專利名稱：用于等離子輔助地對管狀構(gòu)件的內(nèi)側(cè)進(jìn)行涂覆的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于通過高頻的磁場等離子輔助地對管狀構(gòu)件的內(nèi)側(cè)進(jìn)行涂覆 的裝置。
背景技術(shù)：
用于等離子輔助地對管狀的構(gòu)件的內(nèi)側(cè)或外側(cè)進(jìn)行涂覆的裝置有DE199 59 845 Al和DE 103 53 540 Al。這里管狀的構(gòu)件或包圍構(gòu)件的保護(hù)管在開口的端部通過法蘭封 閉，并且排空管狀構(gòu)件的內(nèi)部或構(gòu)件與保護(hù)管之間的中間空間。為此在兩個法蘭中的至少 一個法蘭上連接一個或多個真空泵。該裝置還具有一高頻振蕩回路。所述高頻振蕩回路裝 備有一線圈，該線圈以其繞組包圍管狀的構(gòu)件。繞組與構(gòu)件同軸地在構(gòu)件的外側(cè)上延伸。通 過高頻磁場線圈在管狀的構(gòu)件中產(chǎn)生等離子體。導(dǎo)入管狀的構(gòu)件中的涂覆材料通過等離子 輔助的化學(xué)反應(yīng)發(fā)生轉(zhuǎn)化。反應(yīng)產(chǎn)物作為涂層沉積在管狀的構(gòu)件上。通過使線圈相對于管 狀的構(gòu)件移動或通過使構(gòu)件相對于線圈移動，實(shí)現(xiàn)在所述構(gòu)件的整個長度上涂覆。需要涂覆的管狀的構(gòu)件通常在其表面上具有不平度并且在其垂直于其縱軸線的 橫截面上具有誤差。對于由玻璃制成的構(gòu)件特別是這種情況。即使這種不精確性處于對于 管狀的構(gòu)件的規(guī)定的制造公差的范圍內(nèi)，向已知的裝置中安裝這種管狀的構(gòu)件也是困難或 不可能的。已知裝置的法蘭具有與構(gòu)件的橫截面相匹配的容納部和設(shè)置在容納部上的密封 件。管狀的構(gòu)件的不精確性可能導(dǎo)致所述構(gòu)件不能配合到法蘭的容納部中。此外，管狀的 構(gòu)件的不精確性還可能產(chǎn)生這樣的后果，即所述構(gòu)件盡管能夠?qū)肴菁{部中，但其中不能 通過密封件實(shí)現(xiàn)充分的密封作用。在后一種情況下，即使在泵功率高時，也不能在管狀的構(gòu) 件中實(shí)現(xiàn)涂覆所需的最終壓力。存在于管狀的構(gòu)件的內(nèi)部的壓力對通過等離子體沉積的涂 層的質(zhì)量起很重要的作用。因此實(shí)現(xiàn)對于涂層規(guī)定的最終壓力對于涂層的質(zhì)量是起決定性 作用的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種用于通過高頻磁場等離子體輔助地對管狀的構(gòu)件的 內(nèi)側(cè)進(jìn)行涂覆的裝置，這種裝置即使在構(gòu)件帶有形狀上的不精確性時使得可以容納、保持、 定位和排空到規(guī)定的最終壓力。所述目的通過具有權(quán)利要求1的特征的裝置來實(shí)現(xiàn)。所述裝置的特征在于，所述 裝置裝備有至少兩個容納體，這些容納體在其端部上容納和保持管狀的構(gòu)件，并相對于周 圍環(huán)境密封管狀的構(gòu)件的內(nèi)部。在容納體上設(shè)置至少一個可充氣的密封件，該密封件在膨 脹狀態(tài)下相對于周圍環(huán)境構(gòu)成對容納體和管狀的構(gòu)件之間的過渡部的密封。這里膨脹或鼓 起的密封件圍繞管狀的密封件的外側(cè)和/或端側(cè)布設(shè)并密封管狀的構(gòu)件和容納體之間的 中間空間。所述密封件在膨脹狀態(tài)下構(gòu)成防止管狀的構(gòu)件的內(nèi)部和周圍環(huán)境之間不希望的 材料轉(zhuǎn)移的阻隔部。在膨脹時，密封件與管狀的構(gòu)件的可能的不精確性、不均勻性或不平度 相適配并填滿容納體和構(gòu)件之間的中間空間。在未膨脹的狀態(tài)下，密封件的橫截面減小。在這種狀態(tài)下，密封件釋放密封件和容納體之間的中間空間，從而管狀的構(gòu)件能夠簡單、快速 并且不損壞地裝入裝置中和拆除。這兩個容納體在裝入時被引導(dǎo)接近管狀的構(gòu)件的端部。