專利名稱：鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于鍍膜的鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的真空離子鍍膜機(jī)主要利用電子槍將坩堝內(nèi)的蒸鍍材料進(jìn)行加熱，并將蒸鍍 材料蒸發(fā)到光學(xué)元件表面形成光學(xué)膜。而現(xiàn)有的蒸鍍材料一般呈顆粒狀，由于顆粒體積小， 重量輕，所以在加熱的過(guò)程中，某些顆粒會(huì)被噴濺出去，沒(méi)有完全融化的顆粒會(huì)在光學(xué)元件 表面產(chǎn)生污點(diǎn)，影響光學(xué)元件的質(zhì)量。為了減少這種現(xiàn)象，一般需要預(yù)先在一個(gè)真空的預(yù)融 機(jī)內(nèi)利用電子槍將粒狀的蒸鍍材料融化成一體，然后再裝入真空離子鍍膜機(jī)中進(jìn)行鍍膜。 但是，這種鍍膜方式需要利用兩個(gè)設(shè)備，而且每次鍍膜都需要在兩個(gè)設(shè)備間進(jìn)行操作，由此 將導(dǎo)致制作流程的加長(zhǎng)，不利于提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種高效的鍍膜機(jī)。一種鍍膜機(jī)，其包括坩堝、電子槍、坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置及承載板。所述坩堝及電子槍設(shè) 于所述承載板上，所述坩堝用于裝載為光學(xué)元件鍍膜的蒸鍍材料，所述電子槍用于加熱所 述坩堝內(nèi)的蒸鍍材料，所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)。所述鍍膜機(jī)還包括蓋板及蓋 板偏移裝置，所述蓋板蓋于所述坩堝上方，且與所述坩堝之間存在高度差，留有供電子槍射 線射入的間隙，所述蓋板偏移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板以遮蓋或露出所述坩堝。本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)可以在用電子槍對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行預(yù)融時(shí)，利用蓋板偏移裝置 驅(qū)動(dòng)蓋板遮蓋坩堝，防止蒸鍍材料的濺射；當(dāng)用電子槍對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行蒸發(fā)時(shí)，利用蓋板偏 移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板露出坩堝，進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，從而可以在一臺(tái)設(shè)備中實(shí)現(xiàn)預(yù)融及鍍膜，以加快 產(chǎn)品的生產(chǎn)流程。


圖1為本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)的示意圖。
圖2為圖1的鍍膜機(jī)的加熱系統(tǒng)的組裝圖。
圖3為圖1的鍍膜機(jī)的加熱系統(tǒng)的分解示意圖。
圖4為圖1的鍍膜機(jī)的坩堝及坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的示意圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
螺絲8
待鍍膜鏡片9
鍍膜機(jī)100
加熱系統(tǒng)10
升降裝置11
升降基座110
伸長(zhǎng)部111
承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12
電機(jī)轉(zhuǎn)軸121
電機(jī)主體122
承載板13
第一臺(tái)階孔131
第二臺(tái)階孔132
坩堝14
坩堝側(cè)壁141
盛料槽141a
堝底142
突塊142a
電子槍15
蓋板16
蓋板偏移裝置17
蓋板轉(zhuǎn)軸170
蓋板支撐桿171
坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18
座體180
轉(zhuǎn)動(dòng)部181
凹槽181a
承載系統(tǒng)20
轉(zhuǎn)動(dòng)軸21
基板承載架22
基板23
離子源30
真空鍍膜室40
底部401
頂部40具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，為本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)100，所述鍍膜機(jī)100包括加熱系統(tǒng)10、承載系
統(tǒng)20、離子源30及真空鍍膜室40。所述真空鍍膜室40包括底部401及頂部402。所述離子源30固定在所述真空鍍 膜室40的底部401，所述離子源30用于為蒸發(fā)的蒸鍍材料提供動(dòng)能，使得蒸鍍材料吸附的 更緊實(shí)。所述承載系統(tǒng)20包括轉(zhuǎn)動(dòng)軸21、基板承載架22及基板23。所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸21正對(duì) 所述離子源30安裝在所述真空鍍膜室40的頂部402，所述基板承載架22與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸21 固定連接。本實(shí)施方式中采用螺絲將所述基板承載架22連接于所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸21上。所述基 板承載架22上裝有多塊基板23，所述基板23用于承載待鍍膜鏡片9。
