)壁 構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組與研磨 面具有第一夾角，此第一夾角為一鈍角。本發(fā)明提出一種適用于具有一旋轉(zhuǎn)方向的研磨系統(tǒng)的研磨墊，至少包括一研磨層 與配置在研磨層中的表面圖案；此研磨層具有研磨面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域；而上述 表面圖案至少包括數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù) 個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，其中所述數(shù)個左側(cè)壁、所述數(shù)個右側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，此傾斜方 向為上述旋轉(zhuǎn)方向的反方向。本發(fā)明提出一種研磨系統(tǒng)，包括載具與研磨墊；上述載具用以固持研磨物件，而研 磨墊固定于研磨平臺上；另外，上述研磨墊至少包括一研磨層與配置在研磨層中的表面圖 案；此研磨層具有研磨面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域；而上述表面圖案至少包括數(shù)個自靠 近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓 周方向具有數(shù)個溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，其中所述數(shù)個溝槽 截面的左側(cè)壁構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之 一群組與研磨面具有第一夾角，此第一夾角為一鈍角。本發(fā)明提出一種研磨系統(tǒng)，包括載具與研磨墊；上述載具用以固持研磨物件，而研 磨墊固定于具有一旋轉(zhuǎn)方向的研磨平臺上；另外，上述研磨墊至少包括一研磨層與配置在 研磨層中的表面圖案；此研磨層具有研磨面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域；而上述表面圖案 至少包括數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相 對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁， 所述數(shù)個左側(cè)壁、所述數(shù)個右側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，此傾斜方向為上述旋 轉(zhuǎn)方向的反方向。本發(fā)明提出一種研磨方法。首先，使用研磨墊進行研磨一研磨物件，此研磨墊沿一 旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)；上述研磨墊包括研磨層與配置在研磨層中的表面圖案；此研磨層具有研磨 面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域；而上述表面圖案至少包括數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延 伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽；所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截 面，所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，其中所述數(shù)個溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu)成的左 側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組與研磨面具有第 一夾角，此第一夾角為一鈍角。本發(fā)明提出一種研磨方法。首先，使用研磨墊進行研磨一研磨物件，此研磨墊沿一 旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)；上述研磨墊包括研磨層與配置在研磨層中的表面圖案；此研磨層具有研磨 面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域；而上述表面圖案至少包括數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延 伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽；所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截 面，所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，其中所述數(shù)個左側(cè)壁、所述數(shù)個右側(cè)壁由其 底部至頂部具有一傾斜方向，此傾斜方向為上述旋轉(zhuǎn)方向的反方向。本發(fā)明的研磨墊、研磨系統(tǒng)與研磨方法，通過研磨墊具有傾斜方向的溝槽側(cè)壁，使 得研磨液能夠順著溝槽側(cè)壁的傾斜方向而流至研磨層的表面，以提供研磨液具有不同的流 場分布。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下面特舉較佳實施例，并配合附圖， 作詳細說明如下。


圖1是現(xiàn)有的一種研磨墊的俯視示意圖。圖2是圖1中的研磨墊沿著線段A-A’的剖面圖。圖3A 圖3F是本發(fā)明一實施例的研磨墊的俯視圖。
圖4A 圖4C是本發(fā)明另一實施例的研磨墊的俯視圖。圖5是本發(fā)明一實施例的一種研磨系統(tǒng)的俯視圖。圖6是圖5沿著11-11’的剖面示意圖。主要元件符號說明研磨墊-100、200、300、420；研磨層-102、421；研磨面-201、423;右側(cè)壁-202b；研磨系統(tǒng)-400 ；固持環(huán)-412;彎曲方向-dl、d2、d2，；溝槽間距-P ；第一夾角-Θ1;箭頭(研磨墊的旋轉(zhuǎn)方向)_101、211、311、411 ；溝槽-104、202、203、206、301、422；箭頭(研磨墊旋轉(zhuǎn)的反方向)_213、430 ；輔助溝槽-204、205、207、208、302、303。
