專利名稱：處理裝置及處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對基板等工件實(shí)施成膜處理或蝕刻處理等處理的處理裝置及處理方 法。
背景技術(shù)：
在太陽能電池用面板或液晶基板的制造工序中，作為在基板(工件)上成膜或蝕 刻基板的操作，已有等離子CVD、等離子蝕刻等各種處理(例如參考專利文獻(xiàn)1)。在這些處 理工序中，在處理室之間輸送工件(基板)，同時(shí)進(jìn)行成膜等處理。為了完全自動(dòng)化這些處 理并提高批量生產(chǎn)效率，人們積極地尋求在各處理工序中縮短間歇時(shí)間的方法。在直線地輸送工件(基板)來進(jìn)行處理的方式的情況下，進(jìn)行如下的配置在進(jìn)行 成膜等處理的處理室的前后設(shè)置負(fù)載鎖定室(load lock chamber)，在輸入側(cè)的負(fù)載鎖定 室中，在與處理室分隔的狀態(tài)下輸入工件之后，通過真空排氣將其輸入至處理室，在輸出側(cè) 的負(fù)載鎖定室中，將從處理室輸出的工件在與處理室分隔的狀態(tài)下在負(fù)載鎖定室中放氣后 輸出。也就是說，從處理裝置的一側(cè)朝向另一側(cè)方向輸送工件(基板)來進(jìn)行處理。專利文獻(xiàn)1 日本特開2002-270880號公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2000-208587號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
如上所述，在直線輸送工件實(shí)施所需處理的處理裝置的情況下，處理室中的處理 時(shí)間十分長的情況下處理室中的處理時(shí)間會(huì)限制生產(chǎn)性，但在與負(fù)載鎖定室中的工件的輸 入、輸出操作所需的時(shí)間相比，處理室中的處理時(shí)間較短的情況下，工件的輸入、輸出操作 限制生產(chǎn)性。例如，在太陽能電池板的制造工序中，存在在表面形成防反射膜的工序，該成膜所 需的時(shí)間為20 50秒左右。因此，當(dāng)對負(fù)載鎖定室進(jìn)行真空排氣的時(shí)間或放氣時(shí)間比這 個(gè)處理時(shí)間長時(shí)，工件的輸入、輸出所需的時(shí)間限制生產(chǎn)性。為了提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，近年來開始采用使用更大塊的工件來進(jìn)行處理、或一 次處理更多的工件(基板)的方法。在這樣的處理方式的情況下，處理室中的處理時(shí)間雖 未改變，但由于負(fù)載鎖定室變大，所以無法避免負(fù)載鎖定室的真空排氣、放氣所要的時(shí)間變 長。在這種情況下，存在因工件的輸入、輸出操作所需的時(shí)間而制約產(chǎn)品的生產(chǎn)效率的問 題。本發(fā)明為了解決上述問題而提出，其目的在于提供一種可高效地進(jìn)行向處理室輸 入、輸出工件的操作、且可高效地處理工件的處理裝置及處理方法。本發(fā)明涉及的處理裝置具有設(shè)置有第一供給排出口和第二供給排出口的處理室， 所述第一供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的工件的輸入以及處理后的 工件的輸出，所述處理裝置的特征在于，包括第一輸送機(jī)構(gòu)，經(jīng)由所述第一供給排出口，進(jìn) 行將未處理的工件輸入至所述處理室的操作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作；第二輸送機(jī)構(gòu)，經(jīng)由所述第二供給排出口，進(jìn)行將未處理的工件輸入至所述處理室的操作和 從所述處理室輸出處理后的工件的操作；交換單元，將通過所述第一輸送機(jī)構(gòu)輸入至所述 處理室并進(jìn)行了處理的工件轉(zhuǎn)移至所述第二輸送機(jī)構(gòu)，并將通過所述第二輸送機(jī)構(gòu)輸入至 所述處理室并進(jìn)行了處理的工件轉(zhuǎn)移至第一輸送機(jī)構(gòu)；以及控制部，控制所述第一輸送機(jī) 構(gòu)、所述第二輸送機(jī)構(gòu)和所述交換單元，并交替進(jìn)行所述第一供給排出口和所述第二供給 排出口中的工件的供給排出操作。此外，本發(fā)明涉及的處理方法中，使用設(shè)置有第一供給排出口與第二供給排出口 的處理室對工件進(jìn)行處理，所述第一供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的 工件的輸入以及處理后的工件的輸出，所述處理方法的特征在于，所述處理方法配合所述 處理室中的工件的處理操作，通過交替進(jìn)行以下操作來處理工件從所述第一供給排出口 向所述處理室輸入未處理的所述工件并將在所述處理室中處理后的工件從所述第二供給 排出口輸出的操作；以及從所述第二供給排出口向所述處理室輸入未處理的工件并將在所 述處理室中處理后的工件從所述第一供給排出口輸出的操作。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明涉及的處理裝置及處理方法，能高效地輸送工件，此外，通過交替地從 第一供給排出口與第二供給排出口向處理室輸入工件的方法，從而能使各進(jìn)出口中工件的 供給操作所需的時(shí)間有富余，即使在處理室中的處理時(shí)間較短的情況下也能容易地供給工 件加以處理。


圖1是表示本發(fā)明涉及的處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的說明圖。圖2是表示本發(fā)明涉及的處理裝置的結(jié)構(gòu)例的俯視圖。圖3是表示支承托盤的承載體的結(jié)構(gòu)的圖2的A-A線截面圖。圖4是表示承載體與小齒輪的配置關(guān)系的圖2的B-B線截面圖。圖5是向處理室輸入承載體的狀態(tài)的俯視圖。圖6是表示承載體、升降桿、托盤、升降臺的位置關(guān)系的圖2的C-C線位置的側(cè)視 圖。圖7是表示處理裝置的動(dòng)作的時(shí)序圖。圖8是表示本發(fā)明涉及的處理裝置的其他結(jié)構(gòu)例的俯視圖。圖9是處理裝置的其他結(jié)構(gòu)例的正視圖。圖IOA是托盤的俯視圖，圖IOB是托盤的側(cè)視圖。圖11是表示處理室內(nèi)中的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖12是表示使托盤上升至處理位置后的狀態(tài)的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式以下根據(jù)附圖來說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。(處理裝置的整體結(jié)構(gòu)及其作用)圖1示出本發(fā)明涉及的處理裝置的整體結(jié)構(gòu)。此處理裝置在處理室10的兩側(cè)以 夾著處理室10的配置的方式配置第一負(fù)載鎖定室12與第二負(fù)載鎖定室14，串聯(lián)配置處理室整體。在第一負(fù)載鎖定室12的端部、第一負(fù)載鎖定室12與處理室10之間的分隔部、處 理室10與第二負(fù)載鎖定室14的分隔部、第二負(fù)載鎖定室14的端部上分別設(shè)置有閘閥16a、 16b、16c、16d。對第一負(fù)載鎖定室12與第二負(fù)載鎖定室14分別附加設(shè)置有真空裝置18、19，來進(jìn) 行真空排氣以及放氣(air release)操作。對處理室10附加設(shè)置控制供給成膜用氣體、成 膜等處理的處理控制部20。此外，處理室10中的處理內(nèi)容并不僅限于成膜處理。