兩個容納體中的每個容納 體都具有一支承區(qū)域，所述支承區(qū)域構(gòu)成用于管狀的構(gòu)件的一個端部的支座。所述容納區(qū) 域例如可以是容納元件的一個管狀的區(qū)段，管狀的構(gòu)件從外面一起內(nèi)側(cè)貼靠在該區(qū)段上。 通過支座，兩個容納體承受管狀的構(gòu)件的重力并將構(gòu)件保持在其位置中。在密封時，可充氣 的密封件由于其強(qiáng)烈的立體的膨脹而將管狀的構(gòu)件擠壓到容納體上并且除了密封以外還 確保將構(gòu)件穩(wěn)定在其在容納體上的位置中。由容納體和可充氣的密封件組成的組合由此不 僅實(shí)現(xiàn)了更好的密封，并且實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)固地保持所述管狀的構(gòu)件。所述可充氣的密封件具有至少一個空腔。所述空腔連接在介質(zhì)的輸入部和導(dǎo)出部 上。在介質(zhì)流入空腔時，可充氣的密封件膨脹。在介質(zhì)從空腔流出時，可充氣的密封件重新 收縮。由于相對于已知的這種改進(jìn)的、對管狀的構(gòu)件和容納體之間的過渡部的密封，在 相同的泵功率下連接在至少一個容納體上的真空泵實(shí)現(xiàn)明顯更小的最終壓力。此外在比已 知的裝置中小的泵功率下實(shí)現(xiàn)規(guī)定的最終壓力。在將管狀的構(gòu)件裝入容納體之后直至調(diào)整 到規(guī)定的最終壓力所需要的時間明顯比在已知的裝置中短，這會使得處理時間縮短。由于 對規(guī)定的最終壓力的可靠地調(diào)整，對于具有在制造公差之內(nèi)的不均勻性的管狀的構(gòu)件，能 夠?qū)崿F(xiàn)高質(zhì)量的并且可再現(xiàn)的涂覆。為了沿著整個管狀的構(gòu)件獲得涂覆等離子體輔助的沉積，以其繞組包圍構(gòu)件的線 圈和構(gòu)件相對于彼此運(yùn)動。這種平移運(yùn)動的速度是可控制的。以這種方式可以影響涂層的 層結(jié)構(gòu)。利用所述裝置可以對在兩個端上敞開的管狀的構(gòu)件、對在一端敞開而在另一端封 閉的構(gòu)件以及對在兩端封閉的構(gòu)件進(jìn)行涂覆。對于在一側(cè)和兩側(cè)敞開的構(gòu)件，涂覆材料可 以通過兩個容納體中的一個導(dǎo)入構(gòu)件的內(nèi)部。對于在兩側(cè)封閉的構(gòu)件，必須在封閉之前將 涂覆材料導(dǎo)入構(gòu)件中。在本發(fā)明的一個優(yōu)選的構(gòu)型中，容納體能夠沿相反的方向移動地設(shè)置。這種移動 使得容納體之間的距離放大和縮小。這用于裝入和拆除管狀的構(gòu)件。為了裝入，使容納體 相互運(yùn)動離開，從而在各容納體之間調(diào)整到最大的距離。此時將構(gòu)件導(dǎo)入容納體之間，接著 使容納體相向運(yùn)動，直至各容納體接觸管狀的構(gòu)件。為了使各容納體運(yùn)動可以設(shè)置一驅(qū)動 裝置。所述過程可以是自動化的。為此優(yōu)選地設(shè)有一傳感器，該傳感器檢測一容納體和構(gòu) 件之間的接觸。一旦確認(rèn)了這種接觸，關(guān)閉驅(qū)動裝置。如果兩個容納體在構(gòu)件上就位，則通 過容納體保持構(gòu)件。接著，使可充氣的密封件膨脹并相對于周圍環(huán)境密封構(gòu)件。接著通過 真空泵將管狀的構(gòu)件的內(nèi)部排空到規(guī)定的最終壓力。如果達(dá)到了規(guī)定的最終壓力，則點(diǎn)燃 等離子體并將涂覆材料導(dǎo)入構(gòu)件的內(nèi)部，以便施加涂覆。在涂覆過程結(jié)束之后給構(gòu)件通風(fēng)， 使得可充氣的密封件重新轉(zhuǎn)換到其未膨脹的初始狀態(tài)，并且使容納體重新與構(gòu)件隔開。接 著可以將構(gòu)件從所述裝置中取出。所述裝置已經(jīng)用于裝入下面的構(gòu)件。由于容納體之間可 變的距離，可以將不同長度的管狀的構(gòu)件裝入容納體之間并用所述裝置進(jìn)行涂覆。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，除了容納體，所述裝置還裝備有支承裝置， 各所述支承裝置從下面構(gòu)成用于管狀的構(gòu)件的支座。