具體實施例方式圖3A 圖3F是本發(fā)明一實施例的研磨墊的俯視圖。在本實施例中，研磨墊200 沿著旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211的方向逆時針轉(zhuǎn)動。研磨墊200的研磨層具有研磨面與配置于研 磨層中的表面圖案，表面圖案為數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的 溝槽所組成(如圖3A 圖3F粗黑線所示)。這些溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù) 個溝槽截面，也就是說，在同一半徑的圓周方向，每一個溝槽僅有一個溝槽截面；各溝槽的 溝槽截面皆分別具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，且左側(cè)壁群組與右側(cè)壁群組其中之一群組與研磨面 之間的夾角為鈍角，這里所說的左側(cè)壁群組是由這些溝槽的、處于同一半徑的圓周方向上 的溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu)成，右側(cè)壁群組是由這些溝槽的、處于同一半徑的圓周方向上的溝 槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成。在一實施例中，這些溝槽側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，而此 傾斜方向為沿著研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211的反方向。以圖3A而言，溝槽202是直線形，而所組成的表面圖案為呈放射狀分布配置在研 磨層中，溝槽202的虛擬延伸線橫跨旋轉(zhuǎn)中心。也就是說，溝槽202的其中一端點(內(nèi)側(cè)端 點)位于靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，而另一端點(外側(cè)端點)位于靠近周圍區(qū)域。然而，溝槽亦可 橫跨旋轉(zhuǎn)中心，且其兩端點皆位于靠近周圍區(qū)域，如圖3B、圖3C所示的溝槽202。而這些溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，這些溝槽截面各具有 二個側(cè)壁。為了方便說明，以下以沿著同一半徑的圓周方向切線1-1’的溝槽截面210來進 行說明。這些溝槽截面210各具有一左側(cè)壁202a與一右側(cè)壁202b (視向為自周圍區(qū)域到 旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域)，其中左側(cè)壁202a與研磨面201之間的第一夾角θ 1為鈍角，即第一夾角 θ 1大于90度；右側(cè)壁202b與研磨面201之間的第二夾角θ 2為銳角，即第二夾角θ 2小 于90度。其中，相對于研磨墊200的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向，右側(cè)壁202b為前端側(cè)壁，而左側(cè)壁202a為后端側(cè)壁。也就是說，相對于研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方 向，溝槽截面210的后端側(cè)壁即左側(cè)壁202a與研磨面201間的夾角為鈍角。換句話說，相 對于研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向，溝槽截面210的后端側(cè)壁即左側(cè)壁202a具 有一個傾斜角度。上述溝槽截面210雖以相同的傾斜角度繪示，但并非用以限定本發(fā)明的 范圍，其中各溝槽截面亦可具有不相同的傾斜角度。而在研磨墊200轉(zhuǎn)動時，相對于研磨墊200的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向，溝槽 202中的研磨液會沿著研磨墊200旋轉(zhuǎn)的反方向即箭頭213所示方向流至研磨面201。據(jù) 此，當溝槽202相對于研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211的后端側(cè)壁即左側(cè)壁202a具有一個 傾斜角度時，溝槽202內(nèi)的研磨液較容易由溝槽202的后端側(cè)壁即左側(cè)壁202a而流至研磨 面201，以提供研磨液具有不同的流場分布。在一實施例中，后端側(cè)壁即左側(cè)壁202a與研磨面201間的第一夾角θ 1為鈍角，即第一夾角θ 1大于90度，例如是介于100度至150度，還例如是介于120度至140度；而 前端側(cè)壁即右側(cè)壁202b與研磨面201間的第二夾角θ 2為銳角，即第二夾角θ 2小于90 度，例如是介于30度至80度，還例如是介于40度至60度。因此，相對于研磨墊200旋轉(zhuǎn) 方向即箭頭211所示方向，所經(jīng)過的溝槽側(cè)壁與研磨面201間的夾角，依序為銳角與鈍角交 錯配置。換句話說，這些溝槽側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，而此傾斜方向為沿著研 磨墊200旋轉(zhuǎn)方向的反方向。其中，這些側(cè)壁與該研磨面的垂直方向的夾角，例如為介于30 度至80度，還例如是介于40度至60度。另外，后端側(cè)壁即左側(cè)壁202a與前端側(cè)壁即右側(cè) 壁202b可為相互平行，也就是第一夾角θ 1與第二夾角θ 2總和為180度。如此，隨著研 磨過程造成研磨層的磨耗，仍可使研磨面201的接觸面積保持固定。除了在研磨墊200中設置如圖3Α所示的溝槽202 (在此特別將之稱為主要溝槽202，以與后續(xù)的輔助溝槽作為區(qū)別)之外，亦可同時設置其他輔助溝槽。