專(zhuān)利名稱：鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜加工技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
濺鍍是利用等離子體產(chǎn)生的離子去撞擊靶材，將靶材內(nèi)的原子撞出而沉積在基材 表面堆積成膜。目前，在對(duì)工件進(jìn)行鍍膜時(shí)，一般是將工件吊設(shè)在旋轉(zhuǎn)料架上，然后將旋轉(zhuǎn) 料架放置在一公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)鍍膜裝置的圓環(huán)形軌道上，多對(duì)靶材則分別相對(duì)地設(shè)置在軌道的 內(nèi)、外兩側(cè)，從而通過(guò)公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)鍍膜裝置的圓環(huán)形軌道帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)料架上的工件相對(duì)靶材轉(zhuǎn) 動(dòng)，使得各工件上能夠沉積膜層。為了增加膜層的致密性或者硬度，一般是在被鍍的工件上施加電壓，通常為負(fù)偏 壓，較低的電壓可以使膜層的致密性或者硬度提高，較高的電壓則可以產(chǎn)生電菜，利用電漿 轟擊工件表面，可以使工件表面活化，提高膜層的附著性。對(duì)于公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)鍍膜裝置這樣的旋 轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，一般是采用電刷接觸公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)鍍膜裝置的驅(qū)動(dòng)模組，然而此種結(jié)構(gòu)電流在傳輸過(guò) 程中通過(guò)的傳動(dòng)部件較多，各部件之間相互轉(zhuǎn)動(dòng)接觸，容易導(dǎo)致輸入電壓不穩(wěn)定，進(jìn)而影響 鍍膜的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種具有穩(wěn)定輸入電壓的鍍膜裝置。一種鍍膜裝置，包括驅(qū)動(dòng)模組、設(shè)置于驅(qū)動(dòng)模組上的料桿、導(dǎo)電滑環(huán)及電壓導(dǎo)入 盤(pán)，所述料桿用于掛設(shè)待鍍工件，所述驅(qū)動(dòng)模組用于驅(qū)動(dòng)料桿轉(zhuǎn)動(dòng)，所述電壓導(dǎo)入盤(pán)與所述 料桿相連，所述導(dǎo)電滑環(huán)包括定子部及可相對(duì)定子部轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)子部，所述定子部上設(shè)有定 子導(dǎo)線用于與電壓源連接，所述轉(zhuǎn)子部上設(shè)有轉(zhuǎn)子導(dǎo)線與電壓導(dǎo)入盤(pán)連接從而將電壓源的 電壓通過(guò)所述電壓導(dǎo)入盤(pán)傳輸?shù)綊煸O(shè)在所述料桿上的待鍍工件上。一種鍍膜裝置，包括轉(zhuǎn)盤(pán)、固定設(shè)置于轉(zhuǎn)盤(pán)上的自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件、料桿、導(dǎo)電滑環(huán)及電 壓導(dǎo)入盤(pán)，所述料桿用于掛設(shè)待鍍工件，料桿的一端連接于自傳驅(qū)動(dòng)件上并可在自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng) 件的驅(qū)動(dòng)下自轉(zhuǎn)，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于電壓導(dǎo)入盤(pán)上，所述導(dǎo)電滑環(huán)包括定子部及可轉(zhuǎn) 動(dòng)地設(shè)置于定子部?jī)?nèi)的轉(zhuǎn)子部，所述定子部上設(shè)有定子導(dǎo)線用于與電壓源連接，所述轉(zhuǎn)子 部上設(shè)有轉(zhuǎn)子導(dǎo)線與電壓導(dǎo)入盤(pán)連接從而將電壓源的電壓通過(guò)所述電壓導(dǎo)入盤(pán)傳輸?shù)綊?設(shè)在所述料桿上的待鍍工件上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，所述鍍膜裝置通過(guò)導(dǎo)電滑環(huán)與電壓導(dǎo)入盤(pán)的配合將電壓導(dǎo)入至 待鍍工件上，可免去使用傳統(tǒng)的電刷機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)化系統(tǒng)、縮短電流的傳輸路徑，從而可導(dǎo)入穩(wěn) 定的電壓至待鍍工件上，有效提升鍍膜質(zhì)量。


下面參照附圖結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。圖1為本發(fā)明一較佳實(shí)施方式的鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
權(quán)利要求
1.一種鍍膜裝置，包括驅(qū)動(dòng)模組及設(shè)置于驅(qū)動(dòng)模組上的料桿，所述料桿用于掛設(shè)待鍍 工件，所述驅(qū)動(dòng)模組用于驅(qū)動(dòng)料桿轉(zhuǎn)動(dòng)，其特征在于還包括導(dǎo)電滑環(huán)及電壓導(dǎo)入盤(pán)，所述 電壓導(dǎo)入盤(pán)與所述料桿相連，所述導(dǎo)電滑環(huán)包括定子部及可相對(duì)定子部轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)子部，所 述定子部上設(shè)有定子導(dǎo)線用于與電壓源連接，所述轉(zhuǎn)子部上設(shè)有轉(zhuǎn)子導(dǎo)線與電壓導(dǎo)入盤(pán)連 接從而將電壓源的電壓通過(guò)所述電壓導(dǎo)入盤(pán)傳輸?shù)綊煸O(shè)在所述料桿上的待鍍工件上。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)模組包括轉(zhuǎn)盤(pán)、公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件及 自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件，所述公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件與所述轉(zhuǎn)盤(pán)連接，用于驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)盤(pán)自轉(zhuǎn)，所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件固 定設(shè)置于轉(zhuǎn)盤(pán)上并可隨轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述料桿的一端連接于自傳驅(qū)動(dòng)件上并可在自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件 的驅(qū)動(dòng)下自轉(zhuǎn)，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于電壓導(dǎo)入盤(pán)上。