這些支承裝置特別是對于長的構(gòu)件確保在容納體之間實(shí)現(xiàn)附加的支承。此外，所述支承裝置還使得管狀的構(gòu)件的裝入變得容易。 容納體可以相互離開到這樣的程度，即，在裝入時各容納體不接觸所述構(gòu)件。將所述構(gòu)件放 置在支承裝置上，并使容納體朝構(gòu)件運(yùn)動，由此容納體的距離縮小，直至容納體容納所述構(gòu) 件。構(gòu)件的拆除相反地進(jìn)行。由此只需要在涂覆之前將構(gòu)件放置到支承裝置上并在涂覆結(jié) 束之后將構(gòu)件從支承裝置上取下。其余所有的步驟可以自動地進(jìn)行。這簡化了涂覆工藝。 對使用者沒有提出特別的要求?？稍佻F(xiàn)性得到提高。根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施形式，支承裝置具有U形的保持元件。所述保持元件向 上敞開。在一個或多個支承裝置上設(shè)置至少兩個這樣的保持裝置，從而穩(wěn)定地保持構(gòu)件。根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施形式，支承裝置的高度是可調(diào)的。由此支承裝置可以與 具有不同直徑的不同構(gòu)件相匹配。根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施形式，可充氣的密封件在膨脹的狀態(tài)下相對于容納體的 縱軸線沿軸向方向具有一定的膨脹。由此所述密封件從外面壓在管狀的構(gòu)件上，所述構(gòu)件 可以從內(nèi)側(cè)由容納體支承和保持。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，容納體分別具有一個管狀的延長段，所述 延長段在構(gòu)件的端部上形成用于管狀構(gòu)件的內(nèi)側(cè)的支座。所述管狀的延長段和構(gòu)件在延長 段的一部分上或整個長度上相搭接。這種搭接用于確保使構(gòu)件穩(wěn)定。管狀的延長段還具有 這樣的優(yōu)點(diǎn)，它不會影響規(guī)定的最終壓力的調(diào)整，因?yàn)樗痪哂邢騼?nèi)突出的、可能對流動產(chǎn) 生不利影響的元件。管狀的延長段特別好地與向內(nèi)膨脹的、可充氣的密封件共同作用。密 封件在膨脹狀態(tài)下將所述構(gòu)件擠壓到管狀的延長段上。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，管狀的延長段在其內(nèi)側(cè)上限定一圓柱形的 空腔。這里管狀的延長段的壁厚在朝向另一個容納體的端部上小于背向所述另一個容納體 的端部。這使得構(gòu)件套裝在容納體上變得容易，或反之亦然，因?yàn)楣軤畹难娱L段的外直徑在 朝向所述另一個容納體的一側(cè)較小。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，各容納體裝備有徑向向外突出的區(qū)段。所 述區(qū)段構(gòu)成用于管狀的構(gòu)件的端側(cè)的止擋。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，所述徑向向外突出的區(qū)段裝備有凹部。在 所述凹部中設(shè)置由彈性材料制成的緩沖元件。所述緩沖元件特別是比容納體的彈性大。這 防止容納體上管狀的構(gòu)件的損壞。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，所述徑向向外突出的區(qū)段裝備有用于介質(zhì) 的輸入和導(dǎo)出的接頭，所述介質(zhì)用于吹起可充氣的密封件。所述介質(zhì)例如可以是壓力空氣。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，所述可充氣的密封件通過支承環(huán)保持在容 納體上。所述支承環(huán)與容納體以及必要時還有所述構(gòu)件一起限定提供用于彈性的密封件膨 脹的空間。所述支承環(huán)還防止可充氣的密封件會從容納體上松脫。