如圖3Β所示，除 了直線形放射狀配置在研磨層中的主要溝槽202之外，在圖3Β中還設置了輔助溝槽204介 于主要溝槽202間。另外，如圖3C所示，除了呈直線形放射狀分布配置在研磨層中的主要 溝槽202之外，在圖3C中還設置了輔助溝槽205介于主要溝槽202間，其中輔助溝槽205 的內(nèi)側(cè)端點與主要溝槽202相連，且與主要溝槽202間具有一夾角α，此夾角方向(從主要 溝槽202至輔助溝槽205)與研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向相同。以圖3C所示為例，研磨墊200的 旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向為正向(即逆時針方向)，輔助溝槽205與主要溝槽202間的 夾角α的夾角方向亦為正向，夾角α例如是介于5度至45度。此輔助溝槽205的設計可 在研磨墊200旋轉(zhuǎn)時將一部分研磨液吸回，以提供研磨液具有不同的流場分布。上述這些 輔助溝槽204、輔助溝槽205例如是自研磨墊200某一半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域， 如圖3Β、圖3C所示，以減少靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域與靠近周圍區(qū)域間的溝槽密度差異。但不以 此限制本發(fā)明的范圍，這些輔助溝槽204、輔助溝槽205亦可以自研磨墊200不同半徑區(qū)域 向外延伸至靠近周圍區(qū)域。上述圖3Β、圖3C中，主要溝槽202與輔助溝槽204、輔助溝槽205相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，這些溝槽截面各具有二個側(cè)壁。其中，相對于研磨墊200旋 轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向的后端側(cè)壁與研磨面間具有鈍角的夾角，使研磨液較容易由溝 槽的后端側(cè)壁流至研磨面，以提供研磨液具有不同的流場分布，其余進一步的構(gòu)造及特征 皆與圖3Α相似，故在此不再贅述。
在另一實施例中，研磨墊200中亦可設置如圖3D所示的溝槽206 (在此特別將之 稱為主要溝槽206，以與后續(xù)的輔助溝槽作為區(qū)別)，溝槽206是呈直線形放射狀分布配置 在研磨層中，但溝槽206的虛擬延伸線沒有橫跨旋轉(zhuǎn)中心。溝槽206的其中一端點(內(nèi)側(cè) 端點)位于靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，而另一端點(外側(cè)端點)位于靠近周圍區(qū)域。溝槽206的 外側(cè)端點與研磨墊200的半徑R有一交點，且半徑R與溝槽206之間有一夾角β，此夾角方 向(從半徑R至溝槽206)與研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向相同。以圖3D所示為例，研磨墊200的 旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向為正向(即逆時針方向)，半徑R與溝槽206之間的夾角β 的夾角方向亦為正向，夾角β例如是介于1度至30度。此種溝槽206設計可在研磨墊200 旋轉(zhuǎn)時將一部分研磨液吸回，以提供研磨液具有不同的流場分布。根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，如圖3Ε所示，此實施例的研磨墊200與圖3D相似，不 同之處在于，圖3Ε的研磨墊200除了主要溝槽206之外，還包括了輔助溝槽207。輔助溝 槽207例如是自研磨墊200某一半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域，以減少靠近旋轉(zhuǎn)中心 區(qū)域與靠近周圍區(qū)域間的溝槽密度差異。但不以此限制本發(fā)明的范圍，這些輔助溝槽亦可 以自研磨墊200不同半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域。特別是，主要溝槽206的外側(cè)端 點與研磨墊200的半徑Rl有一交點，且半徑Rl與主要溝槽206之間有一夾角、1，且此夾 角Yl的方向(從半徑Rl至主要溝槽206)與研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向相 同。另外，輔助溝槽207的外側(cè)端點與另一半徑R2有一交點，且半徑R2與輔助溝槽207之 間有一夾角Υ2，且此夾角Υ2的方向(從半徑R2至輔助溝槽207)亦與研磨墊200旋轉(zhuǎn)方 向即箭頭211所示方向相同。舉例來說，研磨墊200的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向為正 向(即逆時針方向)，夾角Yl的方向與此夾角Y 2的方向亦為正向，夾角Yl、夾角Υ2分 別例如是介于1度至30度。此種主要溝槽206與輔助溝槽207的設計可在研磨墊200旋 轉(zhuǎn)時將一部分研磨液吸回，以提供研磨液具有不同的流場分布。根據(jù)本發(fā)明的又一實施例，如圖3F所示，此實施例的研磨墊200與圖3D相似，不 同之處在于，圖3F的研磨墊200除了主要溝槽206之外，還包括了輔助溝槽208介于主要 溝槽206間，其中輔助溝槽208的內(nèi)側(cè)端點與主要溝槽206相連。此外，輔助溝槽208例如 是自研磨墊200某一半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域，以減少靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域與靠近 周圍區(qū)域間的溝槽密度差異。但不以此限制本發(fā)明的范圍，這些輔助溝槽亦可以自研磨墊 200不同半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域。