專(zhuān)利名稱(chēng)：鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種能夠用于在同一鍍膜室內(nèi)進(jìn)行蒸鍍和濺鍍的 鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，許多工業(yè)產(chǎn)品表面都鍍有功能薄膜以改善產(chǎn)品表面的各種性能。如在光學(xué) 鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入射光通過(guò)鏡片的能量損 耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜，可濾掉某一預(yù)定波段的光，制成各種各樣的 濾光片。一般地，鍍膜方法主要包括蒸鍍和濺鍍等。采用濺鍍形成鍍膜的方法請(qǐng)參見(jiàn)文獻(xiàn)可 參閱 I. Safi 在 2000 年在 Surface & Coating Technology 上發(fā)表的論文 Recent Aspects Concerning DC Reactive Magnetron Sputtering of Thin Film :a Review。
在許多半導(dǎo)體元件或者其他光電元件的同一表面需要分別采用蒸鍍和濺鍍形成 鍍膜?，F(xiàn)有技術(shù)中，蒸鍍機(jī)臺(tái)和濺鍍機(jī)臺(tái)是兩個(gè)分開(kāi)獨(dú)立的機(jī)臺(tái)。在生產(chǎn)中，則需要將經(jīng)過(guò) 蒸鍍或者濺鍍的鍍膜基板轉(zhuǎn)移安裝到濺鍍或者蒸鍍機(jī)臺(tái)中。在進(jìn)行基板的轉(zhuǎn)移和安裝的過(guò) 程中，浪費(fèi)了大量的時(shí)間，還會(huì)在此過(guò)程中造成鍍膜基板待鍍膜的表面吸附其他粒子而被 污染，造成鍍膜后產(chǎn)品不良。發(fā)明內(nèi)容
因此，有必要提供一種能夠在同一鍍膜室內(nèi)進(jìn)行蒸鍍和濺鍍的鍍膜裝置。
以下將以實(shí)施例說(shuō)明一種鍍膜裝置。
一種鍍膜裝置，其包括鍍膜室、承載裝置、濺鍍裝置及蒸鍍裝置。所述承載裝置包 括固定板及用于承載鍍膜工件的第一承載盤(pán)。所述固定板將鍍膜室分隔成蒸鍍腔和濺鍍 腔。所述濺鍍裝置設(shè)置于濺鍍腔內(nèi)。所述蒸鍍裝置與所述蒸鍍腔對(duì)應(yīng)連通。所述固定板開(kāi) 設(shè)有連通蒸鍍腔和濺鍍腔的鍍膜通孔。所述第一承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室內(nèi)并位于鍍 膜通孔附近，以使第一承載盤(pán)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)可選擇性地遮蔽或者暴露所述鍍膜通孔。從而當(dāng)所 述第一承載盤(pán)暴露所述鍍膜通孔時(shí)，使得第一承載盤(pán)承載的鍍膜工件暴露于蒸鍍腔和濺鍍 腔中的一個(gè)。并且當(dāng)根據(jù)第一承載盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)使得第一承載盤(pán)遮蔽所述鍍膜通孔時(shí)，所述第 一承載盤(pán)承載的鍍膜工件通過(guò)鍍膜通孔暴露于蒸鍍腔和濺鍍腔中的另一個(gè)。
本技術(shù)方案提供的鍍膜裝置，其設(shè)置有承載盤(pán)和固定板，固定板將鍍膜室分隔成 蒸鍍腔和濺鍍腔，并且固定板開(kāi)設(shè)有鍍膜通孔，通過(guò)將承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室內(nèi)，通 過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)承載盤(pán)可以使得承載盤(pán)遮蔽或者暴露鍍膜通孔，從而可以實(shí)現(xiàn)在同一鍍膜室內(nèi)對(duì)鍍 膜元件選擇性進(jìn)行蒸鍍制程或者濺鍍制程，從而可以避免形成不同鍍膜轉(zhuǎn)換鍍膜室而造成 的鍍膜污染，并且由于不需要轉(zhuǎn)換鍍膜室，提高了鍍膜的效率。


圖1是本技術(shù)方案實(shí)施例提供的鍍膜裝置的立體示意圖。
圖2是本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供的鍍膜裝置的分解示意圖。
圖3是圖1沿III-III線(xiàn)的剖面示意圖。
圖4是本技術(shù)方案實(shí)施例提供的鍍膜裝置的使用狀態(tài)的示意圖。