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，所述容納體中的至少一個容納體裝備有到 一個或多個泵的接頭段，通過這些泵在管狀的構(gòu)件中調(diào)整到規(guī)定的最終壓力。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，所述容納體中的至少一個容納體裝備有用 于將涂覆材料和/或工作氣體導(dǎo)入設(shè)置在容納體上的構(gòu)件的內(nèi)部的接頭。所述涂覆材料可 以是固態(tài)的、液態(tài)的或氣態(tài)的。為了制備涂覆材料，可以設(shè)有一前體制備裝置。根據(jù)要求的 不同，工作氣體可以沿軸向方向流動通過所述構(gòu)件或者在切向上沿指向內(nèi)部的表面供應(yīng)。在切向的速度分量中構(gòu)成渦流。以這種方式可以影響層結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的實(shí)施形式，所述容納體中的至少一個容納體裝備有能 移出的布料桿，用于將涂覆材料供應(yīng)到設(shè)置在容納體上的管狀的構(gòu)件的內(nèi)部。特別是對于 單側(cè)封閉的管狀的構(gòu)件，所述布料桿有助于涂覆材料的導(dǎo)入和分布。


本發(fā)明其他的優(yōu)點(diǎn)和優(yōu)選的實(shí)施方式可以由下面的說明和附圖得到。附圖中的圖 形示出了本發(fā)明的一個實(shí)施例。其中圖1示出用于通過高頻磁場對管狀構(gòu)件的內(nèi)側(cè)進(jìn)行等離子輔助的涂覆的具有封 閉的蓋的裝置的立體圖；圖2示出根據(jù)圖1的帶有打開的蓋的裝置；圖3示出根據(jù)圖2的裝置的正視圖；圖4示出圖3的帶有管狀構(gòu)件、容納體、支承裝置和線圈的局部；圖5示出根據(jù)圖1的裝置的容納體的縱向剖視圖，其中沒有管狀的構(gòu)件，具有可充 氣的處于初始狀態(tài)的密封件；圖6示出根據(jù)圖5的帶有管狀的構(gòu)件的容納體；圖7示出根據(jù)圖6的帶有處于膨脹狀態(tài)的可充氣密封件的容納體。
具體實(shí)施例方式在圖1至圖4中用不同的視圖示出用于通過高頻磁場對管狀的構(gòu)件的內(nèi)側(cè)進(jìn)行等 離子輔助的涂覆的裝置。圖1示出具有完整封閉的殼體1的所述裝置。圖2、圖3和圖4 中，殼體1上的蓋2打開，所述蓋覆蓋設(shè)置用于涂覆的管狀的構(gòu)件3的區(qū)域。為了保持所述 構(gòu)件1并相對于周圍環(huán)境密封所述構(gòu)件，在裝置上設(shè)有容納體4。這些容納體在構(gòu)件的兩端 保持所述構(gòu)件。為了裝入和拆除所述管狀的構(gòu)件，容納體4沿在圖4中示出的箭頭的方向 運(yùn)動。所述構(gòu)件還通過兩個支承裝置5保持。兩個容納體4在構(gòu)件的端部處在側(cè)向保持構(gòu) 件3，而兩個支承裝置5從下面支承構(gòu)件3。通過容納體4和支承裝置5保持的構(gòu)件3水平 地在裝置中定向。在殼體1下面的部分中，設(shè)置真空泵、控制裝置和用于涂覆材料或前體的 制備裝置。它們由于殼體封閉而在圖中不能看到。此外在殼體中設(shè)置用于使兩個容納體4 移動的驅(qū)動裝置。該驅(qū)動裝置同樣通過封閉的殼體覆蓋并因此在圖中不能看到。所述裝置此外還裝備有高頻振蕩回路，所述高頻振蕩回落包括一線圈6。管狀的構(gòu) 件3在線圈6的繞組中延伸。沿著容納體的對稱軸連接兩個容納體的直線與管狀的構(gòu)件3 的縱軸線和線圈6的繞組的縱軸線重合。所述直線定義為裝置的縱軸線。所述直線在圖中 沒有示出。振蕩回落的其他部件設(shè)置在殼體部分7中。線圈6固定地與殼體部分7相連。 為了對管狀的構(gòu)件3的內(nèi)側(cè)進(jìn)行涂覆，線圈6連同殼體部分7 —起平行于管狀的構(gòu)件移動， 從而按時間順序在構(gòu)件的整個長度上覆蓋構(gòu)件。在根據(jù)圖2、圖3和圖4的圖示中，線圈6 和殼體部件7位于右側(cè)。線圈6可以卷繞成圓柱形或錐形的。線圈此外還可以具有至少一個反向的繞組。 通過線圈6的選擇和設(shè)計可以影響高頻振蕩回路的頻率、等離子體的形成和層結(jié)構(gòu)。在圖5、圖6和圖7中用縱向剖視圖示出根據(jù)圖1的裝置的容納體4。