另外，附 加設(shè)置作為處理裝置整體的控制部22來進(jìn)行工件(work)的輸送控制、閘閥16a 16d的 開閉控制、真空裝置18、19的驅(qū)動(dòng)控制、處理控制部20的控制等。圖1中示出了本發(fā)明的處理裝置中的特征性工件輸送方式。首先，參考圖1來說 明本發(fā)明中的工件的處理方法。本發(fā)明的處理裝置中的特征性結(jié)構(gòu)是處理裝置的一端部與另一端部雙方是工件 的輸入口也是輸出口，換句話說，在處理室10上設(shè)置第一供給排出口與第二供給排出口兩 個(gè)工件供給排出口，第一供給排出口與第二供給排出口兩者用于工件的輸入與輸出。也就 是說，從第一供給排出口輸入到處理室10的工件在處理室中被處理后從第二供給排出口 輸出，相反地，從第二供給排出口輸入到處理室10的工件在處理后從第一供給排出口輸 出O在圖1中，在處理裝置的一端側(cè)即第一負(fù)載鎖定室12側(cè)，首先將未處理的工件30 輸入至第一負(fù)載鎖定室12，在第一負(fù)載鎖定室12中被真空排氣，然后，被輸入至處理室10， 在處理室10中實(shí)施所需的處理。處理后的工件30a被輸入至第二負(fù)載鎖定室14，放氣，從 處理裝置輸出。另一方面，從處理裝置的另一端側(cè)即第二負(fù)載鎖定室14側(cè)也將未處理的工件32 輸入至第二負(fù)載鎖定室14，并從第二負(fù)載鎖定室14輸入至處理室10，實(shí)施規(guī)定的處理。處 理后的工件3 被輸入至第一負(fù)載鎖定室12，放氣，并從處理裝置輸出。此外，雖然為了說 明工件的操作，以從處理裝置的一側(cè)供給工件30，從另一側(cè)供給工件32的情況為例進(jìn)行了 說明，但工件30、32是同一制品。如上所述，雖然在本裝置中將未處理的工件30、32分別從處理裝置的一側(cè)與另一 側(cè)輸入并處理，但是此時(shí)，在處理室10與第一負(fù)載鎖定室12之間、處理室10與第二負(fù)載鎖 定室14之間轉(zhuǎn)移工件的操作是使兩個(gè)工件以一次交叉的方式輸送，上述這點(diǎn)是特征點(diǎn)。也就是說，將在第一負(fù)載鎖定室12與處理室10之間將未處理的工件30輸入處理 室10的操作、與將處理后的工件3 從處理室10輸出至第一負(fù)載鎖定室12的操作設(shè)定作 為一步操作。第二負(fù)載鎖定室14與處理室10之間也是同樣的。將處理后的工件30a從處理室 10輸出至第二負(fù)載鎖定室14的操作、與從第二負(fù)載鎖定室14將未處理的工件32輸入處理 室10的操作設(shè)定作為一步操作。如上所述，以更換方式輸送未處理的工件30、32與處理完畢的工件32a、30a的操 作具體通過以下方法來實(shí)現(xiàn)，即、構(gòu)成為在輸送工件的承載體中設(shè)置上下兩層支承架，且 能在上層與下層支承架上各自支承工件，并且，將未處理的工件30、32與處理完畢的工件 32a、30a分別放置在不同的支承架上。將在后面對承載體的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行描述。
在從第一負(fù)載鎖定室12將工件30輸入至處理室10的操作完畢的狀態(tài)下，將處理 完畢的工件3 輸出至第一負(fù)載鎖定室12并關(guān)閉閘閥16b，對第一負(fù)載鎖定室12進(jìn)行放 氣，然后，從第一負(fù)載鎖定室12輸出處理完畢的工件32a。在輸出處理完畢的工件3 后， 將后續(xù)的未處理的工件30裝載在承載體上，并進(jìn)行下次的工件30的供給操作。在第二負(fù) 載鎖定室14中也是同樣的，通過向處理室10輸入未處理的工件32，并輸出處理后的工件 30a的操作，從而在第二負(fù)載鎖定室14留下處理后的工件30a，然后關(guān)閉閘閥16c，對第二負(fù) 載鎖定室14放氣，從第二負(fù)載鎖定室14輸出處理后的工件30a。接下來，將后續(xù)的未處理 的工件32支承在承載體上，進(jìn)行下次的工件32的供給操作。這樣，從處理裝置的一側(cè)將未處理的工件30輸入至處理裝置，通過處理裝置后從 另一側(cè)輸出處理后的工件30a，此外，從處理裝置的另一側(cè)將未處理的工件32輸入至處理 裝置，通過處理裝置從一方側(cè)輸出處理后的工件32a。在此處理操作中，由于交替地進(jìn)行從第一負(fù)載鎖定室12向處理室10供給未處理 工件30的操作、與從第二負(fù)載鎖定室14向處理室10供給未處理的工件32的操作并處理 工件30、32，所以如果從處理裝置的一個(gè)供給側(cè)來看的話，在處理室10中每進(jìn)行兩次處理 只需供給一次工件即可。也就是說，與對處理室10中的每次處理操作都供給工件的現(xiàn)有方 法相比，用于供給準(zhǔn)備工件的時(shí)間被延長至兩倍。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的處理方法，即使在處理室10中處理時(shí)間較短的情況 下，供給工件的時(shí)間上也有富余，且可回避由于供給工件所需的時(shí)間而限制處理裝置的間 隔時(shí)間(tact time)，從而能使處理室10高效地運(yùn)作以進(jìn)行生產(chǎn)處理。(處理裝置的結(jié)構(gòu))圖2示出作為本發(fā)明涉及的處理裝置的例子，示出了構(gòu)成為在太陽能電池板的表 面成膜防止反射膜的裝置的例子。與上述的實(shí)施方式相同，本實(shí)施方式的處理裝置構(gòu)成為以夾著處理室10配置的 方式串聯(lián)配置第一負(fù)載鎖定室12與第二負(fù)載鎖定室14，并分別與第一負(fù)載鎖定室12和第 二負(fù)載鎖定室14相鄰接地配置第一進(jìn)出口 40與第二進(jìn)出口 42。第一負(fù)載鎖定室12及第二負(fù)載鎖定室14可通過關(guān)閉閘閥16a 16d變?yōu)榕c外部 分隔的封閉空間。在第一負(fù)載鎖定室12及第二負(fù)載鎖定室14上分別連接有真空裝置(未 圖示)。在本處理裝置中，在托盤50上支承工件80，并將工件80與托盤50 —起輸送至處 理室10，從而進(jìn)行所需的處理。為了便于說明，在圖2中示出向第一負(fù)載鎖定室12、第二負(fù)載鎖定室14、處理室10 及第一進(jìn)出口 40、第二進(jìn)出口 42移動(dòng)托盤50的狀態(tài)。托盤50被形成為格子狀，使其能支承以4X4的排列配置的16個(gè)工件80。此外， 在只有一個(gè)工件卻是大塊工件的情況下也能進(jìn)行輸送而不用托盤。本實(shí)施方式的處理裝置中的特征性的結(jié)構(gòu)之一在于，輸送托盤50的承載體M被 設(shè)置成能在上位置與下位置的上下分離的位置上支承托盤50。圖3示出從A-A線截面方向觀察在第一進(jìn)出口 40中支承托盤50的承載體M的 結(jié)構(gòu)的狀態(tài)。將承載體M形成為其長度與托盤50的前后方向的寬度大致相同且側(cè)面形狀 為“·· ”形的條狀。在承載體M上設(shè)置上部架55與下部架56作為支承與托盤50的輸送方向平行的兩側(cè)緣的支承架。在上部架陽與下部架56分別支承托盤50時(shí)，在上下方向 上以隔開互不干涉的間隔的方式設(shè)置托盤50。工件80在被托盤50支承的狀態(tài)下與承載體M —起移動(dòng)至第一負(fù)載鎖定室12、處 理室10、第二負(fù)載鎖定室14。因此，通過較窄地設(shè)定上部架55與下部架56之間的間隔，從 而可縮小第一負(fù)載鎖定室12、第二負(fù)載鎖定室14的內(nèi)部容積，可縮短真空排氣等動(dòng)作所需 要的時(shí)間，并可縮短用于輸送的準(zhǔn)備時(shí)間。承載體M在通過齒軌/小齒輪結(jié)構(gòu)維持在水平高度位置的狀態(tài)下，以可沿輸出輸 入方向往復(fù)移動(dòng)的方式被支承。