圖5本技術(shù)方案實(shí)施例提供的鍍膜裝置的另一使用狀態(tài)的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本技術(shù)方案提供的鍍膜裝置作進(jìn)一步說(shuō)明。
請(qǐng)一并參閱圖1至圖3，本實(shí)施例提供的鍍膜裝置100包括鍍膜室110、承載裝置 120、濺鍍裝置130及蒸鍍裝置140。
鍍膜室110用于固定承載裝置120、濺鍍裝置130及蒸鍍裝置140，并具有收容空 間1101，以在該空間內(nèi)1101進(jìn)行鍍膜。鍍膜室110可以為具有長(zhǎng)方體形、圓柱形或者多棱 柱形空腔的殼體。本實(shí)施例中，鍍膜室110為長(zhǎng)方體形殼體。鍍膜室110包括頂板111、與 頂板111相對(duì)的底板112、第一側(cè)板113、第二側(cè)板114、第三側(cè)板115及第四側(cè)板116，頂板 111、底板112、第一側(cè)板113、第二側(cè)板114、第三側(cè)板115及第四側(cè)板116圍成一個(gè)收容腔 1101。底板112、第一側(cè)板113、第二側(cè)板114、第三側(cè)板115及第四側(cè)板116—體成型。第 一側(cè)板113與第三側(cè)板115相對(duì)設(shè)置。在第一側(cè)板113開(kāi)設(shè)有兩個(gè)第一安裝孔117，兩個(gè)第 一安裝孔117與底板112的間距相等。在第三側(cè)板115內(nèi)開(kāi)設(shè)有兩個(gè)第二安裝孔118，兩個(gè) 第二安裝孔118與底板112的距離相等。兩個(gè)第一安裝孔117與兩個(gè)第二安裝孔118 —一 對(duì)應(yīng)，每個(gè)第一安裝孔117的中心軸線(xiàn)與其對(duì)應(yīng)的第二安裝孔118的中心軸線(xiàn)在同一平行 于底板112且垂直于第一側(cè)板113的直線(xiàn)上。在底板112的中心位置，開(kāi)設(shè)有固定孔119， 用于固定蒸鍍裝置140。
承載裝置120安裝于鍍膜室110內(nèi)將鍍膜室110的收容腔1101分隔為蒸鍍腔1102 和濺鍍腔1103，并用于承載鍍膜工件。本實(shí)施例中，承載裝置120包括固定板121、第一承 載盤(pán)122、第二承載盤(pán)123、第一轉(zhuǎn)軸IM及第二轉(zhuǎn)軸125。固定板121固定于鍍膜室110內(nèi) 并平行于底板112。固定板121的形狀與收容空間1101的橫截面的形狀相互配合，其與第 一側(cè)板113、第二側(cè)板114、第三側(cè)板115及第四側(cè)板116均緊密接觸。本實(shí)施例中，固定板 121與鍍膜室110 —體成型。第一安裝孔117和第二安裝孔118均位于濺鍍腔1103 —側(cè)。 固定板121具有相對(duì)的第一表面1211和第二表面1212，第一表面1211與頂板111相對(duì)，第 二表面1212與底板112相對(duì)。在固定板121的中心自第一表面1211向第二表面1212開(kāi) 設(shè)有鍍膜通孔1213。鍍膜通孔1213的橫截面的形狀與待鍍膜工件的形狀相對(duì)應(yīng)。本實(shí)施 例中，鍍膜通孔1213的橫截面的形狀為長(zhǎng)方形。在第一表面1211環(huán)繞鍍膜通孔1213設(shè)置 有支撐部1215，以用于支撐鍍膜工件。本實(shí)施例中，固定板121上設(shè)置有兩個(gè)定位塊1214， 兩個(gè)定位塊1214位于鍍膜通孔1213的相對(duì)兩側(cè)。支撐部1215凸出于固定板121第一表 面1211的高度小于定位塊1214凸出于固定板121的第一表面1211的高度。
第一承載盤(pán)122和第二承載盤(pán)123均用于承載鍍膜工件。本實(shí)施例中，第一承載 盤(pán)122包括相互固定連接的第一承載部1221及第一固定部1222。第一承載部1221大致 為長(zhǎng)方體，其具有相對(duì)的第一承載面1223和第一底面12M。在第一承載面1223上開(kāi)設(shè)有 第一收容槽1225用于收容固定鍍膜工件。第一收容槽1225為盲槽。在第一收容槽1225 的相對(duì)兩側(cè)，開(kāi)設(shè)有兩個(gè)第一定位通孔12 ，兩個(gè)第一定位通孔12 的橫截面的形狀與定位凸塊1214的形狀相對(duì)應(yīng)，兩個(gè)第一定位通孔12 的間距與兩個(gè)定位凸塊1214的間距相 等，使得兩個(gè)定位凸塊1214恰好可以配合于兩個(gè)第一定位通孔12 中。第一固定部1222 用于與第一轉(zhuǎn)軸124固定。本實(shí)施例中，第一固定部1222套設(shè)并固定于第一轉(zhuǎn)軸124。第 二承載盤(pán)123的結(jié)構(gòu)和形狀與第一承載盤(pán)122的形狀和結(jié)構(gòu)相同。