該容納體具有一管狀的延長段8、可充氣的密封件9、徑向向外突出的區(qū)段10、緩沖元件11、支承環(huán)12 和接頭段13。通過管狀的延長段8推動管狀的構(gòu)件3。這可以在圖6和圖7中看到。管狀 的延長段8的外徑小于管狀的構(gòu)件3的內(nèi)徑。管狀的構(gòu)件3以其端側(cè)頂靠在緩沖元件11 上，所述緩沖元件設(shè)置在徑向向外突出的區(qū)段10的一凹部中?？沙錃獾拿芊饧?保持在徑 向向外突出的區(qū)段10和支承環(huán)12之間。所述密封件具有基體14、空腔15和彈性元件16。 通過一在基體14和徑向向外突出的區(qū)段10中分布的管道17向空腔15中導(dǎo)入和泵出壓力 空氣。利用接頭段13將容納體4之一連接到真空泵的系統(tǒng)上。另一個容納體4利用接頭 段13連接在用于涂覆材料或前體的制備裝置上。各接頭段也可以在根據(jù)圖4的視圖中看 到。圖7示出帶有管狀的構(gòu)件3和膨脹的可充氣密封件9的容納體4。在該圖中只能 看到構(gòu)件3的朝向容納體4的端部。圖7示出，空腔15由于通過管道17流入的介質(zhì)而擴(kuò) 張并將彈性元件擠壓到管狀的構(gòu)件3上。這里，容納體4和構(gòu)件3之間的過渡部被密封。在 圖中可以看到，即使當(dāng)在容納體4的管狀的延長段8和構(gòu)件3之間存在中間空間時，也能實(shí) 現(xiàn)密封。圖1至圖7中示出的裝置特別適于對用于太陽能熱目的的、具有二氧化硅的玻璃 管進(jìn)行涂覆。這種涂覆可以降低入射的日光的反射并提高光傳輸。為了進(jìn)行涂覆采用液態(tài) 的含硅的乙醇，所述乙醇在其制備之后以蒸汽的形式存在并在添加氧氣的情況下導(dǎo)入需要 涂覆的玻璃管。在等離子體中，含硅的乙醇和氧氣轉(zhuǎn)換成二氧化硅、二氧化碳和水。二氧化 硅作為涂層沉積到管內(nèi)壁上。二氧化碳、水和多余的氧氣通過真空泵的系統(tǒng)從玻璃管中導(dǎo) 出ο所有特征可以單獨(dú)地以及相互按任意方式組合地對于本發(fā)明是重要的。附圖標(biāo)記1 殼體2 蓋3 管狀的構(gòu)件4 容納體5 支承裝置6 線圈7 殼體部分8 管狀的延長段9 可充氣的密封件10 徑向向外突出的區(qū)段11 緩沖元件12 支承環(huán)13 接頭段14 基體15 空腔16 彈性元件17 管道
權(quán)利要求
1.用于通過高頻的磁場等離子輔助地對管狀的構(gòu)件的內(nèi)側(cè)進(jìn)行涂覆的裝置，該裝置包 括至少兩個容納體G)，所述容納體在管狀的構(gòu)件的端部上容納和保持管狀的構(gòu)件(3)， 并相對于周圍環(huán)境密封管狀的構(gòu)件(3)的內(nèi)部；在所述容納體上的、圍繞管狀的構(gòu)件(3) 的外側(cè)和/或端側(cè)布設(shè)的可充氣的密封件(9)，該密封件在膨脹狀態(tài)下相對于周圍環(huán)境構(gòu) 成對所述容納體(4)和管狀的構(gòu)件C3)之間的過渡部的密封；用于產(chǎn)生高頻磁場的高頻振 蕩回路；該高頻振蕩回路的線圈(6)，所述線圈的繞組與所述裝置的縱軸線同軸地定向，其 中，所述縱軸線通過穿過兩個容納體(4)延伸的直線來限定；用于所述線圈(6)和/或容納 體的驅(qū)動裝置，該驅(qū)動裝置用于使所述線圈(6)相對于所述容納體(4)移動或使所述 容納體(4)相對于所述線圈(6)移動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，各個所述容納體(4)被設(shè)置為能夠沿相反 的方向移動。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，除了所述容納體G)，該裝置還裝備 有支承裝置(5)，該支承裝置從下面構(gòu)成用于管狀的構(gòu)件(3)的支座。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述支承裝置( 具有U形的保持元件。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的裝置，其特征在于，所述支承裝置(5)的高度是可調(diào)的。