3.如權(quán)利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于還包括支架及絕緣塊，支架的一端固定 連接于轉(zhuǎn)盤(pán)上，絕緣塊夾設(shè)于電壓導(dǎo)入盤(pán)與支架的另一端之間。
4.如權(quán)利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于所述導(dǎo)電滑環(huán)的轉(zhuǎn)子部的轉(zhuǎn)子導(dǎo)線固 定連接于電壓導(dǎo)入盤(pán)上且呈對(duì)稱設(shè)置，所述轉(zhuǎn)子部通過(guò)轉(zhuǎn)子導(dǎo)線的牽引隨電壓導(dǎo)入盤(pán)轉(zhuǎn) 動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于還包括支撐桿，所述支撐桿的端部形成 承載部，所述導(dǎo)電滑環(huán)的定子部固定設(shè)置于所述承載部上。
6.如權(quán)利要求5所述的鍍膜裝置，其特征在于還包括固定塊，所述固定塊包括抵壓 部、定位部及連接部，所述連接部固定連接于支撐桿的承載部上，所述定位部由連接部的內(nèi) 緣向上延伸且套設(shè)于導(dǎo)電滑環(huán)的外圍，所述抵壓部由定位部的頂端彎折向內(nèi)延伸且與導(dǎo)電 滑環(huán)的定子部的頂部相抵靠。
7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于所述鍍膜裝置還包括濺鍍室以及靶材， 所述濺鍍室包括底壁、頂壁及連接所述底壁和頂壁的側(cè)壁，所述料桿、導(dǎo)電滑環(huán)及電壓導(dǎo)入 盤(pán)均設(shè)置于濺鍍室內(nèi)，所述靶材設(shè)置在所述濺鍍室的側(cè)壁上，作為對(duì)待鍍工件進(jìn)行濺鍍的 濺射源。
8.如權(quán)利要求7所述的鍍膜裝置，其特征在于所述濺鍍室的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有與濺鍍室 相連通的進(jìn)氣口及抽氣口，所述進(jìn)氣口用于將濺鍍所需的反應(yīng)氣體通入到濺鍍室內(nèi)，所述 抽氣口用于對(duì)濺鍍室進(jìn)行抽真空處理。
9.一種鍍膜裝置，包括轉(zhuǎn)盤(pán)、固定設(shè)置于轉(zhuǎn)盤(pán)上的自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件及料桿，所述料桿用于掛 設(shè)待鍍工件，其特征在于還包括導(dǎo)電滑環(huán)及電壓導(dǎo)入盤(pán)，所述料桿的一端連接于自傳驅(qū)動(dòng) 件上并可在自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件的驅(qū)動(dòng)下自轉(zhuǎn)，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于電壓導(dǎo)入盤(pán)上，所述導(dǎo)電滑 環(huán)包括定子部及可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于定子部?jī)?nèi)的轉(zhuǎn)子部，所述定子部上設(shè)有定子導(dǎo)線用于與電 壓源連接，所述轉(zhuǎn)子部上設(shè)有轉(zhuǎn)子導(dǎo)線與電壓導(dǎo)入盤(pán)連接從而將電壓源的電壓通過(guò)所述電 壓導(dǎo)入盤(pán)傳輸?shù)綊煸O(shè)在所述料桿上的待鍍工件上。
10.如權(quán)利要求9所述的鍍膜裝置，其特征在于還包括支撐桿與固定塊，所述支撐桿 的端部形成承載部，所述固定塊包括抵壓部、定位部及連接部，所述連接部固定連接于支撐 桿的承載部上，所述定位部由連接部的內(nèi)緣向上延伸且套設(shè)于導(dǎo)電滑環(huán)的外圍，所述抵壓 部由定位部的頂端彎折向內(nèi)延伸且與導(dǎo)電滑環(huán)的定子部相抵靠。
全文摘要
一種鍍膜裝置，包括轉(zhuǎn)盤(pán)、固定設(shè)置于轉(zhuǎn)盤(pán)上的自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件、料桿、導(dǎo)電滑環(huán)及電壓導(dǎo)入盤(pán)，所述料桿用于掛設(shè)待鍍工件，料桿的一端連接于自傳驅(qū)動(dòng)件上并可在自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件的驅(qū)動(dòng)下自轉(zhuǎn)，另一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于電壓導(dǎo)入盤(pán)上，所述導(dǎo)電滑環(huán)包括定子部及可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于定子部?jī)?nèi)的轉(zhuǎn)子部，所述定子部上設(shè)有定子導(dǎo)線用于與電壓源連接，所述轉(zhuǎn)子部上設(shè)有轉(zhuǎn)子導(dǎo)線與電壓導(dǎo)入盤(pán)連接從而將電壓源的電壓通過(guò)所述電壓導(dǎo)入盤(pán)傳輸?shù)綊煸O(shè)在所述料桿上的待鍍工件上，從而可免去使用電刷，簡(jiǎn)化系統(tǒng)縮短電流的傳輸路徑，導(dǎo)入穩(wěn)定的電壓至待鍍工件上，提升鍍膜質(zhì)量。
文檔編號(hào)C23C14/34GK102102181SQ20091031199
公開(kāi)日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2009年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月22日
發(fā)明者洪新欽 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司