第一轉(zhuǎn)軸123呈圓柱形，其長(zhǎng)度大于第一側(cè)板113和第三側(cè)板115的間距。第一承 載盤(pán)122的第一固定部1222連接于第一轉(zhuǎn)軸124的中心。本實(shí)施例中，第一承載盤(pán)122固 定于第一轉(zhuǎn)軸124。第一轉(zhuǎn)軸IM的兩端分別穿入一個(gè)第一安裝孔117和該第一安裝孔117 在同一直線(xiàn)的第二安裝孔118中，優(yōu)選地，第一轉(zhuǎn)軸IM的一端或者兩端超出鍍膜室110，以 便于在鍍膜室110外控制第一轉(zhuǎn)軸124使第一轉(zhuǎn)軸IM及固定于第一轉(zhuǎn)軸124的第一承載 盤(pán)121轉(zhuǎn)動(dòng)。
第二轉(zhuǎn)軸125的形狀和結(jié)構(gòu)與第一轉(zhuǎn)軸124的結(jié)構(gòu)和形狀相同。第二承載盤(pán)123 連接于第二轉(zhuǎn)軸125的中心位置。本實(shí)施例中，第二承載盤(pán)123固定于第二轉(zhuǎn)軸125。第二 轉(zhuǎn)軸125的兩端分別穿入另一個(gè)第一安裝孔117和該第一安裝孔117位于同一直線(xiàn)的第二 安裝孔118中。使得第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125相互平行。優(yōu)選地，第二轉(zhuǎn)軸125的一 端或者兩端超出鍍膜室110，以便于在鍍膜室110外控制第二轉(zhuǎn)軸125使第二轉(zhuǎn)軸125及固 定于第二轉(zhuǎn)軸125的第二承載盤(pán)123轉(zhuǎn)動(dòng)。
請(qǐng)參閱圖4及圖5，本實(shí)施例中，為了使得能夠同時(shí)對(duì)第一承載盤(pán)122和第二承載 盤(pán)123內(nèi)的工件進(jìn)行鍍膜。通過(guò)旋轉(zhuǎn)第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125，第一承載盤(pán)122和第二 承載盤(pán)123平行設(shè)置并均平行于固定板121時(shí)，當(dāng)?shù)谝怀休d盤(pán)122的第一承載面1223與固 定板121的第一表面1211相對(duì)，承載于第一承載盤(pán)122的鍍膜工件遮蔽鍍膜通孔1213并 暴露于蒸鍍腔1102。而第二承載盤(pán)123的底面與第一表面1211相對(duì)，使得承載于第二承 載盤(pán)123的鍍膜工件表面暴露于濺鍍腔1103中。分別旋轉(zhuǎn)第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125， 當(dāng)?shù)诙休d盤(pán)123的承載面與固定板121的第一表面1211相對(duì)時(shí)，承載于第二承載盤(pán)123 的鍍膜工件遮蔽鍍膜通孔1213并暴露于蒸鍍腔1102。而第一承載盤(pán)122的第一底面12M 與第一表面1211相對(duì)，使得承載于第一承載盤(pán)122的鍍膜工件表面暴露于濺鍍腔1103中。
可以理解，第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125可以均設(shè)于蒸鍍腔1102內(nèi)，或者第一轉(zhuǎn) 軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125均設(shè)于濺鍍腔1103內(nèi)，或者第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125中的一個(gè) 設(shè)置于蒸鍍腔1102，第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125中的另一個(gè)設(shè)置于濺鍍腔1103。另外， 第一轉(zhuǎn)軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125也可以固定安裝于固定板121或者鍍膜室110，而第一承載 盤(pán)122可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于第一轉(zhuǎn)軸124，第二承載盤(pán)123可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于第二轉(zhuǎn)軸125，使得 第一承載盤(pán)122和第二承載盤(pán)123可以相對(duì)于固定板121轉(zhuǎn)動(dòng)，以遮蔽或者暴露鍍膜通孔 1213。