6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述可充氣的密封件(9)在 膨脹狀態(tài)下相對于所述容納體的縱軸線具有沿徑向方向的膨脹。
7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，各個所述容納體(4)分別具 有管狀的延長段(8)，該延長段在所述管狀的構(gòu)件的端部處構(gòu)成用于管狀的構(gòu)件(3)的內(nèi) 側(cè)的支座。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述管狀的延長部(8)在內(nèi)側(cè)限定有圓柱 形的空腔，所述管狀的延長段(8)的壁厚在朝向另一個容納體的端部上小于背向所述 另一個容納體的端部。
9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，各個所述容納體(4)裝備有 徑向向外突出的區(qū)段(10)，該區(qū)段構(gòu)成用于所述管狀的構(gòu)件(3)的端側(cè)的止擋。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述徑向向外突出的區(qū)段(10)裝備有凹 部，在所述凹部中設(shè)置有由彈性材料制成的緩沖元件(11)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的裝置，其特征在于，所述徑向向外突出的區(qū)段(10)裝 備有用于介質(zhì)的輸入和導(dǎo)出的接頭，所述介質(zhì)用于吹起所述可充氣的密封件。
12.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述可充氣的密封件(9)通 過支承環(huán)(1 而保持在容納體(4)上。
13.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述容納體中的至少一 個容納體裝備有連接到一個或多個泵的接頭段(13)。
14.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述容納體中的至少一 個容納體裝備有用于將涂覆材料和/或工作氣體導(dǎo)入設(shè)置在所述容納體(4)上的管狀的構(gòu) 件(3)的內(nèi)部的接頭段(13)。
15.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述容納體中的至少一 個容納體裝備有能移出的布料桿，該布料桿用于將涂覆材料供應(yīng)到設(shè)置在所述容納體(4) 上的管狀的構(gòu)件(3)的內(nèi)部。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于通過高頻的磁場等離子輔助地對管狀的構(gòu)件的內(nèi)側(cè)進(jìn)行涂覆的裝置，所述裝置包括至少兩個容納體(4)，這些容納體在管狀的構(gòu)件的端部上容納和保持管狀的構(gòu)件(3)，并相對于周圍環(huán)境密封管狀的構(gòu)件(3)的內(nèi)部；容納體上的可充氣的密封件(9)，所述可充氣的密封件圍繞管狀的構(gòu)件(3)的外側(cè)和/或端側(cè)布設(shè)，該密封件在膨脹狀態(tài)下相對于周圍環(huán)境構(gòu)成對容納體(4)和管狀的構(gòu)件(3)之間的過渡部的密封；用于產(chǎn)生高頻磁場的高頻振蕩回路；所述高頻振蕩回路的線圈(6)，該線圈的繞組與裝置的縱軸線同軸地定向，其中所述縱軸線通過一延伸穿過兩個容納體(4)的直線限定；用于線圈(6)和/或容納體(4)的驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置使線圈(6)相對于容納體(4)或使容納體(4)相對于線圈(6)移動。
文檔編號C23C16/44GK102112652SQ200980129191
公開日2011年6月29日 申請日期2009年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月25日
發(fā)明者S·洛爾 申請人:洛爾等離子技術(shù)有限公司