在承載體M的下部架56的下面，以跨越承載體M的側(cè)緣的全長的方式形成有齒 軌(rack) 56a、在承載體M的下面配置有與齒軌56a結(jié)合的小齒輪58。齒軌/小齒輪結(jié)構(gòu) 適于使承載體M的水平高度位置保持為一定以進(jìn)行輸送的操作，具有能正確地達(dá)到輸送 位置的優(yōu)點(diǎn)。但輸送承載體M的結(jié)構(gòu)并不僅限于齒軌/小齒輪結(jié)構(gòu)。如圖2所示，小齒輪58配置為在處理裝置中的承載體M的輸送方向上等間隔地、 具體地說在承載體M的側(cè)緣上的三個(gè)位置上支承承載體M。作為整個(gè)處理裝置，小齒輪 58被配置在同一高度位置，通過小齒輪58與承載體M的齒軌56a結(jié)合，從而在各室之間一 邊轉(zhuǎn)移承載體討一邊移動(dòng)。在小齒輪58上連接有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)(未圖示)，其用于控制各 小齒輪的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)并控制承載體M的輸送。在圖3中，在承載體M的側(cè)方位置配置有構(gòu)成支承托盤50的支承單元的升降桿 57。在升降桿57的上端部設(shè)置有與托盤50的下面結(jié)合的鉤子57a。在升降桿57上，在鉤 子57a旋轉(zhuǎn)至托盤50的內(nèi)側(cè)并與托盤50結(jié)合的位置、與鉤子57a旋轉(zhuǎn)至托盤50側(cè)方的退 避位置且不與托盤50結(jié)合的位置之間，附加設(shè)置有使其繞升降桿57的軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)結(jié) 構(gòu)(未圖示)。圖3示出在將升降桿57下降至下位置并將鉤子57a旋轉(zhuǎn)至托盤50的內(nèi)側(cè)的狀態(tài) 下，鉤子57a位于承載體M的上部架55與下部架56的中間的高度位置的狀態(tài)。在承載體 54上設(shè)置切口 Ma，以便當(dāng)鉤子57a旋轉(zhuǎn)時(shí)承載體M與鉤子57a不干涉，且當(dāng)鉤子57a超 過上部架55并上升至上位置時(shí)承載體M與鉤子57a不干涉。圖3示出在承載體M的下部架56支承托盤50的狀態(tài)。在下部架56上支承托盤 50的狀態(tài)相當(dāng)于在托盤50上放置未處理的工件80，在承載體M上支承托盤50并向第一 負(fù)載鎖定室12輸入工件80的狀態(tài)。并且，在圖3中，在承載體M的上部架55上支承托盤50的狀態(tài)相當(dāng)于在托盤50 上支承處理后的工件80a的狀態(tài)。也就是說，承載體M的下部架56是未處理的工件80的供給位置，承載體M的上 部架55是處理后的工件80a的輸出位置。圖4是圖2中B-B線位置中的、承載體M與小齒輪58的配置位置關(guān)系的側(cè)視圖。 圖4是支承工件80的托盤50與承載體M —起被輸入的狀態(tài)。承載體M與小齒輪58嚙 合并被支承，通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)小齒輪58被水平地輸入第一負(fù)載鎖定室12。第一負(fù)載鎖定室 12在輸入未處理的工件80時(shí)被進(jìn)行真空排氣處理，在從處理室10輸出處理后的工件80a 時(shí)進(jìn)行放氣處理。承載體M的上部架55支承處理后的工件80a。在第一負(fù)載鎖定室12的 側(cè)面設(shè)置被閘閥16b封閉的開口部161。
圖5是將支承托盤50的承載體M輸入至處理室10的狀態(tài)的俯視圖。用承載體 54支承與托盤50的輸送方向平行的兩側(cè)緣，并由小齒輪58從下面?zhèn)戎С谐休d體M。在承 載體M上設(shè)置切口 Ma，設(shè)置在升降桿57上的鉤子57a在位于承載體M的外側(cè)的退避位 置與旋轉(zhuǎn)至承載體M的內(nèi)側(cè)的結(jié)合位置之間自由旋轉(zhuǎn)，且能超過上部架55移動(dòng)至上位置。另外，承載體M從第一負(fù)載鎖定室12移動(dòng)至處理室10后，與支承了處理后的工 件80a的托盤一起返回移動(dòng)至第一負(fù)載鎖定室12。配置在處理室10中央的升降臺70被設(shè) 置為可在下位置與上位置之間升降。圖6是圖2的C-C線位置上的承載體M、升降桿、托盤50及升降臺70的位置關(guān)系 的側(cè)視圖。升降臺70構(gòu)成移動(dòng)單元，其使通過承載體M輸入的托盤50從下部架56上升 至進(jìn)行成膜處理的上位置并加以支承。升降桿57構(gòu)成移載單元，其在承載體M的上部架55的稍上面從升降臺70接受 在上位置被處理的托盤50，然后放置在承載體M的上部架55。在上述說明中，已經(jīng)對配置在圖2所示的處理裝置的一側(cè)的第一進(jìn)出口 40與第一 負(fù)載鎖定室12進(jìn)行了說明，配置在處理裝置的另一側(cè)的第二進(jìn)出口 42與第二負(fù)載鎖定室 14的結(jié)構(gòu)也與第一進(jìn)出口 40及第一負(fù)載鎖定室12中的結(jié)構(gòu)完全相同。在第一進(jìn)出口 40、第二進(jìn)出口 42上配置有用于升降托盤50的升降臺72。升降臺 72在承載體M的上部架55與下部架56的中間位置、與承載體M的下位置之間被升降驅(qū) 動(dòng)。另外，在第一進(jìn)出口 40、第二進(jìn)出口 42上配置有沿與承載體M的輸送方向正交的 方向延伸的導(dǎo)軌74，并設(shè)置有沿導(dǎo)軌74進(jìn)行進(jìn)退移動(dòng)的移動(dòng)框75。在移動(dòng)框75上，與工 件80在托盤50中的一列上的配置數(shù)及配置位置相符合地設(shè)置吸附支承工件80的吸附墊 76。吸附墊76與空氣吸附裝置(未圖示)連接。在導(dǎo)軌74的端部側(cè)，使與工件80在托盤50上的配置位置相符合地配置有排列并 收容未處理的工件80的工件的供給部D、以及收容處理后的工件80a的收容部E。(處理裝置的動(dòng)作)接下來，主要參考圖2來說明通過本實(shí)施方式的處理裝置來處理工件80的操作。首先，在第一進(jìn)出口 40，放置有未處理的工件80的托盤50在被承載體M的下部 架56支承的狀態(tài)下(圖3)開始動(dòng)作。承載體M的上部架55處于空置狀態(tài)。在開放閘閥16a并封閉閘閥16b的狀態(tài)下，將托盤50與承載體M —起輸入第一 負(fù)載鎖定室12。通過上述的齒軌/小齒輪機(jī)構(gòu)進(jìn)行此輸入操作。在向第一負(fù)載鎖定室12輸入支承托盤50的承載體討后，封閉閘閥16a并對第一 負(fù)載鎖定室12進(jìn)行真空排氣。在第一負(fù)載鎖定室12達(dá)到規(guī)定的真空度且處理室10中的處理結(jié)束時(shí)，打開閘閥 16b,并將放置了工件80的托盤50與承載體M —起輸入處理室10。在處理室10中，通過作為移動(dòng)單元的升降臺70將托盤50支承在上位置的狀態(tài)下 進(jìn)行成膜處理，成膜處理完畢后，下降升降臺70，此時(shí)將托盤50從升降臺70轉(zhuǎn)移至作為移 載單元的升降桿57。如圖6所示的中心線(p-p'線)的右半部所示，在升降桿57的鉤子 57a位于承載體M的上部架55的上位置時(shí)，轉(zhuǎn)移托盤50，并變?yōu)榈却休d體M進(jìn)入的狀 態(tài)。升降臺70下降至承載體M的下位置。