特別是，主要溝槽206的外側(cè)端點與研磨墊 200的半徑R有一交點，且半徑R與主要溝槽206之間有一夾角Y 1，且此夾角Y 1的方向 (從半徑R至主要溝槽206)與研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向相同。另外，輔助 溝槽208的內(nèi)側(cè)端點與主要溝槽206相連，且與主要溝槽206之間有一夾角Y 2，且此夾角 Y 2的方向(從主要溝槽206至輔助溝槽208)亦與研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方 向相同。舉例來說，研磨墊200的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向為正向(即逆時針方向)， 夾角Yl的方向與夾角Y 2的方向亦為正向，夾角Yl例如是介于1度至30度，夾角γ 2 例如是介于5度至45度。此種主要溝槽206與輔助溝槽208的設計可在研磨墊200旋轉(zhuǎn) 時將一部分研磨液吸回，以提供研磨液具有不同的流場分布。上述圖3D的主要溝槽206及圖3Ε、圖3F中的主要溝槽206與輔助溝槽207、輔助 溝槽208，相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，這些溝槽截面各具有二個側(cè)壁。 其中，相對于研磨墊200旋轉(zhuǎn)方向即箭頭211所示方向的后端側(cè)壁與研磨面間具有一鈍角的夾角，使研磨液較容易由溝槽的后端側(cè)壁流至研磨面，以提供研磨液具有不同的流場分 布，其余進一步的構(gòu)造及特征皆與圖3A相似，故在此不再贅述。除了上述幾種具有直線形溝槽的研磨墊之外，在本發(fā)明的其他的實施例中，研磨 墊的單一個直線形溝槽亦可為多個片段形(例如是直線狀片段形)或孔洞形(例如是圓孔 形)溝槽排列成弧形來取代，而其所組成的表面圖案以放射狀分布配置在研磨層中。圖4A 圖4C是本發(fā)明另一實施例的研磨墊的俯視圖。在此，研磨墊300沿著旋轉(zhuǎn) 方向即箭頭311的方向逆時針轉(zhuǎn)動。圖4A 圖4C的研磨墊300僅是溝槽形狀與圖3A有 所不同，其余構(gòu)造皆與圖3A相似或相同。以圖4A而言，溝槽301是弧形，而所組成的表面 圖案為呈螺旋狀分布配置在研磨層中。特別是，弧形溝槽301的曲度可使弧形溝槽301由 內(nèi)向外具有一彎曲方向dl，而且彎曲方向dl與研磨墊300旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向相 同。舉例來說，研磨墊300的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向為正向(即逆時針方向)，彎曲 方向dl亦為正向。此種螺旋狀分布的弧形溝槽301的設計可在研磨墊300旋轉(zhuǎn)時將一部 分研磨液吸回，以提供研磨液具有不同的流場分布。另外，根據(jù)另一實施例，如圖4B所示，此實施例的研磨墊300與圖4A相似，不同之 處在于，圖4B的研磨墊300除了弧形主要溝槽301之外，還包括了弧形輔助溝槽302。弧形 輔助溝槽302例如是自研磨墊300某一半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域，以減少靠近旋 轉(zhuǎn)中心區(qū)域與靠近周圍區(qū)域間的溝槽密度差異。但不以此限制本發(fā)明的范圍，這些輔助溝 槽亦可以自研磨墊300不同半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域。特別是，弧形主要溝槽301 由內(nèi)向外具有彎曲方向dl，且此彎曲方向dl與研磨墊300旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向相 同。另外，弧形輔助溝槽302的曲度可使弧形輔助溝槽302由內(nèi)向外具有一彎曲方向d2，而 且彎曲方向d2亦與研磨墊300旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向相同。舉例來說，研磨墊300 的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向為正向(即逆時針方向)，彎曲方向dl、彎曲方向d2亦為 正向。此種螺旋狀分布的弧形主要溝槽301與弧形輔助溝槽302的設計可在研磨墊300旋 轉(zhuǎn)時將一部分研磨液吸回，以提供研磨液具有不同的流場分布。再者，根據(jù)另一實施例，如圖4C所示，此實施例的研磨墊300與圖4A相似，不同之 處在于，圖4C的研磨墊300除了弧形主要溝槽301之外，還包括了弧形輔助溝槽303，其中 弧形輔助溝槽303的內(nèi)側(cè)端點與弧形主要溝槽301相連。此外，弧形輔助溝槽303例如是 自研磨墊300某一半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域，以減少靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域與靠近周 圍區(qū)域間的溝槽密度差異。但不以此限制本發(fā)明的范圍，這些輔助溝槽亦可以自研磨墊300 不同半徑區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域。特別是，弧形主要溝槽301由內(nèi)向外具有彎曲方 向dl，且此彎曲方向dl與研磨墊300旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向相同。另外，弧形輔助 溝槽303由內(nèi)向外具有一彎曲方向d2’，而且彎曲方向d2’亦與研磨墊300旋轉(zhuǎn)方向即箭 頭311所示方向相同。舉例來說，研磨墊300的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向為正向(即 逆時針方向)，彎曲方向dl、彎曲方向d2’亦為正向。此種螺旋狀分布的表面圖案的弧形主 要溝槽301與弧形輔助溝槽303的設計可在研磨墊300旋轉(zhuǎn)時將一部分研磨液吸回，以提 供研磨液具有不同的流場分布。