專利名稱：一種青銅清潔液及高錫青銅材料的清潔方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于超導(dǎo)材料處理技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種青銅清潔液，本發(fā)明還涉及采用 該青銅清潔液清潔高錫青銅材料的方法。
背景技術(shù)：
青銅法Nb3Sn超導(dǎo)材料作為實(shí)用化的低溫超導(dǎo)材料，在高頻核磁共振譜儀、IOT 以上強(qiáng)磁場裝置、高能物理加速器等現(xiàn)代儀器裝置中廣泛應(yīng)用。高錫青銅是青銅法Nb3Sn 超導(dǎo)材料的重要原料，為線材中Nb3Sn超導(dǎo)相的生成提供充足的Sn源。超導(dǎo)線材由于 其屬于復(fù)雜的復(fù)合材料，其加工過程對組元的潔凈要求非常高，組元的潔凈能保證不引 入雜質(zhì)進(jìn)入超導(dǎo)材料中，也使得各組元之間有效地冶金結(jié)合，有利于得到長線和提高超 導(dǎo)線材的性能。傳統(tǒng)的高錫青銅清潔采用硝酸或硫酸進(jìn)行酸洗，但青銅和硝酸反應(yīng)會(huì)在表面生 成一層沉淀，需要擦拭去除，而附著在高錫青銅表面的沉淀物采用擦拭的方式清除起來 比較麻煩，而且不容易清理干凈，這樣就會(huì)增加工序，降低效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種青銅清潔液，用于清洗酸洗過后高錫青銅表面的沉 淀，并保證了高錫青銅表面的潔凈度及光澤度。本發(fā)明的另一目的是提供一種利用上述青銅清潔液清潔高錫青銅材料的方法。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是，一種青銅清潔液，由按體積比為9-19 1的CrO3 溶液和H2SO4組成，其中，CrO3溶液的濃度為5-17g/100ml，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積 濃度為30%的H2O2 ； H2SO4的濃度為98%以上。本發(fā)明所采用的另一種技術(shù)方案是，一種高錫青銅材料的清潔方法，具體按以 下步驟進(jìn)行步驟1，配制體積濃度為20-32%的硝酸溶液，硝酸溶液溫度為20-40°C ；配制濃度為5-17g/100ml的CrO3溶液，其中，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積濃度為 30%的H2O2 ；選取濃度在98%以上的H2SO4 ；將配置得到的CrO3溶液與H2SO4按照體積 比9-19 1配比，將H2SO4倒入CrO3溶液中，攪拌，得到青銅清潔液；步驟2，將待清洗的高錫青銅組件置于步驟1制得的硝酸溶液中，浸泡2-5分鐘；取出后迅速將高錫青銅組件浸泡在步驟1制得的青銅清潔液中，浸泡3-10分鐘 后取出；步驟3，采用0.3-0.5Mpa壓力的高壓水槍沖洗步驟2處理后的高錫青銅組件，沖洗時(shí)間 1-2分鐘；
步驟4，采用無水乙醇對高錫青銅組件脫水，然后將高錫青銅組件置于溫度為50-80°C的 烘箱中烘干，烘干時(shí)間為3-6小時(shí)，即完成。本發(fā)明青銅清潔液中的壓02、CrOjnH2SO4都是強(qiáng)氧化劑，當(dāng)高錫青銅與HNO3 溶液反應(yīng)后會(huì)生成H2SnO3,附著在高錫青銅物料表面阻止反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行，由于氏81103會(huì) 和青銅清潔液快速反應(yīng)，將H2SnO3溶解于該清潔液，從而達(dá)到清除高錫青銅表面沉淀的 目的。
具體實(shí)施例方式下面通過具體實(shí)施方式
對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。本發(fā)明的一種青銅清潔液，由按體積比為9-19 1的CrO3溶液和H2SO4組成， 其中，CrO3溶液的濃度為5-17g/100ml，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積濃度為30%的H2O2 ； H2SO4的濃度為98%以上。