在處理室10中的成膜處理后，托盤50與承載體M —起從第一負(fù)載鎖定室12進(jìn) 入處理室10的狀態(tài)變?yōu)槿鐖D6所示在承載體M的下部架56上支承放置有未處理的工件 80的托盤50、在承載體M的上面通過升降桿57支承支承有處理后的工件80a的托盤50 的狀態(tài)。升降桿57由此狀態(tài)下降，將放置有處理后的工件80a的托盤50從升降桿57轉(zhuǎn)移 至承載體M的上部架陽。升降桿57下降至下位置后，在承載體M移動(dòng)時(shí)，向外旋轉(zhuǎn)鉤子 57a使得鉤子57a與承載體M互不干涉。同時(shí)，上升位于承載體M的下位置的升降臺70，并將被下部架56支承的托盤50 提升至下部架56與上部架55的中間位置并在該位置停止。在此狀態(tài)下，使承載體M從處理室10移動(dòng)至第一負(fù)載鎖定室12。在進(jìn)行這個(gè)返 回移動(dòng)操作時(shí)，在承載體討的上部架陽上支撐有放置了處理后的工件80a的托盤50，并從 下部架56取出放置了未處理的工件80的托盤50，下部架56變?yōu)榭罩梦恢谩Ｔ谔幚硎?0中，托盤50從被升降臺70支承在中間位置的狀態(tài)提升至進(jìn)行成膜處 理的上位置，并在上位置進(jìn)行所需的成膜處理。在本處理裝置中，通過從第二負(fù)載鎖定室14供給放置了未處理的工件80的托盤 50來進(jìn)行從第一負(fù)載鎖定室12向處理室10供給放置了未處理的工件80的托盤50的操作 的后續(xù)供給操作。從第二負(fù)載鎖定室14向處理室10供給新放置了未處理的工件80的托盤50，并將 放置了處理后的工件80a的托盤50供給至承載體M的操作與上述的方法完全相同。在這 種情況下，從處理室10向第二負(fù)載鎖定室14輸出的托盤50是通過先前的操作從第一負(fù)載 鎖定室12向處理室10供給并進(jìn)行處理的支承工件80a的托盤50。也就是說，從第一負(fù)載鎖定室12供給的放置了工件80的托盤50經(jīng)過處理室10 中的處理操作后被輸出至第二負(fù)載鎖定室14，并從第二負(fù)載鎖定室14向處理室10供給的 放置了工件80的托盤50在處理后被輸出至第一負(fù)載鎖定室12。向第一負(fù)載鎖定室12輸出的放置了處理后的工件80a的托盤50在封閉閘閥16b 后，對第一負(fù)載鎖定室12放氣，從第一負(fù)載鎖定室12輸出到第一進(jìn)出口 40。在第一進(jìn)出口 40，對區(qū)別于從第一負(fù)載鎖定室12輸出的托盤50的其他托盤50進(jìn) 行預(yù)先放置未處理的工件80的操作。該操作通過以下方式進(jìn)行在作為放置單元的升降臺 72支承托盤50的狀態(tài)下，通過從工件80的供給部D以每列四次的方式向托盤50供給工件 80。沿著導(dǎo)軌74使移動(dòng)框75在供給部D與托盤50上之間移動(dòng)，并通過吸附墊76進(jìn)行吸 附支承，從而移載工件80。在將托盤50與承載體M —起從第一負(fù)載鎖定室12輸出至第一進(jìn)出口 40時(shí)，供 給用的放置了未處理的工件80的托盤50被升降臺72支承在承載體M的上部架55與下 部架56的中間的高度。因此，通過承載體M移動(dòng)至第一進(jìn)出口 40的動(dòng)作，放置了未處理 的工件80的托盤50進(jìn)入承載體M的上部架55與下部架56之間。在此狀態(tài)下，使升降臺 72移動(dòng)至下位置，從升降臺72向承載體M的下部架56轉(zhuǎn)移新的托盤50。另一方面，對于向第一進(jìn)出口 40輸出的被承載體M的上部架55支承的放置了處 理后的工件80的托盤50，在承載體M移動(dòng)至導(dǎo)軌74的側(cè)方位置時(shí)，使升降桿57的鉤子 57a進(jìn)入上部架55與下部架56的中間位置，使升降桿57上升并在與承載體M分離的上方位置支承托盤50。由于通過此操作在承載體M上僅在下部架56支承托盤50，所以在此狀態(tài)下，將托 盤50與承載體M —起輸入第一負(fù)載鎖定室12。向第一負(fù)載鎖定室12輸入托盤50后的操 作如上所述。由于在被升降桿57支承的托盤50上放置處理后的工件80a，所以再使升降桿57 下降至工件80a的移載位置并將托盤50從升降桿57轉(zhuǎn)移至升降臺72。在此狀態(tài)下，使移 動(dòng)框75在導(dǎo)軌74上進(jìn)行往復(fù)移動(dòng)并將處理后的工件80a從托盤50移載至收容部E。從托盤50將處理后的工件80a移載至供給部E后，接下來，從工件80的供給部D 將未處理的工件80移載至托盤50。在托盤50與供給部D及收容部E之間，移載未處理的工件80與處理后的工件80a 時(shí)的托盤50的高度設(shè)置在承載體M的上部架55與下部架56的中間位置，并向托盤50移 載工件80，完成后，通過從第一負(fù)載鎖定室12輸出承載體M來在承載體M的上部架55與 下部架56之間插入托盤50。在將托盤50移動(dòng)至處理室10到返回至第一進(jìn)出口 40期間，進(jìn)行向托盤50替換 裝載未處理的工件80與處理后的工件80a的操作即可。第二進(jìn)出口 42中的工件80、80a的移載操作也與第一進(jìn)出口 40中的移載操作完 全相同。也就是說，通過向第二進(jìn)出口 42輸出承載體M的操作，將放置了未處理的工件80 的新托盤50轉(zhuǎn)移至承載體M的下部架56并輸送至第二負(fù)載鎖定室14，在第二進(jìn)出口 42 將處理后的工件80a從被升降桿57支承并殘留的托盤50移載至收容部E，接下來從供給部 D將未處理的工件80移載至托盤50并準(zhǔn)備下次的供給操作。(時(shí)序圖)圖7是有關(guān)本實(shí)施方式的處理裝置的動(dòng)作的時(shí)序圖。圖7中示出從第一進(jìn)出口 40 與第二進(jìn)出口 42開始輸入工件的時(shí)刻開始的動(dòng)作。實(shí)線箭頭表示從第一進(jìn)出口 40供給的 工件，虛線箭頭表示從第二進(jìn)出口 42供給的工件。首先，從第一進(jìn)出口 40向第一負(fù)載鎖定室12輸入工件，對第一負(fù)載鎖定室12真 空排氣后，輸入處理室10并開始處理。另一方面，從第二進(jìn)出口 42延遲若干定時(shí)(timing)并向第二負(fù)載鎖定室14輸入 工件，對第二負(fù)載鎖定室14真空排氣，并準(zhǔn)備從第二負(fù)載鎖定室14向處理室10輸送工件。一旦處理室10中的工件處理結(jié)束，將處理后的工件與從第二負(fù)載鎖定室14供給 的工件進(jìn)行交換并向第二負(fù)載鎖定室14輸出。實(shí)線箭頭與虛線箭頭的交叉表示將處理后 的工件從處理室10輸出并將未處理的工件輸入處理室10的操作。由第二負(fù)載鎖定室14供給的工件在處理室10內(nèi)開始處理。另一方面，從處理室10輸出至第二負(fù)載鎖定室14的處理后的工件通過第二負(fù)載 鎖定室14與第二進(jìn)出口 42之間的交換裝載操作被收容至第二進(jìn)出口 42。此外，通過此操 作，第二進(jìn)出口 42進(jìn)入輸入后續(xù)工件的準(zhǔn)備狀態(tài)。另一方面，先前從第二負(fù)載鎖定室14供給至處理室10的工件在處理室10內(nèi)處理 后與從第一負(fù)載鎖定室12輸入的工件進(jìn)行交換。通過此交換操作在處理室10中留下從第 一負(fù)載鎖定室12輸入的工件，并將在處理室10中處理的工件轉(zhuǎn)移至第一負(fù)載鎖定室12。