上述圖4A的弧形主要溝槽301及圖4B、圖4C中的弧形主要溝槽301與弧形輔助 溝槽302、輔助溝槽303，相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，這些溝槽截面各 具有二個側(cè)壁。其中，相對于研磨墊300旋轉(zhuǎn)方向即箭頭311所示方向的后端側(cè)壁與研磨面間具有一鈍角的夾角，使研磨液較容易由溝槽的后端側(cè)壁流至研磨面，以提供研磨液具 有不同的流場分布，其余進一步的構(gòu)造及特征皆與圖3A相似，故在此不再贅述。除了上述幾種具有弧形溝槽的研磨墊之外，在本發(fā)明的其他的實施例中，研磨墊 中的單一個弧形溝槽亦可為多個片段形(例如是直線狀片段形或弧狀片段形)或孔洞形 (例如是圓孔形)溝槽排列成弧形來取代，而其所組成的表面圖案以螺旋狀分布配置在研 磨層中。圖5是本發(fā)明一實施例的一種研磨系統(tǒng)的俯視圖，圖6為圖5沿著研磨物件415 中心的研磨軌跡的附近區(qū)域部分剖面11-11’示意圖。請同時參照圖5以及圖6，研磨系統(tǒng) 400包括載具410與研磨墊420，研磨墊420例如是以粘貼方式或是以吸附方式固定于具有 一旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示方向的研磨平臺上。載具410設置在研磨墊420的上方，其是 用以固持一研磨物件415于研磨墊420上方。固定于研磨平臺上的研磨墊420通過旋轉(zhuǎn)， 使研磨墊420與研磨物件415間產(chǎn)生一相對運動。研磨墊420的研磨層421具有研磨面423與表面圖案配置在研磨層421中。表面 圖案由多個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽422所組成。并且， 這些溝槽422相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，各溝槽422的溝槽截面皆分 別具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，且左側(cè)壁群組與右側(cè)壁群組其中之一群組與研磨面423之間的夾 角為鈍角，這里所說的左側(cè)壁群組是由這些溝槽的、處于同一半徑的圓周方向上的溝槽截 面的左側(cè)壁構(gòu)成，右側(cè)壁群組是由這些溝槽的、處于同一半徑的圓周方向上的溝槽截面的 右側(cè)壁構(gòu)成。在一實施例中，相對于研磨墊420的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示方向，溝槽截面 的后端側(cè)壁與研磨面423間的第一夾角θ 1為鈍角。換句話說，相對于研磨墊420旋轉(zhuǎn)方 向即箭頭411所示方向，溝槽422的后端側(cè)壁具有一個傾斜角度。在另一實施例中，研磨墊420中的溝槽截面的二側(cè)壁皆具有一傾斜方向。也就是 說，各溝槽422的其中一個側(cè)壁與研磨面423之間的第一夾角θ 1為鈍角，即第一夾角Θ1 大于90度，例如是介于100度至150度，還例如是介于120度至140度；而另一個側(cè)壁與研 磨面423之間的第二夾角θ 2為銳角，即第二夾角θ 2小于90度，例如是介于30度至80 度，還例如是介于40度至60度。因此，相對于研磨墊420旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示方向， 所經(jīng)過的溝槽側(cè)壁與研磨面423間的夾角，依序為銳角與鈍角交錯配置。換句話說，這些溝 槽側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，而此傾斜方向為沿著研磨墊420旋轉(zhuǎn)方向即箭頭 411所示方向的反方向。其中，這些側(cè)壁與該研磨面423的垂直方向的夾角，例如為介于30 度至80度，還例如是介于40度至60度。以圖5及圖6為例，研磨墊420的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示方向為逆時針方向，溝 槽422沿圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，這些溝槽截面的側(cè)壁的傾斜方向為自左上傾斜至右 下。也就是相對于研磨墊420的旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示方向，溝槽422的前端側(cè)壁(即 右側(cè)壁)與研磨面423之間的第二夾角θ 2小于90度，而后端側(cè)壁(即左側(cè)壁)與研磨面 423之間的第一夾角θ 1大于90度。在一實施例中，研磨墊420中的溝槽422的形式與圖4Α所示的溝槽的形式相似， 也就是，溝槽422為弧形，而其所組成的表面圖案呈螺旋狀分布配置在研磨層421中，且具 有與研磨墊420旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示方向相同的彎曲方向。另外，載具410具有一固 持環(huán)412，此固持環(huán)412是圍繞在固定在載具410上的研磨物件415的邊緣，用以固持研磨物件415于研磨墊420上。并且，沿研磨物件415中心的研磨軌跡，兩相鄰的溝槽間距P小 于或等于固持環(huán)412的寬度W。這是因為，載具410與研磨層421之間具有相對運動(如研 磨墊420旋轉(zhuǎn)的反方向即箭頭430所示方向)，且固持環(huán)412亦會與研磨墊420有所接觸。 而當固持環(huán)412的寬度W大于或等于相鄰的兩溝槽之間的溝槽間距P時，固持環(huán)412較容 易壓迫溝槽422，使研磨液較容易由溝槽422的后端側(cè)壁流至研磨面423，以提供研磨液具 有不同的流場分布。在一實施例中，研磨墊420的表面圖案呈螺旋狀分布，此表面圖案由多 個弧形的溝槽422所組成(研磨墊420與圖4A的研磨墊300具有相似的特征，于此不再贅 述)，且在研磨物件415中心的研磨軌跡的附近區(qū)域，固持環(huán)412的外緣(例如是相對于研 磨墊420的相對運動的前端外緣，即圖6的左側(cè))與溝槽422具有相同的曲率。在本實施例中，各溝槽同一側(cè)的側(cè)壁與研磨面423之間的夾角皆相等。