采用該青銅清潔液清潔高錫青銅材料的方法，具體按以下步驟進(jìn)行步驟1，配制體積濃度為20-32%的硝酸溶液，硝酸溶液溫度為20-40°C ；配制濃度為5-17g/100ml的CrO3溶液，其中，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積濃度為 30%的H2O2 ；選取濃度在98%以上的H2SO4 ；將配置得到的CrO3溶液與H2SO4按照體積 比9-19 1配比，將H2SO4倒入CrO3溶液中，攪拌，得到青銅清潔液；步驟2，將高錫青銅組件置于步驟1制得的硝酸溶液中，浸泡2-5分鐘；然后取出，迅速 將高錫青銅組件浸泡在步驟1制得的青銅清潔液中，浸泡3-10分鐘后取出；步驟3，采用0.3_0.5Mpa壓力的高壓水槍沖洗步驟2取出的高錫青銅組件，沖洗時(shí)間1_2 分鐘；步驟4，采用無水乙醇對高錫青銅組件脫水，然后將高錫青銅組件置于溫度為50-80°C的 烘箱中烘干，烘干時(shí)間為3-6小時(shí)，即完成。在本發(fā)明方法中，由于高錫青銅與HNO3溶液反應(yīng)生成的H2SnO3會(huì)附著在物料 表面阻止反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行。而青銅清潔液中的H202、CrO3和H2SO4都是強(qiáng)氧化劑，所以 H2SnO3會(huì)和青銅清潔液快速反應(yīng)，將H2SnO3溶解于該清潔液，從而達(dá)到清除高錫青銅表 面沉淀的目的。實(shí)施例1配制體積濃度為20%的硝酸溶液，硝酸溶液溫度為20°C ；配制濃度為5g/100ml 的CrO3溶液，其中，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積濃度為30%的H2O2 ；選取濃度在98%以 上的H2SO4; CrO3溶液與H2SO4按照體積比9 1配比，將H2SO4倒入CrO3溶液中， 攪拌，得到青銅清潔液；將高錫青銅組件置于制得的硝酸溶液中，浸泡2分鐘；然后取 出，迅速將高錫青銅組件浸泡在制得的青銅清潔液中，浸泡5分鐘后取出；采用0.4Mpa 壓力的高壓水槍沖洗高錫青銅組件，沖洗時(shí)間1分鐘；采用無水乙醇對高錫青銅組件脫水，然后將高錫青銅組件置于溫度為60°C的烘箱中烘干，烘干時(shí)間為4小時(shí)，即完成。采用能譜對本發(fā)明方法清潔后的高錫青銅進(jìn)行分析，各元素含量見表1 表1采用實(shí)施例1方法清潔后高錫青銅表面各元素含量表
權(quán)利要求
1.一種青銅清潔液，其特征在于，由按體積比為9-19 1的CrO3溶液和H2SO4組成，其中，CrO3溶液的濃度為5-17g/100ml，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積濃度為30%的 H2O2 ； H2SO4的濃度為98%以上。
2.—種用權(quán)利要求1所述青銅清潔液清潔高錫青銅材料的方法，其特征在于，具體按 以下步驟進(jìn)行步驟1，配制體積濃度為20-32%的硝酸溶液，硝酸溶液溫度為20-40°C ； 配制濃度為5-17g/100ml的CrO3溶液，其中，溶質(zhì)為CrO3,溶劑為體積濃度為30% 的H2O2 ；選取濃度在98%以上的H2SO4;將配置得到的CrO3溶液與H2SO4按照體積比 9-19 1配比，將H2SO4倒入CrO3溶液中，攪拌，得到青銅清潔液； 步驟2，將待清洗的高錫青銅組件置于步驟1制得的硝酸溶液中，浸泡2-5分鐘；取出后迅速 將高錫青銅組件浸泡在步驟1制得的青銅清潔液中，浸泡3-10分鐘后取出； 步驟3，采用0.3-0.5Mpa壓力的高壓水槍沖洗步驟2處理后的高錫青銅組件，沖洗時(shí)間1_2分鐘；步驟4，采用無水乙醇對高錫青銅組件脫水，然后將高錫青銅組件置于溫度為50-80°C的烘箱 中烘干，烘干時(shí)間為3-6小時(shí)，即完成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種青銅清潔液，由按體積比為9-19∶1的CrO3溶液和H2SO4組成，其中，CrO3溶液的濃度為5-17g/100ml，溶質(zhì)為CrO3，溶劑為體積濃度為30％的H2O2；H2SO4的濃度為98％以上。本發(fā)明還公開了采用該青銅清潔液清潔高錫青銅材料的方法，將高錫青銅浸泡在硝酸溶液中，然后迅速放進(jìn)青銅清潔液中浸泡后取出；再采用高壓水槍沖洗高錫青銅組件；采用無水乙醇對高錫青銅組件脫水、烘干，即完成。本發(fā)明的青銅清潔液中的H2O2、CrO3和H2SO4都是強(qiáng)氧化劑，所以沉淀物H2SnO3會(huì)和青銅清潔液快速反應(yīng)，將H2SnO3溶解于該清潔液，從而達(dá)到清除高錫青銅表面沉淀的目的。
文檔編號(hào)C23G1/10GK102021592SQ20091025456
公開日2011年4月20日 申請日期2009年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月28日
發(fā)明者馮勇, 劉向宏, 張平祥, 張科, 賈晶晶, 郭建華 申請人:西部超導(dǎo)材料科技有限公司