轉(zhuǎn)移至第一負(fù)載鎖定室12的工件通過第一進(jìn)出口 40與第一負(fù)載鎖定室12之間 的交換裝載操作被收容至第一進(jìn)出口 40。此外，通過此操作，第一進(jìn)出口 40變?yōu)檩斎牒罄m(xù) 工件的準(zhǔn)備狀態(tài)。如上所述，在第一進(jìn)出口 40與第二進(jìn)出口 42中，使工件的供給定時(shí)錯(cuò)開每個(gè)半周 期地依次供給工件，此外同時(shí)接受處理完畢的工件。從圖7可知，從第一進(jìn)出口 40供給的工 件被輸出至第二進(jìn)出口 42，相反地，從第二進(jìn)出口 42供給的工件被輸出至第一進(jìn)出口 40。圖示例的時(shí)序圖是設(shè)定為處理室10中的處理時(shí)間為25秒且交換操作是10秒的 例子。在此情況下，處理室10的周期時(shí)間變?yōu)?5秒。在只從一個(gè)方向?qū)μ幚硌b置供給工 件的現(xiàn)有方法的情況下，為了將處理室10的周期時(shí)間維持在35秒，必須每35秒就準(zhǔn)備供 給下一工件。與此相對，在本實(shí)施方式的處理裝置的情況下，在第一進(jìn)出口 40及第二進(jìn)出 口 42，每70秒進(jìn)行供給下一工件的準(zhǔn)備即可。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的處理裝置的結(jié)構(gòu)，由于能將供給工件所需的時(shí)間延 長至兩倍，因而能有效地被用于處理室10中的處理時(shí)間(周期時(shí)間)縮短且工件的供給操 作超出處理室10的周期時(shí)間的情況。在對本實(shí)施方式的太陽能電池用板的表面成膜防止 反射膜的情況下，由于膜厚為0. 8 μ m左右所以成膜所需時(shí)間為20秒 50秒左右。在這樣 的短時(shí)間的處理的情況下，本發(fā)明的處理裝置的結(jié)構(gòu)特別有效，且對提高生產(chǎn)效率極為有 效。如上所述，本實(shí)施方式的處理裝置中使用的輸送系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)簡單，無需復(fù)雜的結(jié) 構(gòu)，在這一點(diǎn)上也有利。此外，不一定限于處理室10中的處理時(shí)間短的情況，也能有效地利用于制造供給 工件的操作需要比較長時(shí)間這樣的產(chǎn)品的情況。通過使供給工件的周期時(shí)間有富余，從而 能可靠且穩(wěn)定地供給工件，從而可進(jìn)行可靠性高的處理。此外，能使用容量小且處理性能低 的真空裝置，并可減少裝置的制造成本。另外，在上述實(shí)施方式中，示出了作為處理裝置的一例，具體的結(jié)構(gòu)可以有各種變 化。例如雖然在上述實(shí)施方式中承載體M被形成為條狀體，但承載體M的方式能進(jìn)行各 種變形。此外，雖然對承載體M具有通過齒軌/小齒輪機(jī)構(gòu)進(jìn)行輸送的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說明， 但并不僅限于此。此外，也可適當(dāng)?shù)剡x擇升降桿57、升降臺70的方式、第一進(jìn)出口 40及第 二進(jìn)出口 42中的工件80的供給、輸出結(jié)構(gòu)。(處理裝置的其他結(jié)構(gòu)例)圖8示出了上述處理裝置的其他結(jié)構(gòu)例。本實(shí)施方式的處理裝置也與上述處理裝 置相同，構(gòu)成為以夾著處理室10配置的方式配置了第一負(fù)載鎖定室12與第二負(fù)載鎖定室 14。此外，與第一負(fù)載鎖定室12、第二負(fù)載鎖定室14鄰接地，在第一負(fù)載鎖定室12、第二負(fù) 載鎖定室14之間配置有進(jìn)出工件80的第一進(jìn)出口 40與第二進(jìn)出口 42。在圖8中，對與上 述處理裝置相同的結(jié)構(gòu)、例如閘閥16a 16d、升降臺70、72等標(biāo)注了相同的標(biāo)號。在本實(shí)施方式的處理裝置中，處理工件80時(shí)托盤50的基本輸送動(dòng)作與上述處理 裝置中的托盤50的輸送動(dòng)作相同。也就是說，從第一供給排出口向處理室10輸入的未處 理的工件80在處理室10中被處理后從處理室10的第二供給排出口輸出，相反地，從第二 供給排出口輸入到處理室10的未處理的工件80在處理室10中被處理后從第一供給排出 口輸出。也就是說，支承未處理的工件80的托盤50與支承處理后的工件80的托盤50在通過處理室10時(shí)，一邊交叉移動(dòng)一邊進(jìn)行輸入輸出。本實(shí)施方式的處理裝置中的特征性結(jié)構(gòu)在于，與在上述處理裝置(圖2)中利用承 載體M輸送托盤50的情況相對，在本處理裝置中，上下兩層地配置輸送輥?zhàn)鳛橥斜P50的 輸送機(jī)構(gòu)，而不使用承載體M，將未處理的工件80與處理后的工件80向交叉方向輸送并給 排。圖9示出從正面方向觀察處理裝置的狀態(tài)。如圖9所示，跨越整個(gè)第一進(jìn)出口 40、 第一負(fù)載鎖定室12、處理室10、第二負(fù)載鎖定室14、第二進(jìn)出口 42，分上下兩層地配置輸送 輥90a 94b。在圖9中示出上下的輸送輥中的前側(cè)輸送輥90a、90b、92a、92b、94a、94b。下層輸送輥90a、92a、Ma與上層輸送輥90b、92b、94b—起以使輸送高度位置為水 平的方式設(shè)定高度位置。在圖8中示出了上下的輸送輥中的下層輸送輥90a、91a、92a、93a、94a、95a。與前 側(cè)輸送輥90a、92a、Ma相對且以隔開托盤50的寬度方向的間隔的方式在里側(cè)配置輸送輥 91a、93a、95a。上層輸送輥90b 95b也與下層輸送輥90a 9 相同地配置。通過作為輸送輥的驅(qū)動(dòng)部的電動(dòng)機(jī)M2，完全同步地旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)在第一進(jìn)出口 40與 第一負(fù)載鎖定室12上配置的輸送輥90a、91a、90b、91b。在本實(shí)施方式中，在第一進(jìn)出口 40與第一負(fù)載鎖定室12上分別配置的下層十二個(gè)輸送輥90a、91a連同上層十二個(gè)輸送輥 90b、9 Ib共二十四個(gè)輸送輥90a 91b被同步地旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。在處理室10中，配置在處理室10中的下層六個(gè)輸送輥92a、93a連同上層六個(gè)輸 送輥92b、93b (未圖示)共十二個(gè)輸送輥被同一電動(dòng)機(jī)Ml同步地驅(qū)動(dòng)。對于配置于第二進(jìn)出口 42與第二負(fù)載鎖定室14的下層與上層輸送輥9 9 共二十四個(gè)輸送輥也用同一電動(dòng)機(jī)M3同步地旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。電動(dòng)機(jī)Ml根據(jù)托盤50的輸送方向?qū)⑤斔洼佇D(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)至一方向與另一方向。為了使前側(cè)輸送輥90a與里側(cè)的輸送輥91a同步地旋轉(zhuǎn)，經(jīng)由共用驅(qū)動(dòng)軸連接前 側(cè)輸送輥90a之一與內(nèi)側(cè)的處于相對位置的輸送輥91a之一，對于其他的輸送輥90a、9Ia 經(jīng)由滑輪與共用驅(qū)動(dòng)軸連接即可。為了使下層輸送輥90a與上層輸送輥90b同步地旋轉(zhuǎn)，可以使安裝在下層輸送輥 90a的旋轉(zhuǎn)軸上的齒輪與安裝在上層輸送輥90b的旋轉(zhuǎn)軸上的齒輪嚙合安裝。由此，下層 與上層的輸送輥90a、90b相互向相反的方向旋轉(zhuǎn)，基于下層輸送輥90a、91a與上層輸送輥 90b,91b的托盤50的輸送方向(輸送朝向)相反。其他輸送輥9 9 也可同樣地連接。在本實(shí)施方式中，夾著處理室10配置的一方的下層輸送輥(90a、91a、92a、93a)與 上層輸送輥(90b、91b、92b、93b)構(gòu)成第一輸送機(jī)構(gòu)，另一方的下層輸送輥(92a、93a、94a、 95a)與上層輸送輥(92b、93b、94b、95b)構(gòu)成第二輸送機(jī)構(gòu)。