專利名稱：濺鍍鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種濺鍍鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
濺鍍鍍膜裝置是利用在真空腔體內(nèi)產(chǎn)生等離子體去撞擊靶材，將靶材內(nèi)的原子撞 出而沉積在多個(gè)鍍膜基板表面堆積成膜的鍍膜裝置。在濺鍍的過程中，從靶材內(nèi)撞出的原 子帶有較高的能量，當(dāng)沉積在鍍膜基板表面上時(shí)，會(huì)將鍍膜基板加熱。由于在腔體內(nèi)產(chǎn)生的等離子體較集中在腔體中間，因而在靶材被等離子體撞擊 時(shí)，在該腔體中間的被撞出的原子要多于在該腔體兩邊的被撞出的原子。當(dāng)原子從靶材擴(kuò) 散至該多個(gè)鍍膜基板表面時(shí)，容易造成在該腔體中間的鍍膜基板有較多的原子沉積，因此 在腔體中間的鍍膜基板的溫度高于在腔體兩邊的鍍膜基板的溫度。這種溫度差異容易造成 同批次的該多個(gè)鍍膜基板的鍍膜品質(zhì)不一致。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種使該多個(gè)鍍膜基板鍍膜品質(zhì)均勻的濺鍍鍍膜裝置。一種濺鍍鍍膜裝置，其包括一個(gè)腔體，位于該腔體內(nèi)相對(duì)設(shè)置的一個(gè)板狀第一電 極及一個(gè)板狀第二電極，及多個(gè)呈陣列排列在該第一電極上的鍍膜基板，其中，該濺鍍鍍膜 裝置還包括一個(gè)溫度感測(cè)單元，一個(gè)控制單元及一個(gè)加熱單元。該加熱單元包括兩個(gè)分別 位于該第一電極兩相對(duì)側(cè)邊緣的加熱元件。該溫度感測(cè)單元用于感測(cè)該第一電極中間的溫 度及邊緣的溫度。該控制單元分別與該溫度感測(cè)單元及該加熱單元電連接，并用于比較該 第一電極邊緣的溫度與該第一電極中間的溫度的大小。當(dāng)該第一電極邊緣的溫度小于該第 一電極中間的溫度時(shí)，該控制單元控制該加熱單元利用該兩個(gè)加熱元件對(duì)位于該第一電極 邊緣上的鍍膜基板進(jìn)行加熱。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，上述濺鍍鍍膜裝置，通過在放置有多個(gè)鍍膜基板的第一電極邊 緣放置加熱元件，當(dāng)?shù)谝浑姌O邊緣的溫度小于其中間的溫度時(shí)，控制單元通過加熱單元對(duì) 第一電極邊緣上的鍍膜基板進(jìn)行加熱，使溫度差異消失，從而使該多個(gè)鍍膜基板的鍍膜品 質(zhì)均勻。


圖1是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種濺鍍鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1的濺鍍鍍膜裝置的部分平面示意圖。圖3是圖1的濺鍍鍍膜裝置的功能模塊圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。請(qǐng)參閱圖1和圖3，本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種濺鍍鍍膜裝置100，其包括一個(gè)腔體10，位于該腔體10內(nèi)相對(duì)設(shè)置的一個(gè)第一電極22及一個(gè)第二電極24，多個(gè)鍍膜基板30， 一個(gè)溫度感測(cè)單元40，一個(gè)控制單元50及一個(gè)加熱單元60。該腔體10為氣密封的腔體。該第一電極22為陰極，其通過支撐桿26置于該腔體 10的底壁12上。該第二電極24為陽極，其通過吊桿28固定在該腔體10的頂壁14上。本 實(shí)施方式中，該第一電極22及第二電極24均為方形平板狀。靶材(圖未示)固定在該第二 電極24上，在該腔體10內(nèi)產(chǎn)生的等離子體產(chǎn)生的離子去撞擊靶材，將靶材內(nèi)的原子撞出。該多個(gè)鍍膜基板30如多個(gè)需進(jìn)行防電磁干擾(Electromagnetic Interference) 鍍膜的鏡座呈陣列排列放置于該第一電極22上(參圖2)。被撞出的靶材原子通過該第一 電極22及該第二電極24間的電場(chǎng)吸引而沉積在該多個(gè)鍍膜基板30并形成膜層。該溫度感測(cè)單元40用于感測(cè)該第一電極22中間22a的溫度及邊緣22b的溫度。 具體地，該溫度感測(cè)單元40包括多個(gè)分別位于該第一電極22中間22a及邊緣22b的溫度 傳感器42。該第一電極22中間22a的溫度為位于第一電極22中間22a的多個(gè)溫度傳感 器42偵測(cè)的多個(gè)溫度的平均溫度，該第一電極22邊緣22b的溫度為位于第一電極22邊緣 22b的多個(gè)溫度傳感器42偵測(cè)的多個(gè)溫度的平均溫度。可以理解，在第一電極22中間22a 及邊緣22b可設(shè)置更多溫度傳感器42，以更加準(zhǔn)確地感測(cè)溫度。該溫度傳感器42為熱電偶 溫度傳感器或熱電阻溫度傳感器。該控制單元50分別與該溫度感測(cè)單元40及該加熱單元60電連接，并用于比較該 邊緣22b的溫度與該中間22a的溫度的大小。