專利名稱：鍍膜支架及鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種能使待鍍?cè)詣?dòng)翻面的鍍膜支架及具有該鍍膜支架的鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，許多工業(yè)產(chǎn)品表面都鍍有功能薄膜，以改善產(chǎn)品表面的各種性能。如照相機(jī)、數(shù)碼相機(jī)等光學(xué)產(chǎn)品內(nèi)的光學(xué)鏡片、濾光片等光學(xué)元件，因?yàn)橐苊馊肷涔饨?jīng)過(guò)每個(gè)元件時(shí)，部分入射光反射而導(dǎo)致光能損耗，需要在光學(xué)鏡片的兩面鍍抗反射膜，或是在濾光片 (紅外濾光片，紫外濾光片)的一面鍍上可濾掉某區(qū)段光的薄膜，而在另一面鍍上抗反射膜，通過(guò)這些光學(xué)薄膜以增加光學(xué)元件的抗反射性能，防止光能損耗。所述光學(xué)薄膜的鍍膜方式多以熱蒸鍍或?yàn)R鍍方式進(jìn)行，在待鍍?cè)腻兡ぶ瞥讨?，由于待鍍?cè)膬擅娼孕桢兡ぃ试阱兺暌幻嬷笮鑼⒋冊(cè)嬖俜湃脲兡ぱb置中進(jìn)行第二面的鍍膜，實(shí)際上是將待鍍?cè)阱兡ぶЪ苌戏?。然而，鍍膜時(shí)通常是以人工的方式對(duì)待鍍?cè)饌€(gè)進(jìn)行翻面，此舉相當(dāng)耗時(shí)及人力。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能使待鍍?cè)詣?dòng)翻面的鍍膜支架及具有該鍍膜支架的鍍膜裝置。一種鍍膜支架，其用于承載多個(gè)待鍍組件。該鍍膜支架包括一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)臂、一個(gè)驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)動(dòng)臂旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動(dòng)裝置、多個(gè)懸臂、多個(gè)承載盤(pán)以及多個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置。該多個(gè)懸臂自該轉(zhuǎn)動(dòng)臂延伸。每個(gè)懸臂均包括遠(yuǎn)離該轉(zhuǎn)動(dòng)臂的自由端。該多個(gè)承載盤(pán)活動(dòng)連接于該多個(gè)自由端并用以裝設(shè)該多個(gè)待鍍組件。每個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置固設(shè)于對(duì)應(yīng)的自由端并與該對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)連接以驅(qū)動(dòng)對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)翻面。一種鍍膜裝置，其包括一個(gè)腔體、一個(gè)設(shè)于腔體底部的鍍膜源，以及一個(gè)如上所述的鍍膜支架。該鍍膜支架位于該腔體的頂部并與該鍍膜源相對(duì)。相較于現(xiàn)有技術(shù)，該鍍膜裝置及該鍍膜支架通過(guò)該第二驅(qū)動(dòng)裝置轉(zhuǎn)動(dòng)連接承載盤(pán)以驅(qū)動(dòng)承載盤(pán)旋轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)承載盤(pán)的自動(dòng)翻面，節(jié)省了人力及時(shí)間。


圖1是本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的鍍膜裝置的立體示意圖。圖2是圖1中的鍍膜裝置的鍍膜支架的立體示意圖。圖3是圖1中的鍍膜裝置的鍍膜支架的部分分解示意圖。圖4是圖1中的鍍膜裝置的鍍膜支架處于另一狀態(tài)時(shí)的立體示意圖。圖5是本發(fā)明第二實(shí)施方式的鍍膜支架的立體示意圖。圖6是圖5中的鍍膜支架的部分分解示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明
鍍膜裝置10 腔體12抽氣通孔13鍍膜源14真空抽取單元16控制器18鍍膜支架20、40轉(zhuǎn)動(dòng)臂22、42頂端220底端222、422第一驅(qū)動(dòng)裝置24第一定子242第一轉(zhuǎn)子244、444懸臂26、46連接部262連接端462第一端2622第二端2624懸掛部264第一通孔2641第三端2642自由端2644、464第一面2645第二面2646第三面2647第四面2648第五面2649承載盤(pán)28、48本體282第六面2822第七面2824突出部284第二通孔2842第三通孔2^6第四通孔2828磁鐵286、486第二驅(qū)動(dòng)裝置29第二定子292第二轉(zhuǎn)子294、4Θ具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖將對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱圖1，為本發(fā)明第一實(shí)施方式的鍍膜裝置10，該鍍膜裝置10包括一個(gè)腔體 12、一個(gè)鍍膜源14、一個(gè)真空抽取單元16、一個(gè)控制器18、以及一個(gè)鍍膜支架20。