此外，設(shè)置有控制驅(qū)動(dòng)這些輸 送輥的電動(dòng)機(jī)M1、M2、M3的控制部。圖10A、圖IOB示出在本實(shí)施方式的處理裝置中使用的托盤50的例子。圖IOA是 俯視圖，圖IOB是從側(cè)面方向觀察的圖(示出碳托盤(carbon tray) 50a的截面)。托盤50 包括放置工件80的碳托盤50a與安裝在碳托盤50a的兩側(cè)緣上的導(dǎo)軌50b。碳托盤50a上 設(shè)置放置工件(例如太陽能電池板)80的放置凹部50c。如圖IOB所示，一方的輸送輥90a使用具備凸緣901的輥體，托盤50的一方的導(dǎo)軌50b的下端緣由凸緣901引導(dǎo)，從而限定托盤50的輸送方向。另一方的輸送輥91a上未 設(shè)置凸緣，這是為了不妨礙在處理時(shí)加熱托盤50的熱膨脹。根據(jù)工件80來設(shè)定托盤50的結(jié)構(gòu)、大小等。在僅以平板狀大塊形成的工件的情 況下，可以不使用托盤50而僅用輸送輥90a、91a來支承工件加以輸送。對于其他的輸送輥 92a 95b也可同樣地構(gòu)成。另外，對于輸送輥的結(jié)構(gòu)，可以根據(jù)輸送工件的大小或方式等 來使用適宜結(jié)構(gòu)的輸送輥。圖11示出了處理室10中輸送輥92a、92b、93a、93b的安裝例。如上所述，下層輸 送輥9 與上層輸送輥92b通過與固定在各自的旋轉(zhuǎn)軸96a、96b上的齒輪97a、97b嚙合來連接。在本實(shí)施方式中，構(gòu)成為配置在處理室10的上層的輸送輥92b、93b能在托盤50 的寬度方向(與托盤50被輸送的方向正交的方向)移動(dòng)。在輸送輥92b、9!3b的旋轉(zhuǎn)軸96b、 96c上安裝有0形環(huán)等密封材料，旋轉(zhuǎn)軸96b、96d以真空密封在處理室10的間隔墻上的狀 態(tài)可沿軸線方向移動(dòng)。上層齒輪97b與旋轉(zhuǎn)軸96b中，旋轉(zhuǎn)軸96b的端部形成在花鍵軸98上，齒輪97b 與花鍵軸98被設(shè)置成能沿旋轉(zhuǎn)軸96b的軸線方向移動(dòng)且旋轉(zhuǎn)軸96b與齒輪97b能在圓周 方向上一體地旋轉(zhuǎn)。當(dāng)然，旋轉(zhuǎn)軸96b與齒輪97b的結(jié)合方法只要能沿軸線方向自如地移 動(dòng)且能在圓周方向上一體地旋轉(zhuǎn)的方法即可，并不限于使用花鍵軸的方法。旋轉(zhuǎn)軸96b與在軸線方向推動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸96b的驅(qū)動(dòng)部100相連接，旋轉(zhuǎn)軸96c與驅(qū) 動(dòng)部101連接并被沿軸線方向推動(dòng)。驅(qū)動(dòng)部100、101等構(gòu)成退避單元。另外，第一進(jìn)出口 40及第二進(jìn)出口 42中的上層輸送輥90b、91b、94b、95b也與圖 11所示相同，成為能在與托盤50的輸送方向正交的方向上移動(dòng)輸送輥90b、91b、94a、％b的 結(jié)構(gòu)。這些結(jié)構(gòu)與圖11所示的上層輸送輥92b、93b的結(jié)構(gòu)相同。(處理裝置的操作)接下來，對通過本實(shí)施方式的處理裝置處理工件80的動(dòng)作進(jìn)行說明。首先，在第一進(jìn)出口 40，放置了未處理的工件80的托盤50被放置在下層輸送輥 90a、91a 上。接著，驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)M2并將托盤50輸入至第一負(fù)載鎖定室12。在正常動(dòng)作下，向第 一負(fù)載鎖定室12輸入托盤50時(shí)，從第一負(fù)載鎖定室12向第一進(jìn)出口 40輸出支承了處理 后的工件80的托盤50。也就是說，在第一負(fù)載鎖定室12與第一進(jìn)出口 40之間同步進(jìn)行輸 入、輸出托盤50的操作。如上所述，由于下層輸送輥90a、91a與上層輸送輥90b、91b向相反方向旋轉(zhuǎn)，所以 通過電動(dòng)機(jī)M2來驅(qū)動(dòng)輸送輥，從而上層與下層托盤50向相反方向移動(dòng)，并可實(shí)現(xiàn)托盤50 的輸入、輸出操作。將第一負(fù)載鎖定室12輸入至托盤50后，關(guān)閉閘閥16a并對第一負(fù)載鎖定室12真 空排氣。由此，變?yōu)榭上蛱幚硎?0輸入未處理的工件80的狀態(tài)。如果前處理中有關(guān)已輸入至處理室10的工件80的處理完畢，則打開閘閥16b，同 步地驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)Ml與電動(dòng)機(jī)M2，向處理室10的下層輸送輥92a、9!3b輸入托盤(未處理工 件)50，從處理室10的上層輸送輥92b、93b向第一負(fù)載鎖定室12的上層輸送輥90b、91b轉(zhuǎn) 移托盤(處理后工件)50。
如果在下層與上層輸送輥間轉(zhuǎn)移托盤50，則關(guān)閉閘閥16b，并對第一負(fù)載鎖定 室12放氣并驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)M2，從第一負(fù)載鎖定室12向第一進(jìn)出口 40輸出托盤(處理后工 件)50，同時(shí)從第一進(jìn)出口 40向第一負(fù)載鎖定室12輸入托盤(未處理工件)50。將支承處 理后的工件80的托盤50通過上層輸送輥90b、91b輸出，并將支承未處理的工件80的托盤 50通過下層輸送輥90a、91a輸入。在處理室10與第一負(fù)載鎖定室12之間輸出輸入托盤50的操作時(shí)，處理室10的 升降臺70位于下層輸送輥92a、93a的下面。一旦托盤50輸入至處理室10，通過升降臺70 將托盤50提升至上層輸送輥92b、9!3b上面的處理位置。升降臺70及升降升降臺70的驅(qū) 動(dòng)部構(gòu)成升降單元。圖12示出通過升降臺70使托盤50上升至處理位置的狀態(tài)。通過升降臺70提升 托盤50時(shí)，使上層輸送輥92b、93b橫向退避，以使托盤50不干涉輸送輥92b、93b。通過驅(qū) 動(dòng)部100、101來進(jìn)行輸送輥92b、93b的移動(dòng)。在通過升降臺70將托盤50支承在上位置的狀態(tài)下對工件80實(shí)施所需的處理。在本實(shí)施方式中，與上述實(shí)施方式不同，不進(jìn)行從承載體M向升降臺70移載托盤 50這樣的操作。因此，如果向處理室10導(dǎo)入未處理的工件80，則立即關(guān)閉閘閥16b，可轉(zhuǎn)移 至通過升降臺70提升托盤50的操作。在等離子成膜處理中，從關(guān)閉閘閥16b到向處理室10供給氣體并使氣體環(huán)境常態(tài) 化需要10秒左右。因此，若在這一時(shí)間內(nèi)使升降臺70上升至處理位置，則移動(dòng)升降臺70 的時(shí)間不會(huì)影響周期時(shí)間。此外，在對工件80進(jìn)行成膜處理等后，通過使升降臺70直接裝載托盤50并在使 上層輸送輥92b、9!3b返回輸送位置(初始位置)的狀態(tài)下，下降升降臺70，從而可向上層 輸送輥92b、9!3b移載托盤50。在這種情況下，在進(jìn)行等離子處理后，為了從處理室10中排 出(清除)氣體而需要10秒左右。因此，在此時(shí)間內(nèi)將托盤50向上層輸送輥92b、9!3b移 載即可。輸送輥92b的旋轉(zhuǎn)軸96b通過花鍵軸98與齒輪97b結(jié)合，所以下層與上層輸送輥 92a、92b被維持在同步旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)。