然而，在其 他實施例中，只要各溝槽的傾斜方向相同即可，并不限定各溝槽所傾斜的角度為相同或不 同。以下即以上述研磨系統(tǒng)400為例，進一步說明本發(fā)明的研磨方法。首先，提供一研 磨墊420。研磨墊420包括研磨層421以及溝槽422，而溝槽422進一步的構(gòu)造及特征皆與 上述研磨系統(tǒng)相似，故在此不再贅述。接著，將研磨物件415設置在研磨墊420上，并且通過研磨墊420的旋轉(zhuǎn)(旋轉(zhuǎn)方 向即箭頭411所示方向)與研磨物件415之間產(chǎn)生一相對運動，以對研磨物件415進行研 磨工藝。其中，溝槽422后端側(cè)壁的傾斜方向是順著研磨墊420旋轉(zhuǎn)方向即箭頭411所示 方向的反方向，如研磨墊420旋轉(zhuǎn)的反方向即箭頭430所示方向。據(jù)此，當研磨墊420與研 磨物件415之間進行相對運動時，溝槽422內(nèi)的研磨液較容易順著傾斜的后端側(cè)壁(例如， 圖6中各溝槽的左側(cè)壁)而流至研磨面423，以提供研磨液具有不同的流場分布。本發(fā)明的研磨方法可應用于制造工業(yè)元件的研磨工藝，例如是應用于電子產(chǎn)業(yè)的 元件，可包括半導體、積體電路、微機電、能源轉(zhuǎn)換、通訊、光學、儲存碟片、及顯示器等元件， 而制作這些元件所使用的研磨物件可包括半導體晶圓、IIIV族晶圓、儲存元件載體、陶瓷基 底、高分子聚合物基底、及玻璃基底等，但并非用以限定本發(fā)明的范圍。需要說明的是，上述研磨系統(tǒng)與研磨方法中的溝槽422是以弧形為例來說明，但 本發(fā)明不限于此，在其他的實施例中，溝槽422的形狀可以為直線形、片段形、孔洞形及其 組合者其中之一，并且表面圖案可以是放射狀分布在研磨層421中(如圖3A 圖3F所示)， 亦或是螺旋狀分布在研磨層421中(如圖4A 圖4C所示)。綜上所述，上述實施例中，由于研磨墊中的溝槽側(cè)壁具有一傾斜方向，此傾斜方向 為順著研磨墊在旋轉(zhuǎn)的反方向時，可使得研磨液能夠順著溝槽側(cè)壁的傾斜方向而流至研磨 層的表面，以提供研磨液具有不同的流場分布。本發(fā)明所定義的旋轉(zhuǎn)中心，系指研磨墊在旋轉(zhuǎn)時所繞行的旋轉(zhuǎn)軸心位置。本發(fā)明 實施例中，皆以旋轉(zhuǎn)中心與研磨墊表面圖案的中心位置重迭方式，且以研磨墊為圓形為例 繪示，但不以此限定本發(fā)明的范圍。依特定研磨工藝需求，旋轉(zhuǎn)中心亦可選擇與研磨墊表面 圖案的中心位置不重迭，或研磨墊亦可選擇為其他形狀。另外，本發(fā)明的研磨墊中的溝槽制 作，可選擇以機械方式(例如是使用配備鉆頭或鋸片的銑床)、模具轉(zhuǎn)印方式、或是蝕刻方 式(例如是使用化學蝕刻或是雷射加工)制作，但不以此限定本發(fā)明的范圍，亦可選擇其他 形成方式制作溝槽。
本發(fā)明的研磨墊、研磨系統(tǒng)與研磨方法，通過可使研磨液具有不同的流場分布的 研磨墊，以得到不同的研磨液流場分布。對于某些特定的研磨工藝，可能可以使研磨液較有 效率地被利用，進而有機會降低研磨液的消耗量，以減少研磨液的使用成本。對于另外某些 特定的研磨工藝，可能可以得到不同的研磨特性，例如是使研磨物件的研磨率得到不同的 輪廓分布，或例如是減少像是微刮痕的研磨缺陷，以提供產(chǎn)業(yè)選擇。最后應說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其限制；盡 管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應當理解其依然 可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替 換；而這些修改或者替換，并不使相應技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的精 神和范圍。
權(quán)利要求
一種研磨墊，至少包括一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組，與該研磨面有一第一夾角，該第一夾角為一鈍角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中至少一個該溝槽的一端點位于靠近該旋轉(zhuǎn)中心 區(qū)域，且另一端點位于靠近該周圍區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中至少一個該溝槽橫跨靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域，且 該溝槽的兩端點皆位于靠近該周圍區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中所述數(shù)個溝槽的形狀為直線形、弧形、片段形、 孔洞形及其組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互平行。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中所述左側(cè)壁群組與所述右側(cè)壁群組其中之另一 群組，與該研磨面有一第二夾角，且該第二夾角為一銳角。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的研磨墊，其中該第一夾角介于100度至150度，該第二夾角介 于30度至80度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中該研磨墊具有一旋轉(zhuǎn)方向，且具有該第一夾角 的該側(cè)壁群組相對于該旋轉(zhuǎn)方向為一后端側(cè)壁。