濺鍍裝置130安裝于頂板111與固定板121相對(duì)的表面上。本實(shí)施例中，濺鍍裝 置130包括濺鍍靶。當(dāng)在濺鍍靶與固定板121或兩個(gè)承載盤(pán)之間施加高壓電場(chǎng)時(shí)，在濺鍍 腔中充入所需要的惰性氣體(通常為氬氣)，在該電場(chǎng)的作用下，氬氣電離成氬離子(帶正 電荷)和電子，氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶 原子(或分子)沉積在鍍膜工件上成膜。當(dāng)然，濺鍍裝置130還可以進(jìn)一步包括磁控裝置， 以控制惰性氣體離子在電場(chǎng)中運(yùn)行的軌跡，從而使得多個(gè)區(qū)域的靶材被轟擊，提高靶材的 利用率。6
蒸鍍裝置140固定于底板112。蒸鍍裝置140包括蒸鍍坩堝141、第一固定件142、 第二固定件143及噴頭144。蒸鍍坩堝141用于收容鍍膜原料。第一固定件141用于固定 蒸鍍坩堝141。本實(shí)施例中，第一固定件142大致呈圓柱形，其具有相對(duì)的第一端部1421和 第二端部1422，蒸鍍坩堝141固定于第一端部1421。第一固定件142的外表面設(shè)置有外螺 紋。第二固定件143包括一體成型并同軸設(shè)置的安裝部1431和固定部1432。第二固定件 143開(kāi)設(shè)有貫穿安裝部1431及固定部1432的收容孔1433，收容孔1433的內(nèi)壁設(shè)置有第一 固定件141的外螺紋相配合的內(nèi)螺紋，用于與第一固定件141相配合使得第一固定件141 可以相對(duì)于第二固定件142進(jìn)行調(diào)節(jié)。固定部1432為圓柱形，其橫截面的直徑的大小與底 板112的固定孔119的孔徑相配合，固定部1432插于并固定于固定孔119，使得安裝部1431 位于鍍膜室110外，收容孔1433與固定孔119同軸。第一固定件142的第一端部1421位 于固定部1432的一側(cè)，第二端部1422位于安裝部1431 —側(cè)并從安裝部1431 —側(cè)露出。
噴頭144固定于第二固定件143的固定部1432并與第二固定件143同軸。噴頭 144大致為圓臺(tái)形腔體。噴頭144具有相對(duì)的第一端1441和第二端1442，自第一端1441向 第二端1442其直徑逐漸變小，第一端1441固定于固定部1432，第二端1442開(kāi)有開(kāi)口 1443， 噴頭144與第二固定件134形成一收容空間145。優(yōu)選地，開(kāi)口 1443與鍍膜通孔1213同 軸。當(dāng)加熱蒸鍍坩堝141中的鍍膜原料鍍膜原料揮發(fā)時(shí)，其在收容空間145內(nèi)達(dá)到一定濃 度后噴發(fā)到鍍膜工件，提高鍍膜的品質(zhì)。
本技術(shù)方案提供的鍍膜裝置100，可以在第一承載盤(pán)122和第二承載盤(pán)123中分別 承載鍍膜工件，然后通過(guò)旋轉(zhuǎn)第一轉(zhuǎn)軸1 和第二轉(zhuǎn)軸125，使得當(dāng)?shù)谝怀休d盤(pán)122的鍍膜 工件進(jìn)行蒸鍍時(shí)，第二承載盤(pán)123內(nèi)承載的鍍膜工件進(jìn)行濺鍍，并且可以通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)第一轉(zhuǎn) 軸IM和第二轉(zhuǎn)軸125，使得第一承載盤(pán)122內(nèi)蒸鍍完成的鍍膜工件進(jìn)行濺鍍，而使得完成 濺鍍的第二承載盤(pán)123內(nèi)的鍍膜工件進(jìn)行蒸鍍，如此，可以在鍍膜工件的表面形成相互堆 疊的鍍膜結(jié)構(gòu)而在同一鍍膜裝置中完成。
另外，承載盤(pán)和轉(zhuǎn)軸的個(gè)數(shù)也可以為一個(gè)，即按照鍍膜的需要，通過(guò)旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn) 動(dòng)，使得承載盤(pán)內(nèi)的鍍膜工件的表面選擇性的朝向蒸鍍腔或者濺鍍腔，以可以交替形成濺 鍍膜和蒸鍍膜，另外在鍍膜室內(nèi)設(shè)置遮蔽板，在承載盤(pán)沒(méi)有遮蔽鍍膜通孔時(shí)，采用遮蔽板將 鍍膜通孔遮蔽。為了能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)多個(gè)鍍膜元件進(jìn)行鍍膜，也可以設(shè)置更多個(gè)的鍍膜承載 盤(pán)、旋轉(zhuǎn)軸和鍍膜通孔，使得每?jī)蓚€(gè)鍍膜承載盤(pán)與一個(gè)鍍膜通孔相對(duì)應(yīng)，從而可以更大程度 提高鍍膜的效率。