從負(fù)載鎖定室12輸入至處理室10的未處理的工件80在處理室10中被處理后， 被輸出至第二負(fù)載鎖定室14。在處理室10與第二負(fù)載鎖定室14之間輸出輸入托盤50的 操作與在處理室10與第一負(fù)載鎖定室12之間輸出輸入托盤50的操作相同。此外，第二負(fù) 載鎖定室14與第二進(jìn)出口 42之間的托盤50的輸出輸入操作也與第一負(fù)載鎖定室12與第 一進(jìn)出口 40之間的托盤50的輸出輸入操作相同。因此，從第一負(fù)載鎖定室12輸入至處理室10的工件80在處理后被輸出至第二負(fù) 載鎖定室14，相反地，從第二負(fù)載鎖定室14輸入至處理室10的工件80在處理后被輸出至 第一負(fù)載鎖定室12。也就是說，使未處理的工件80與處理后的工件80在處理室10中交叉 地移動(dòng)來進(jìn)行輸出輸入操作。第一進(jìn)出口 40或第二進(jìn)出口 42中，從被上層輸送輥90b、91b、94b、％b支承的托 盤50處通過吸附墊76吸附支承工件80，使移動(dòng)框75沿導(dǎo)軌74移動(dòng)，同時(shí)，最終在收容部 E收容處理后的工件80。隨后從供給部D向托盤50供給未處理的80，在通過升降臺72支承托盤50的狀態(tài)下，使上層輸送輥90b、91b、94b、％b移動(dòng)至橫向的退避位置并下降升降臺72，將托盤50移 載至下層輸送輥90a、91a、94a、95a。通過該升降臺72從上層輸送輥向下層輸送輥移載托盤 50的操作與使用承載體M的方法相比，能夠縮短輸送時(shí)間。另外，在第一進(jìn)出口 40及第二進(jìn)出口 42，將處理后的工件80收容至收容部EJf 未處理的工件80供給至新托盤50的方法可為各種方法，并不僅限于上述的方法。例如也 可以是如下的方法準(zhǔn)備多個(gè)輸送用的托盤50，準(zhǔn)備未處理的工件80使其事先排列在托盤 50上，根據(jù)輸送操作依次供給這些托盤50。此外，在本實(shí)施方式中，雖然對通過下層輸送輥供給未處理的工件且通過上層輸 送輥供給處理后的工件的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說明，與此相反，也可以是通過下層輸送輥供給處理 后的工件并通過上層輸送輥供給未處理的工件的結(jié)構(gòu)。在這種情況下，可以在處理室10中 使托盤50從上層輸送輥上升至處理位置，處理后，使處理后的托盤下降至下層輸送輥的位置。(周期時(shí)間)如上所述，在本實(shí)施方式的處理裝置中，可通過省略在與承載體M間移載托盤50 的操作來縮短在與處理室之間輸出輸入工件的操作所需要的時(shí)間。該輸出輸入操作是圖7 所示的時(shí)序圖中交換操作的部分。在現(xiàn)有的輸送方法中，在與處理室之間輸出輸入工件時(shí)需要的時(shí)間如下所述。(1)打開閘閥的時(shí)間2秒(2)向處理室一起輸入托盤與承載體的時(shí)間4秒(3)將未處理的托盤從承載體移載至升降臺的時(shí)間(將處理后的托盤移載至承載 體)4秒(4)將承載體從處理室輸出的時(shí)間3秒(5)關(guān)閉閘閥的時(shí)間2秒這些一共為15秒。在本實(shí)施方式的處理裝置中，在與處理室之間輸入輸出工件需要的時(shí)間如下所 述。(1)打開閘閥的時(shí)間2秒(2)向處理室輸入托盤并從處理室輸出托盤的時(shí)間4秒(3)關(guān)閉閘閥的時(shí)間2秒這些一共為8秒。與產(chǎn)品的處理內(nèi)容有關(guān)，在太陽能電池的成膜處理的例中，從關(guān)閉處理室的閘閥 到成膜處理并打開閘閥需要大約50秒(氣體常態(tài)化10秒、等離子處理30秒、氣體清除 10秒)。因此在本例中，在第一實(shí)施方式的處理裝置的情況下，1周期時(shí)間是50秒+15秒= 65秒，但是根據(jù)本實(shí)施方式的處理裝置，縮短為50秒+8秒=58秒。在這種情況下，周期 時(shí)間縮短10%左右。在大量生產(chǎn)品的情況下，提高10%的生產(chǎn)效率極為重要。此外，在工 件的處理時(shí)間更短的處理的情況下，例如處理時(shí)間為30秒的情況下，周期時(shí)間的縮短率為 15%左右。根據(jù)本實(shí)施方式的處理裝置，通過從第一負(fù)載鎖定室12與第二負(fù)載鎖定室14 交替地供給未處理的工件80來處理工件80的方法，即使在處理室10中工件80的處理時(shí) 間較短的情況下，能從容地供給工件80，且可以防止供給工件的輸送系統(tǒng)對生產(chǎn)性的制約，此外，通過使工件80的輸送操作效率化能有效地提高生產(chǎn)率。
權(quán)利要求
1.一種處理裝置，具有設(shè)置有第一供給排出口和第二供給排出口的處理室，所述第一 供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的工件的輸入以及處理后的工件的輸 出，所述處理裝置的特征在于，包括第一輸送機(jī)構(gòu)，進(jìn)行經(jīng)由所述第一供給排出口將未處理的工件輸入至所述處理室的操 作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作；第二輸送機(jī)構(gòu)，進(jìn)行經(jīng)由所述第二供給排出口將未處理的工件輸入至所述處理室的操 作和從所述處理室輸出處理后的工件的操作；交換單元，將通過所述第一輸送機(jī)構(gòu)輸入至所述處理室并進(jìn)行了處理的工件轉(zhuǎn)移至所 述第二輸送機(jī)構(gòu)，并將通過所述第二輸送機(jī)構(gòu)輸入至所述處理室并進(jìn)行了處理的工件轉(zhuǎn)移 至所述第一輸送機(jī)構(gòu)；以及控制部，控制所述第一輸送機(jī)構(gòu)、所述第二輸送機(jī)構(gòu)和所述交換單元，并交替進(jìn)行所述 第一供給排出口和所述第二供給排出口中的工件的供給排出操作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括第一負(fù)載鎖定室，與所述處理室的所述第一供給排出口連通地設(shè) 置；以及第二負(fù)載鎖定室，與所述處理室的所述第二供給排出口連通地設(shè)置，工件經(jīng)由所述第一負(fù)載鎖定室及所述第二負(fù)載鎖定室供給至所述處理室和從所述處理室排出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，所述第一負(fù)載鎖定室、所述處理室以及所述第二負(fù)載鎖定室串聯(lián)配置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括第一進(jìn)出口，用于向所述第一負(fù)載鎖定室輸入未處理的工件和從 所述第一負(fù)載鎖定室輸出處理后的工件；以及第二進(jìn)出口，用于向所述第二負(fù)載鎖定室輸 入未處理的工件與從所述第二負(fù)載鎖定室排出處理后的工件，所述第一輸送機(jī)構(gòu)在所述第一進(jìn)出口與處理室之間輸送工件，所述第二輸送機(jī)構(gòu)在所 述第二進(jìn)出口與處理室之間輸送工件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述第一輸送機(jī)構(gòu)與所述第二輸送機(jī)構(gòu)包括輸送單元，輸送具有以各自不同的高度 支承未處理的工件與處理后的工件的多個(gè)支承架的承載體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括支承所述工件的托盤，所述托盤支承在所述承載體的支承架上而輸 送工件。