10.一種研磨墊，適用于具有一旋轉(zhuǎn)方向的研磨系統(tǒng)，該研磨墊至少包括 一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向 外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個 溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個左側(cè)壁、所述數(shù)個 右側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，該傾斜方向為該旋轉(zhuǎn)方向的反方向。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中所述數(shù)個溝槽的形狀為直線形、弧形、片段 形、孔洞形及其組合。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互平行。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨墊，其中所述左側(cè)壁、右側(cè)壁與該研磨面的垂直方向 的夾角為介于30度至80度。
15.一種研磨系統(tǒng)，至少包括一載具，用以固持一研磨物件；以及一研磨墊，固定于一研磨平臺上，該研磨墊具有一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向 外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個 溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，所述數(shù)個溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu) 成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組，與該研磨 面有一第一夾角，該第一夾角為一鈍角。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中至少一個該溝槽的一端點位于靠近該旋轉(zhuǎn) 中心區(qū)域，且另一端點位于靠近該周圍區(qū)域。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中至少一個該溝槽橫跨靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū) 域，且該溝槽的兩端點皆位于靠近該周圍區(qū)域。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中所述數(shù)個溝槽的形狀為直線形、弧形、片段 形、孔洞形及其組合。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互 平行。
21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中所述左側(cè)壁群組與所述右側(cè)壁群組其中的 另一群組，與該研磨面有一第二夾角，且該第二夾角為一銳角。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的研磨系統(tǒng)，其中該第一夾角介于100度至150度，該第二夾 角介于30度至80度。
23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中該研磨平臺具有一旋轉(zhuǎn)方向，且具有該第 一夾角的該側(cè)壁群組相對于該旋轉(zhuǎn)方向為一后端側(cè)壁。
24.根據(jù)權(quán)利要求15所述的研磨系統(tǒng)，其中該載具還包括有一固持環(huán)，用以固持該研 磨物件于該研磨墊上，其中沿該研磨物件中心的研磨軌跡，兩相鄰的所述數(shù)個溝槽間距小 于或等于該固持環(huán)的寬度。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的研磨系統(tǒng)，其中所述數(shù)個溝槽為弧形，且與該固持環(huán)的外 緣具有相同的曲率。
26.—種研磨系統(tǒng)，至少包括一載具，用以固持一研磨物件；以及一研磨墊，固定于具有一旋轉(zhuǎn)方向的一研磨平臺上，該研磨墊具有一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向 外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個 溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個左側(cè)壁、所述數(shù)個 右側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，該傾斜方向為該旋轉(zhuǎn)方向的反方向。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的研磨系統(tǒng)，其中所述數(shù)個溝槽的形狀為直線形、弧形、片段 形、孔洞形及其組合。
28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的研磨系統(tǒng)，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的研磨系統(tǒng)，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互 平行。
30.根據(jù)權(quán)利要求26所述的研磨系統(tǒng)，其中所述左側(cè)壁、右側(cè)壁與該研磨面的垂直方向的夾角為介于30度至80度。
31.根據(jù)權(quán)利要求26所述的研磨系統(tǒng)，其中該載具還包括有一固持環(huán)，用以固持該研 磨物件于該研磨墊上，其中沿該研磨物件中心的研磨軌跡，兩相鄰的所述數(shù)個溝槽間距小 于或等于該固持環(huán)的寬度。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的研磨系統(tǒng)，其中所述數(shù)個溝槽為弧形，且與該固持環(huán)的外 緣具有相同的曲率。