本技術(shù)方案提供的鍍膜裝置，其設(shè)置有承載盤(pán)和固定板，固定板將鍍膜室分隔成 蒸鍍腔和濺鍍腔，并且固定板開(kāi)設(shè)有鍍膜通孔，通過(guò)將承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室內(nèi)，， 通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)承載盤(pán)可以使得承載盤(pán)遮蔽或者暴露鍍膜通孔，從而可以實(shí)現(xiàn)在同一鍍膜室內(nèi)對(duì) 鍍膜元件選擇性進(jìn)行蒸鍍制程或者濺鍍制程，從而可以避免形成不同鍍膜轉(zhuǎn)換鍍膜室而造 成的鍍膜污染，并且由于不需要轉(zhuǎn)換鍍膜室，提高了鍍膜的效率。
可以理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做 出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜裝置，其包括鍍膜室、承載裝置、濺鍍裝置及蒸鍍裝置，所述承載裝置包括 固定板及用于承載鍍膜工件的第一承載盤(pán)，所述固定板將鍍膜室分隔成蒸鍍腔和濺鍍腔， 所述濺鍍裝置設(shè)置于濺鍍腔內(nèi)，所述蒸鍍裝置與所述蒸鍍腔對(duì)應(yīng)連通，所述固定板開(kāi)設(shè)有 連通蒸鍍腔和濺鍍腔的鍍膜通孔，所述第一承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室內(nèi)并位于鍍膜通 孔附近，以使第一承載盤(pán)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)可選擇性地遮蔽或者暴露所述鍍膜通孔，從而當(dāng)所述第 一承載盤(pán)暴露所述鍍膜通孔時(shí)，使得第一承載盤(pán)承載的鍍膜工件暴露于蒸鍍腔和濺鍍腔中 的一個(gè)，并且當(dāng)根據(jù)第一承載盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)使得第一承載盤(pán)遮蔽所述鍍膜通孔時(shí)，所述第一承 載盤(pán)承載的鍍膜工件通過(guò)鍍膜通孔暴露于蒸鍍腔和濺鍍腔中的另一個(gè)。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述承載裝置還包括第一轉(zhuǎn)軸，所述第 一轉(zhuǎn)軸固定安裝于鍍膜室或者固定板，所述第一承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于第一轉(zhuǎn)軸。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括第一轉(zhuǎn)軸，所述第 一轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室并延伸出鍍膜室，所述第一承載盤(pán)固定安裝于第一轉(zhuǎn)軸，以 使第一承載盤(pán)通過(guò)在鍍膜室外轉(zhuǎn)動(dòng)第一轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述第一轉(zhuǎn)軸安裝于鍍膜室，所述第一 轉(zhuǎn)軸平行于所述固定板。
5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括一個(gè)遮蔽板，所述 遮蔽板用于在第一承載盤(pán)暴露鍍膜通孔時(shí)遮蔽鍍膜通孔。
6.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述承載裝置還包括第二承載盤(pán)，所述 第二承載盤(pán)用于承載另一鍍膜工件，所述第二承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室內(nèi)并位于鍍膜 通孔附近，用于在第一承載盤(pán)暴露所述鍍膜通孔時(shí)，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)使得所述第二承載盤(pán)遮蔽所 述鍍膜通孔。
