專利名稱：烘烤電極的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及光學部件制造設備，尤其涉及一種光學鍍膜設備中的烘烤電極。
背景技術：
光學鍍膜設備中設置對基片的烘烤機構是必要的，且應該根據不同的膜層以及不 同材料的基片選擇不同的烘烤溫度。而為了保證真空鍍膜室的密封性以及在電流導入真空 鍍膜室內的烘烤單元時的安全性與穩(wěn)定性，需要設置烘烤電極作為連接真空鍍膜室內外電 路的組件。 現有技術的烘烤電極的結構如圖1所示，包括電極桿1、絕緣座2、法蘭3，絕緣座 2外安裝有0型圈7。在電極桿的兩端設有通孔，將導線穿入，兩端面上開有絲孔，在絲孔 上裝入螺釘8以壓緊導線。這種烘烤電極存在以下不足導線與電極桿的連接方式不夠牢 固，有可能出現導線脫出的現象，而且電極桿外圍沒有保護措施，有可能造成該電極桿上的 導線與其它電極上的導線相碰觸的現象，且電極桿較細，所能承載的電流較小。
實用新型內容本實用新型的目的是針對現有技術不足之處，提供一種實現導線與電極桿可靠連 接，且避免該導線與其它電極上的導線接觸的現象發(fā)生的烘烤電極。 本實用新型通過以下技術方案實現一種烘烤電極，其包括電極桿、放置電極桿的
絕緣座、安裝于絕緣座底部的法蘭，烘烤電極還包括絕緣套，其罩住電極桿暴露于真空鍍膜
室中的部分及絕緣座上部。 其中，電極桿兩端可以設置螺紋。 其中，在電極桿上設置螺紋處可以安裝螺母及墊圈。 其中，絕緣套可以采用聚四氟乙烯材料制造。 另外，還可以加粗電極桿的直徑，以提高負載電流。 本實用新型還提供了 一種包括上述烘烤電極的光學鍍膜設備中的烘烤裝置。 本實用新型的有益效果是通過在電極桿兩端設置螺紋，在螺紋上安裝螺母及墊 圈，實現了導線與電極桿可靠連接；通過在電極桿暴露于真空鍍膜室的部分及絕緣座上部 包裹絕緣套，避免了該導線與其它電極上的導線接觸或將絕緣座與電極桿連接部分蒸鍍上 導電材料造成短路。
圖1為現有技術的烘烤電極的結構示意圖； 圖2為本實用新型實施例的結構示意圖。
具體實施方式下面結合實施例對本實用新型作進一步的描述
3[0015] 圖2為本實用新型實施例的結構示意圖。如圖2所示，依照本實施例的烘烤電極， 其包括電極桿1、放置電極桿1的絕緣座2、安裝于絕緣座2底部的法蘭3，烘烤電極還包括 絕緣套4，其罩住電極桿1暴露于真空鍍膜室中的部分及絕緣座上部。 本實施例中，電極桿1兩端可以設置螺紋。 本實施例中，在電極桿1上設置螺紋處可以安裝螺母5及墊圈6。 本實施例中，還可以加粗電極桿的直徑，以提高負載電流。 本實施例的烘烤電極在安裝時，通過過盈壓配合的方式將電極桿1壓入絕緣座2， 并以真空脂密封，絕緣座2外安裝有0型圈7和法蘭3，法蘭3安裝于絕緣座2底部，在電極 桿1兩端穿入導線，在螺紋上安裝螺母5和墊圈6以夾緊導線，然后在電極桿1暴露于真空 鍍膜室的部分及絕緣座2上部套上絕緣套4，這樣就完成了烘烤電極的安裝與連接。 本實用新型在裝配時需要保持電極桿垂直壓入絕緣座，電極桿不得彎曲和傾斜， 壓后真空密封應可靠。絕緣座和絕緣套均可采用聚四氟乙烯材料制造，其正常工作溫度范 圍為-180°C 250°C。 本實用新型的實施例通過在電極桿兩端設置螺紋，在螺紋上安裝螺母及墊圈，實 現了導線與電極桿可靠連接；通過在電極桿暴露于真空鍍膜室的部分及絕緣座上部設置絕 緣套，避免了與其它導線接觸的現象發(fā)生或將絕緣座與電極桿連接部分蒸鍍上導電材料造 成短路。 以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技 術人員來說，在不脫離本實用新型技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變型，這些改 進和變型也應視為本實用新型的保護范圍。
權利要求一種烘烤電極，其包括電極桿、放置所述電極桿的絕緣座、安裝于所述絕緣座底部的法蘭，其特征在于，所述烘烤電極還包括絕緣套，其罩住所述電極桿暴露于真空鍍膜室中的部分及絕緣座上部。
2. 如權利要求1所述的烘烤電極，其特征在于，所述電極桿兩端設置螺紋。
3. 如權利要求2所述的烘烤電極，其特征在于，在所述電極桿上設置螺紋處安裝螺母 及墊圈。
4. 如權利要求1至3之任一項所述的烘烤電極，其特征在于，所述絕緣套采用聚四氟乙 烯材料制造。
5. —種光學鍍膜設備中的烘烤裝置，其包括如權利要求1至3中任一項所述的烘烤電極。
專利摘要本實用新型涉及一種烘烤電極。該烘烤電極包括電極桿、放置所述電極桿的絕緣座、安裝于所述絕緣座底部的法蘭，所述烘烤電極還包括絕緣套，其罩住所述電極桿及絕緣座上部暴露于真空鍍膜室中的部分。本實用新型的烘烤電極通過在電極桿兩端設置螺紋，在螺紋上安裝螺母及墊圈，實現了導線與電極桿可靠連接；通過在電極桿暴露于真空鍍膜室的部分包裹絕緣套，避免了該導線與其它電極上的導線接觸或將絕緣座與電極桿連接部分蒸鍍上導電材料造成短路。
文檔編號C23C14/22GK201459230SQ20092011030
公開日2010年5月12日 申請日期2009年7月24日 優(yōu)先權日2009年7月24日
發(fā)明者徐建龍, 汪光武, 黃芃 申請人:北京北儀創(chuàng)新真空技術有限責任公司