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板的處理裝置，其特征在于， 所述交換單元包括移動(dòng)單元，使所述工件從工件輸入時(shí)支承工件的支承架移動(dòng)至工件的處理位置；以及 移載單元，使處理后的工件移載至與所述工件輸入時(shí)支承工件的支承架不同高度位置 的支承架。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的處理裝置，其特征在于，在所述第一進(jìn)出口與所述第二進(jìn)出口設(shè)置有收容單元和供給單元，所述收容單元將處 理后的工件從所述承載體收容至收容部，所述供給單元向所述承載體供給未處理的工件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述第一輸送機(jī)構(gòu)與所述第二輸送機(jī)構(gòu)包括在不同高度位置輸送工件的下層輸送輥 及上層輸送輥；以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以使所述下層輸送輥及所述上層輸送輥各自 的輸送輥輸送工件的輸送方向?yàn)橄喾捶较虻姆绞津?qū)動(dòng)所述下層輸送輥及所述上層輸送輥。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理裝置，其特征在于，所述第一輸送機(jī)構(gòu)與所述第二輸送機(jī)構(gòu)包括配置在所述處理室的下層輸送輥及上層 輸送輥；以及朝向所述第一供給排出口與所述第二供給排出口地配置在處理室的外部、并 在配置在所述處理室的下層輸送輥及上層輸送輥之間分別轉(zhuǎn)移工件的下層輸送輥及上層 輸送輥。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，配置在所述處理室中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)配合經(jīng)由所述第一 供給排出口與所述第二供給排出口供給排出工件的操作以交替反轉(zhuǎn)輸送方向的方式驅(qū)動(dòng) 下層輸送輥及上層輸送輥。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的控制部，在經(jīng)由所述第一供給排出口供給排出所述工 件時(shí)，使配置在所述處理室的下層輸送輥及上層輸送輥與所述處理室的外部的朝向所述第 一供給排出口的下層輸送輥及上層輸送輥同步地進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，在經(jīng)由所述第二供給排出口供 給排出所述工件時(shí)，使配置在所述處理室的下層輸送輥及上層輸送輥與所述處理室的外部 的朝向所述第二供給排出口的下層輸送輥及上層輸送輥同步地進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理裝置，其特征在于，在所述處理裝置中，與所述處理室的所述第一供給排出口連通地設(shè)置有第一負(fù)載鎖定室，同時(shí)與所述處理 室的所述第二供給排出口連通地設(shè)置有第二負(fù)載鎖定室，在所述第一負(fù)載鎖定室設(shè)置有向所述處理室供給工件和從所述處理室排出工件的構(gòu) 成所述第一輸送機(jī)構(gòu)的下層輸送輥與上層輸送輥，在所述第二負(fù)載鎖定室設(shè)置有向所述處理室供給工件和從所述處理室排出工件的構(gòu) 成所述第二輸送機(jī)構(gòu)的下層輸送輥與上層輸送輥。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理裝置，其特征在于，在所述處理裝置中，設(shè)置有用于向所述第一負(fù)載鎖定室輸入未處理的工件和從所述第一負(fù)載鎖定室輸出 處理后的工件的第一進(jìn)出口以及用于向所述第二負(fù)載鎖定室輸入未處理的工件和從所述 第二負(fù)載鎖定室排出處理后的工件的第二進(jìn)出口，遍及所述第一負(fù)載鎖定室與所述第一進(jìn)出口地設(shè)置有構(gòu)成所述第一輸送機(jī)構(gòu)的下層 輸送輥與上層輸送輥，遍及所述第二負(fù)載鎖定室與所述第二進(jìn)出口地設(shè)置有構(gòu)成所述第二輸送機(jī)構(gòu)的下層 輸送輥與上層輸送輥。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理裝置，其特征在于，在所述處理室上配備升降單元，所述升降單元作為所述交換單元，使所述工件在通過 所述輸送輥輸送的輸送高度位置與工件的處理位置之間升降；以及退避單元，在利用所述升降單元使工件升降時(shí)，所述退避單元使配置在所述處理室的上層輸送輥退避至不干涉工 件的位置。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的處理裝置，其特征在于，在所述第一進(jìn)出口與所述第二進(jìn)出口上配備升降單元，使工件在輸送高度位置與工 件的移載位置之間升降；以及退避單元，在利用所述升降單元使工件升降時(shí)，所述退避單元 使配置在所述第一進(jìn)出口與所述第二進(jìn)出口的上層輸送輥退避至不干涉工件的位置。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括支承所述工件的托盤，所述第一輸送機(jī)構(gòu)與所述第二輸送機(jī)構(gòu)具有 支承所述托盤的機(jī)構(gòu)。
18.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，對所述處理室附加設(shè)置有控制所述處理室中的處理的處理控制部，對所述第一負(fù)載鎖定室與所述第二負(fù)載鎖定室附加設(shè)置有對負(fù)載鎖定室進(jìn)行真空排 氣的真空裝置。
19.一種處理方法，使用設(shè)置有第一供給排出口與第二供給排出口的處理室對工件進(jìn) 行處理，所述第一供給排出口與所述第二供給排出口分別用于未處理的工件的輸入以及處 理后的工件的輸出，所述處理方法的特征在于，配合所述處理室中的工件的處理操作，交替進(jìn)行以下操作來處理工件即，從所述第一 供給排出口向所述處理室輸入未處理的所述工件并將在所述處理室中處理后的工件從所 述第二供給排出口輸出的操作；以及從所述第二供給排出口向所述處理室輸入未處理的工 件并將在所述處理室中處理后的工件從所述第一供給排出口輸出的操作。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種使向處理室輸入、輸出工件的操作效率化并提高工件的處理效率的處理裝置及處理方法。在具有設(shè)置有第一供給排出口與第二供給排出口的處理室(10)的處理裝置中，包括第一輸送機(jī)構(gòu)，進(jìn)行經(jīng)由所述第一供給排出口供給排出工件(30)的操作；第二輸送機(jī)構(gòu)，進(jìn)行經(jīng)由所述第二供給排出口供給排出工件(30)的操作；交換單元，將通過所述第一輸送機(jī)構(gòu)輸入并處理后的工件(30a)轉(zhuǎn)移至所述第二輸送機(jī)構(gòu)，并將通過所述第二輸送機(jī)構(gòu)輸入并處理后的工件(32a)轉(zhuǎn)移至所述第一輸送機(jī)構(gòu)；以及控制部(22)，驅(qū)動(dòng)所述第一輸送機(jī)構(gòu)和所述第二輸送機(jī)構(gòu)，從所述第一供給排出口與所述第二供給排出口交替地將未處理的工件提供給所述處理室加以處理。
文檔編號C23C16/44GK102046840SQ20098011905
公開日2011年5月4日 申請日期2009年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月25日
發(fā)明者外島正人, 林赫·卡恩 申請人:奧寶科技Lt太陽能有限公司