7.如權(quán)利要求6所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述承載裝置還包括第二轉(zhuǎn)軸，所述第 二轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室并延伸出鍍膜室，所述第二承載盤(pán)固定安裝于第二轉(zhuǎn)軸，以 使第二承載盤(pán)通過(guò)在鍍膜室外轉(zhuǎn)動(dòng)第二轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)。
8.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，環(huán)繞所述鍍膜通孔設(shè)有支撐部，用于在 第一承載盤(pán)遮蔽鍍膜通孔時(shí)，與所述第一承載盤(pán)相接觸以支撐所述第一承載盤(pán)。
9.如權(quán)利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜通孔的周?chē)O(shè)置有定位凸塊， 所述定位凸塊的高度大于支撐部的高度，所述承載盤(pán)開(kāi)設(shè)有定位通孔，在第一承載盤(pán)通過(guò) 轉(zhuǎn)動(dòng)遮蔽所述鍍膜通孔時(shí)，所述第一承載盤(pán)與所述支撐部相接觸，所述定位凸塊配合收容 于定位通孔。
10.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜室具有相對(duì)的頂板和底板， 所述固定板設(shè)置于頂板和底板之間，所述濺鍍裝置固定于頂板，且與所述鍍膜通孔相對(duì)，所 述濺鍍腔位于所述頂板與固定板之間，所述蒸鍍裝置固定于底板，也與所述鍍膜通孔相對(duì)， 所述蒸鍍腔位于所述底板與固定板之間。
11.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括蒸鍍坩堝、第一固 定件和第二固定件，所述蒸鍍坩堝固定于第一固定件，并與鍍膜通孔相對(duì)，所述第一固定件 與所述第二固定件通過(guò)螺紋可轉(zhuǎn)動(dòng)地配合，第二固定件固定于鍍膜室，從而使得所述蒸鍍 坩堝通過(guò)第一固定件相對(duì)于第二固定件的轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)整位置。
12.如權(quán)利要求11所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括設(shè)置于蒸鍍坩堝與鍍膜通孔之間的噴頭，所述噴頭具有圓臺(tái)形空腔，所述噴頭具有相對(duì)的第一端和第二 端，自第一端向第二端其空腔直徑逐漸變小，所述第一端固定于第二固定件，所述第二端具 有開(kāi)口，所述開(kāi)口與鍍膜通孔和蒸鍍坩堝相對(duì)應(yīng)，用于將來(lái)自蒸鍍坩堝的蒸鍍氣體向鍍膜 通孔方向噴出。
全文摘要
一種鍍膜裝置，其包括鍍膜室、承載裝置、濺鍍裝置及蒸鍍裝置。承載裝置包括固定板及用于承載鍍膜工件的第一承載盤(pán)。固定板將鍍膜室分隔成蒸鍍腔和濺鍍腔濺鍍裝置設(shè)置于濺鍍腔內(nèi)。蒸鍍裝置與所述蒸鍍腔對(duì)應(yīng)連通。所述固定板開(kāi)設(shè)有連通蒸鍍腔和濺鍍腔的鍍膜通孔。第一承載盤(pán)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于鍍膜室內(nèi)并位于鍍膜通孔附近，以使第一承載盤(pán)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)可選擇性地遮蔽或者暴露所述鍍膜通孔。從而當(dāng)所述第一承載盤(pán)暴露所述鍍膜通孔時(shí)，使得第一承載盤(pán)承載的鍍膜工件暴露于蒸鍍腔和濺鍍腔中的一個(gè)，并且當(dāng)使得第一承載盤(pán)遮蔽所述鍍膜通孔時(shí)，所述第一承載盤(pán)承載的鍍膜工件通過(guò)鍍膜通孔暴露于蒸鍍腔和濺鍍腔中的另一個(gè)。
文檔編號(hào)C23C14/24GK102031493SQ200910308028
公開(kāi)日2011年4月27日 申請(qǐng)日期2009年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月30日
發(fā)明者裴紹凱 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司