請(qǐng)一并參閱圖2及圖3，所述加熱系統(tǒng)10包括升降裝置11、承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12、承 載板13、坩堝14、電子槍15、蓋板16、蓋板偏移裝置17及坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18。所述升降裝置 11固定在所述真空鍍膜室40的底部401，所述升降裝置11位于所述離子源30 —側(cè)。本實(shí) 施方式中，所述升降裝置11采用氣壓缸。當(dāng)然，所述升降裝置11也可以采用液壓缸或其他 動(dòng)力裝置例如馬達(dá)等。所述升降裝置11包括升降基座110及伸長(zhǎng)部111。所述升降基座 110固定于所述真空鍍膜室40的底部401，所述伸長(zhǎng)部111能夠相對(duì)所述升降基座110做 升降運(yùn)動(dòng)。所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12固定于所述升降裝置11的伸長(zhǎng)部111上。本實(shí)施方式 中，所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12是步進(jìn)電機(jī)，包括電機(jī)轉(zhuǎn)軸121及電機(jī)主體122。所述電機(jī)主體 122固定連接于所述伸長(zhǎng)部111上。所述承載板13轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12上。本實(shí)施方式中，所述承載 板13是一矩形板，通過(guò)螺絲8固定在電機(jī)轉(zhuǎn)軸121上。沿所述承載板13的長(zhǎng)度方向的兩 端開(kāi)設(shè)有第一臺(tái)階孔131及第二臺(tái)階孔132。所述第一臺(tái)階孔131、第二臺(tái)階孔132分別用 于固定一坩堝14于其中。其中第一臺(tái)階孔131及第二臺(tái)階孔132能夠通過(guò)所述承載板轉(zhuǎn) 動(dòng)裝置12轉(zhuǎn)動(dòng)所述承載板13來(lái)改變或交換其位置，使得位于第一臺(tái)階孔131或第二臺(tái)階 孔132中的坩堝14能夠位于可以對(duì)待鍍膜鏡片9進(jìn)行鍍膜的位置。本實(shí)施方式中，所述坩堝14是圓盤(pán)狀。所述坩堝14包括坩堝側(cè)壁141及堝底142。 所述坩堝側(cè)壁141圍成一個(gè)用于盛放蒸鍍材料的盛料槽141a。所述堝底142加工有四個(gè)突 塊142a(參圖4)。所述四個(gè)突塊14 沿所述坩堝14的圓周方向排列。所述兩個(gè)電子槍15固定于所述承載板13的一側(cè)，分別對(duì)應(yīng)所述第一臺(tái)階孔131 及第二臺(tái)階孔132，向收容于所述第一臺(tái)階孔131及第二臺(tái)階孔132內(nèi)的坩堝14發(fā)射射線。所述蓋板16的直徑大于所述坩堝14的直徑。所述蓋板16遮蓋所述坩堝14，防 止所述坩堝14內(nèi)的鍍膜材料蒸發(fā)到基板承載架22上。所述蓋板16與對(duì)應(yīng)坩堝14之間留 有間隙h，使得位于承載板13側(cè)邊的電子槍15的射線L可以順利的射入坩堝14內(nèi)。所述 蓋板16固定于所述蓋板偏移裝置17上。所述蓋板偏移裝置17位于所述承載板13兩端， 且與所述第一臺(tái)階孔131及第二臺(tái)階孔132相對(duì)應(yīng)。所述蓋板偏移裝置17轉(zhuǎn)動(dòng)蓋板16以 遮蓋或露出坩堝14。所述蓋板偏移裝置17可以是將所述蓋板16偏轉(zhuǎn)到坩堝14 一側(cè)的機(jī) 構(gòu)，也可以是將所述蓋板16平移到坩堝14 一側(cè)的機(jī)構(gòu)。本實(shí)施方式中，所述蓋板偏移裝置 17包括蓋板轉(zhuǎn)軸170及蓋板支撐桿171。所述蓋板轉(zhuǎn)軸170豎直立于所述承載板13 —側(cè)， 所述蓋板支撐桿171水平延伸到所述坩堝14上方，所述蓋板16固定于所述蓋板支撐桿171 上。當(dāng)需要露出所述坩堝14時(shí)，所述蓋板轉(zhuǎn)軸170水平轉(zhuǎn)動(dòng)，平移所述蓋板16，以露出所述 坩堝14。當(dāng)需要遮蓋所述坩堝14時(shí)，所述蓋板轉(zhuǎn)軸170水平轉(zhuǎn)動(dòng)，將所述蓋板16平移到所 述坩堝14上方。所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18驅(qū)動(dòng)所述坩堝14轉(zhuǎn)動(dòng)，以使坩堝14內(nèi)的蒸鍍材料被電子槍 15均勻加熱。所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18可以固定在所述承載板13上，也可以與所述承載板13 分開(kāi)設(shè)置。本實(shí)施方式中，所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18與所述承載板13分開(kāi)設(shè)置，所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng) 裝置18固定于所述真空鍍膜室40的底部401，位于所述承載板13的下方。所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng) 裝置18包括座體180及轉(zhuǎn)動(dòng)部181。所述轉(zhuǎn)動(dòng)部181上開(kāi)設(shè)有四個(gè)與所述坩堝14的四個(gè) 突塊14 相對(duì)應(yīng)的凹槽181a。所述升降裝置11改變所述承載板13的高度，以使所述坩堝 14能夠承靠到所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18的轉(zhuǎn)動(dòng)部181上，被所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18轉(zhuǎn)動(dòng)。