該加熱單元60包括一個(gè)模溫機(jī)62，兩個(gè)加熱元件64及兩個(gè)輸送管66。本實(shí)施方 式中，該模溫機(jī)62置于腔體10外，及每個(gè)加熱元件64為加熱管，該模溫機(jī)62分別通過該 兩個(gè)輸送管66與該兩個(gè)加熱元件64相連接。每個(gè)加熱元件64，如銅管或鋁管，為中空?qǐng)A柱 管，其內(nèi)充滿有工作流體68，該工作流體68可為水或油。該模溫機(jī)62加熱該工作流體68 并通過該輸送管66將加熱后的工作流體68送至該加熱元件64。較佳地，每個(gè)輸送管66為 具有雙通道的輸送管，如此，在模溫機(jī)62與加熱元件64之間可形成循環(huán)流道，使工作流體 68更快地被加熱并送至加熱元件64。由于加熱元件64使用導(dǎo)熱性能較佳的金屬制成，使 工作流體68的熱量快速地散發(fā)至該第一電極22邊緣22b上的多個(gè)鍍膜基板30，從而加熱 多個(gè)鍍膜基板30。當(dāng)該控制單元50通過比較后知道第一電極22邊緣22b的溫度小于該第一電極22 中間22a的溫度時(shí)，該控制單元50控制該加熱單元60利用該兩個(gè)加熱元件64對(duì)位于該第 一電極22邊緣22b上的多個(gè)鍍膜基板30進(jìn)行加熱。如此，可將位于第一電極22中間22a 的鍍膜基板30與位于第一電極22邊緣22b的鍍膜基板30的溫度差異消失，從而使該多個(gè) 鍍膜基板30的鍍膜品質(zhì)均勻。綜上所述，本發(fā)明的濺鍍鍍膜裝置，通過在放置有多個(gè)鍍膜基板的第一電極邊緣 放置加熱元件，當(dāng)邊緣的溫度小于中間的溫度時(shí)，控制單元通過加熱單元對(duì)第一電極邊緣 上的鍍膜基板進(jìn)行加熱，使溫度差異消失，從而使該多個(gè)鍍膜基板的鍍膜品質(zhì)均勻。當(dāng)然，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各 種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
一種濺鍍鍍膜裝置，其包括一個(gè)腔體，位于該腔體內(nèi)相對(duì)設(shè)置的一個(gè)板狀第一電極及一個(gè)板狀第二電極，及多個(gè)呈陣列排列在該第一電極上的鍍膜基板，其特征在于，該濺鍍鍍膜裝置還包括一個(gè)溫度感測(cè)單元，一個(gè)控制單元及一個(gè)加熱單元，該加熱單元包括兩個(gè)分別位于該第一電極兩相對(duì)側(cè)邊緣的加熱元件，該溫度感測(cè)單元用于感測(cè)該第一電極中間的溫度及邊緣的溫度，該控制單元分別與該溫度感測(cè)單元及該加熱單元電連接，并用于比較該第一電極邊緣的溫度與該第一電極中間的溫度的大小，當(dāng)該第一電極邊緣的溫度小于該第一電極中間的溫度時(shí)，該控制單元控制該加熱單元利用該兩個(gè)加熱元件對(duì)位于該第一電極邊緣上的鍍膜基板進(jìn)行輻射加熱。
2.如權(quán)利要求1所述的濺鍍鍍膜裝置，其特征在于，每個(gè)加熱元件內(nèi)充滿有工作流體， 該加熱單元進(jìn)一步包括一個(gè)模溫機(jī)及兩個(gè)分別與該兩個(gè)加熱元件及該模溫機(jī)相連接的輸 送管，該模溫機(jī)加熱該工作流體并通過該輸送管將加熱后的工作流體送至該加熱元件。
3.如權(quán)利要求2所述的濺鍍鍍膜裝置，其特征在于，該工作流體為水或油。
4.如權(quán)利要求2所述的濺鍍鍍膜裝置，其特征在于，每個(gè)輸送管為具有雙通道的輸送管。
5.如權(quán)利要求1所述的濺鍍鍍膜裝置，其特征在于，每個(gè)加熱元件為銅管或鋁管。
6.如權(quán)利要求1所述的濺鍍鍍膜裝置，其特征在于，該溫度感測(cè)單元包括多個(gè)分別位 于該第一電極中間及邊緣的溫度傳感器。
7.如權(quán)利要求6所述的濺鍍鍍膜裝置，其特征在于，該溫度傳感器為熱電偶溫度傳感 器或熱電阻溫度傳感器。
全文摘要
一種濺鍍鍍膜裝置，其包括腔體，位于腔體內(nèi)相對(duì)設(shè)置的第一電極及第二電極，多個(gè)呈陣列排列在第一電極上的鍍膜基板，溫度感測(cè)單元，控制單元及加熱單元。加熱單元包括兩個(gè)分別位于第一電極兩相對(duì)側(cè)邊緣的加熱元件，溫度感測(cè)單元用于感測(cè)第一電極中間的溫度及邊緣的溫度，控制單元分別與溫度感測(cè)單元及加熱單元電連接并比較中間的溫度及邊緣的溫度。當(dāng)邊緣的溫度小于中間的溫度時(shí)，控制單元控制加熱單元利用兩個(gè)加熱元件對(duì)位于第一電極邊緣上的鍍膜基板進(jìn)行輻射加熱。該濺鍍鍍膜裝置在第一電極邊緣的溫度小于中間的溫度時(shí)，利用控制單元通過加熱單元對(duì)第一電極邊緣上的鍍膜基板進(jìn)行加熱，使溫度差異消失，從而使多個(gè)鍍膜基板的鍍膜品質(zhì)均勻。
文檔編號(hào)C23C14/54GK101921987SQ20091030312
公開日2010年12月22日 申請(qǐng)日期2009年6月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月10日
發(fā)明者陳祥弘 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司