33.一種生產(chǎn)工業(yè)元件的研磨方法，至少包括使用一研磨墊進行研磨一研磨物件，該研磨墊沿一旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)，其中該研磨墊至少 包括有一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向 外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個 溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個溝槽截面的左側(cè) 壁構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組，與該 研磨面有一第一夾角，該第一夾角為一鈍角。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中至少一個該溝槽的一端點位于靠近該旋轉(zhuǎn) 中心區(qū)域，且另一端點位于靠近該周圍區(qū)域。
35.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中至少一個該溝槽橫跨靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū) 域，且該溝槽的兩端點皆位于靠近該周圍區(qū)域。
36.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中所述數(shù)個溝槽的形狀為直線形、弧形、片段 形、孔洞形及其組合。
37.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。
38.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互 平行。
39.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中所述左側(cè)壁群組與所述右側(cè)壁群組其中之 另一群組，與該研磨面有一第二夾角，且該第二夾角為一銳角。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的研磨方法，其中該第一夾角介于100度至150度，該第二夾 角介于30度至80度。
41.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中具有該第一夾角的該側(cè)壁群組相對于該旋 轉(zhuǎn)方向為一后端側(cè)壁。
42.根據(jù)權(quán)利要求33所述的研磨方法，其中還包括使用具有一固持環(huán)的一載具，用以 固持該研磨物件于該研磨墊上，其中沿該研磨物件中心的研磨軌跡，兩相鄰的所述數(shù)個溝 槽間距小于或等于該固持環(huán)的寬度。
43.根據(jù)權(quán)利要求42所述的研磨方法，其中所述數(shù)個溝槽為弧形，且與該固持環(huán)的外 緣具有相同的曲率。
44.一種生產(chǎn)工業(yè)元件的研磨方法，至少包括使用一研磨墊進行研磨一研磨物件，該研磨墊沿一旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)，其中該研磨墊至少 包括有一研磨層，該研磨層具有一研磨面、一旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及一周圍區(qū)域；以及一表面圖案，配置于該研磨層中，該表面圖案至少包括數(shù)個自靠近該旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向 外延伸至靠近該周圍區(qū)域分布的溝槽，所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個 溝槽截面，所述數(shù)個溝槽截面各具有一左側(cè)壁與一右側(cè)壁，其中所述數(shù)個左側(cè)壁、所述數(shù)個 右側(cè)壁由其底部至頂部具有一傾斜方向，該傾斜方向為該旋轉(zhuǎn)方向的反方向。
45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的研磨方法，其中所述數(shù)個溝槽的形狀為直線形、弧形、片段 形、孔洞形及其組合。
46.根據(jù)權(quán)利要求44所述的研磨方法，其中該表面圖案呈放射狀分布或螺旋狀分布。
47.根據(jù)權(quán)利要求44所述的研磨方法，其中所述溝槽截面的該左側(cè)壁與該右側(cè)壁相互 平行。
48.根據(jù)權(quán)利要求44所述的研磨系統(tǒng)，其中所述左側(cè)壁、右側(cè)壁與該研磨面的垂直方 向的夾角為介于30度至80度。
49.根據(jù)權(quán)利要求44所述的研磨方法，其中還包括使用具有一固持環(huán)的一載具，用以 固持該研磨物件于該研磨墊上，其中沿該研磨物件中心的研磨軌跡，兩相鄰的所述數(shù)個溝 槽間距小于或等于該固持環(huán)的寬度。
50.根據(jù)權(quán)利要求49所述的研磨方法，其中所述數(shù)個溝槽為弧形，且與該固持環(huán)的外 緣具有相同的曲率。
全文摘要
本發(fā)明提供一種研磨方法、研磨墊與研磨系統(tǒng)。本發(fā)明是使用研磨墊進行研磨一研磨物件，此研磨墊包括研磨層以及配置在研磨層中的表面圖案。研磨層具有研磨面、旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域及周圍區(qū)域。而上述表面圖案包括數(shù)個自靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域向外延伸至靠近周圍區(qū)域分布的溝槽。所述數(shù)個溝槽相對于同一半徑的圓周方向具有數(shù)個溝槽截面。所述數(shù)個溝槽截面各具有左側(cè)壁與右側(cè)壁，而所述數(shù)個溝槽截面的左側(cè)壁構(gòu)成的左側(cè)壁群組與所述數(shù)個溝槽截面的右側(cè)壁構(gòu)成的右側(cè)壁群組其中之一群組與研磨面具有一夾角，此夾角為一鈍角。
文檔編號B24B37/04GK101987431SQ20091016562
公開日2011年3月23日 申請日期2009年8月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月6日
發(fā)明者王裕標 申請人:智勝科技股份有限公司