當(dāng)該鍍膜機(jī)100鍍第一批待鍍膜鏡片9時(shí)，先在所述基板23上裝滿所述待鍍膜鏡 片9，在所述兩個(gè)坩堝14內(nèi)裝入蒸鍍材料，再將所述真空鍍膜室40抽成真空。所述升降裝 置11改變所述承載板13的高度使所述坩堝14承靠到所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18的轉(zhuǎn)動(dòng)部181 上，被所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18轉(zhuǎn)動(dòng)。所述蓋板偏移裝置17轉(zhuǎn)動(dòng)蓋板16遮蓋所述坩堝14，所 述電子槍15加熱所述坩堝14，使所述兩個(gè)坩堝14中的蒸鍍材料融化，由于有蓋板16，所以 蒸鍍材料不會(huì)濺射到待鍍膜鏡片9上。當(dāng)蒸鍍材料融化后，蓋板偏移裝置17將位于第一臺(tái) 階孔131上方的蓋板16移開(kāi)，露出所述坩堝14，并改變對(duì)應(yīng)電子槍15的功率，利用位于第 一臺(tái)階孔131的坩堝14中的蒸鍍材料進(jìn)行鍍膜。當(dāng)然，也可以是先使用位于第一臺(tái)階孔 131的坩堝14中的蒸鍍材料進(jìn)行鍍膜當(dāng)鍍膜完成后，安裝第二批待鍍膜鏡片9時(shí)，將第一臺(tái)階孔131內(nèi)的坩堝14重新 裝入新的蒸鍍材料，再次鍍膜時(shí)，所述升降裝置11增加所述承載板13的高度使所述坩堝14 脫離所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18的轉(zhuǎn)動(dòng)部181，所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置12轉(zhuǎn)動(dòng)所述承載板13，交換 所述第一臺(tái)階孔131及第二臺(tái)階孔132的位置，再利用所述升降裝置11降低所述承載板13 的高度使所述坩堝14承靠到所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置18的轉(zhuǎn)動(dòng)部181上，利用所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝 置18轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)所述坩堝14。所述蓋板偏移裝置17將第二臺(tái)階孔132上的蓋板16移開(kāi)，將 第一臺(tái)階孔131上的坩堝14遮蓋。利用第二階孔173上的坩堝14鍍膜，對(duì)第一臺(tái)階孔131 上的坩堝14內(nèi)的鍍膜材料進(jìn)行融化，從而可以一邊鍍膜一邊融化，節(jié)省下一次鍍膜融化材 料的時(shí)間，進(jìn)一步提高生產(chǎn)效率。本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)可以在用電子槍對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行預(yù)融時(shí)，利用蓋板偏移裝置 驅(qū)動(dòng)蓋板遮蓋坩堝，防止蒸鍍材料的濺射；當(dāng)用電子槍對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行蒸發(fā)時(shí)，利用蓋板偏 移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板露出坩堝，進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，從而可以在一臺(tái)設(shè)備中實(shí)現(xiàn)預(yù)融及鍍膜，以加快 產(chǎn)品的生產(chǎn)流程?？梢岳斫獾氖牵瑢?duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做 出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜機(jī)，其包括坩堝、電子槍、坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置及承載板，所述坩堝及電子槍設(shè)于 所述承載板上，所述坩堝用于裝載為光學(xué)元件鍍膜的蒸鍍材料，所述電子槍用于加熱所述 坩堝內(nèi)的蒸鍍材料，所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)，其特征在于，所述鍍膜機(jī)還包括 蓋板及蓋板偏移裝置，所述蓋板蓋于所述坩堝上方，且與所述坩堝之間存在高度差，留有供 電子槍射線射入的間隙，所述蓋板偏移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板以遮蓋或露出所述坩堝。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述坩堝、電子槍、坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置、蓋板及 蓋板偏移裝置的數(shù)量均為兩個(gè)，所述兩個(gè)坩堝分別位于所述承載板兩端，所述兩個(gè)電子槍 分別對(duì)應(yīng)所述兩個(gè)坩堝設(shè)于所述承載板兩側(cè)，所述兩個(gè)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置分別用于驅(qū)動(dòng)所述兩 個(gè)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)，所述兩個(gè)蓋板分別位于所述兩個(gè)坩堝上方，且與所述兩個(gè)坩堝之間存在高度 差，留有供電子槍射線射入的間隙，所述兩個(gè)蓋板偏移裝置分別能夠移動(dòng)兩個(gè)蓋板以遮蓋 或露出所述兩個(gè)坩堝，所述鍍膜機(jī)還包括一個(gè)承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置，所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置用于 轉(zhuǎn)動(dòng)所述承載板，使所述兩個(gè)坩堝中其中任意一個(gè)坩堝位于為光學(xué)元件鍍膜的位置。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置是轉(zhuǎn)動(dòng)馬達(dá)。
4.如權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)裝置是步進(jìn)電機(jī)。
5.如權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述兩個(gè)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置固定于所述承載 板上。
6.如權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述兩個(gè)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置與所述承載板分 開(kāi)設(shè)置，所述兩個(gè)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置分別位于所述兩個(gè)坩堝的下方。
7.如權(quán)利要求6所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述鍍膜機(jī)還包括一個(gè)升降裝置，所述升 降裝置能夠改變所述承載板的高度，以使所述坩堝承靠或脫離所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置。
8.如權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述蓋板偏移裝置用于平移所述蓋板，以 遮蓋或露出坩堝。
9.如權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)，其特征在于，所述蓋板偏移裝置用于偏轉(zhuǎn)所述蓋板，以 遮蓋或露出坩堝。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鍍膜機(jī)，其包括坩堝、電子槍、坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置及承載板。坩堝及電子槍設(shè)于承載板上，坩堝用于裝載為光學(xué)元件鍍膜的蒸鍍材料，電子槍用于加熱坩堝內(nèi)的蒸鍍材料，坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)。鍍膜機(jī)還包括蓋板及蓋板偏移裝置，蓋板蓋于坩堝上方，且與坩堝之間存在高度差，留有供電子槍射線射入的間隙，蓋板偏移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板以遮蓋或露出坩堝。本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)可以在用電子槍對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行預(yù)融時(shí)，利用蓋板偏移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板遮蓋坩堝，防止蒸鍍材料的濺射；當(dāng)用電子槍對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行蒸發(fā)時(shí)，利用蓋板偏移裝置驅(qū)動(dòng)蓋板露出坩堝，進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，從而可以在一臺(tái)設(shè)備中實(shí)現(xiàn)預(yù)融及鍍膜，以加快產(chǎn)品的生產(chǎn)流程。
文檔編號(hào)C23C14/30GK102108486SQ200910312398
公開(kāi)日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2009年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月28日
發(fā)明者林后堯, 蔡泰生 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司