該鍍膜源 14設(shè)置于該腔體12的底部。該真空抽取單元16位于該腔體12外并與該腔體12上的抽氣通孔13對(duì)應(yīng)，該真空抽取單元16用于對(duì)該腔體12抽真空。該鍍膜支架20固設(shè)于該腔體 12的頂部并與該鍍膜源14相對(duì)。該控制器18位于該腔體12外并與該真空抽取單元 16及該鍍膜支架20電性連接。請(qǐng)一并參閱圖2及圖3，該鍍膜支架20用于承載多個(gè)待鍍組件，比如光學(xué)鏡片、濾光片等。該鍍膜支架20包括一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)臂22、一個(gè)第一驅(qū)動(dòng)裝置24、四個(gè)懸臂26、十個(gè)承載盤(pán)28、以及十個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置29。該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22包括相對(duì)的頂端220及底端222。該頂端 220開(kāi)設(shè)有一個(gè)安裝孔(圖未示)。該第一驅(qū)動(dòng)裝置24為伺服馬達(dá)，其包括一個(gè)第一定子242以及與該第一定子242 轉(zhuǎn)動(dòng)連接的第一轉(zhuǎn)子244。該第一定子242固設(shè)于該腔體12的頂部。該第一轉(zhuǎn)子244通過(guò)卡合或者螺合等方式裝設(shè)于該頂端220上的安裝孔內(nèi)以使該第一轉(zhuǎn)子244與該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22 固定連接。該第一驅(qū)動(dòng)裝置24與該控制器18電性連接。四個(gè)懸臂26分別垂直該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22延伸，且該四個(gè)懸臂26均勻分布于該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22 的周?chē)?。每個(gè)懸臂26包括一個(gè)連接部262、一個(gè)與該連接部262相連的懸掛部264。該連接部262包括相對(duì)的第一端2622及第二端2624。該懸掛部264包括一個(gè)第三端2642及與該第三端2642相對(duì)的自由端2644。該第一端2622垂直該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22，該第二端2624與該第三端2642垂直連接。該自由端2644包括一個(gè)第一面2645、一個(gè)第二面2646、一個(gè)第三面2647、一個(gè)第四面2648、以及一個(gè)第五面2649。該第一面2645與該第三面2647平行相對(duì)。該第二面2646與該第四面2648平行相對(duì)。該第五面2649垂直連接該第一面2645、該第二面2646、該第三面2647以及該第四面2648。該自由端2644開(kāi)設(shè)有貫穿該第一面2645 及該第三面2647的第一通孔2641。每個(gè)承載盤(pán)28大致呈半圓形結(jié)構(gòu)，其包括一個(gè)本體282及一個(gè)突出部284。該本體282包括一個(gè)第六面2822及與該第六面2822相對(duì)的第七面2824。該突出部284從該第六面2822上垂直延伸，且該突出部284開(kāi)設(shè)有一個(gè)第二通孔2842。該本體282上開(kāi)設(shè)有多個(gè)用于收容該待鍍組件的第三通孔2826及多個(gè)用于裝設(shè)磁鐵286的第四通孔2828。該第三通孔2826與該第四通孔2828間隔設(shè)置。磁鐵286的磁極從該第六面2822及該第七面 2824上露出，且該第六面2822及該第七面2824上相鄰的扇形列的磁鐵286的磁極相異。該第二驅(qū)動(dòng)裝置29為伺服馬達(dá)，每個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置29包括一個(gè)第二定子292及與該第二定子292轉(zhuǎn)動(dòng)連接的第二轉(zhuǎn)子294。每個(gè)第一通孔2641固設(shè)有兩個(gè)第二定子292， 且兩個(gè)第二轉(zhuǎn)子294分別從該第一通孔2641內(nèi)伸出并螺合或者卡合于該第二通孔2842內(nèi)以使該第二驅(qū)動(dòng)裝置29與該突出部284固定連接，從而實(shí)現(xiàn)兩個(gè)承載盤(pán)28活動(dòng)連接于該自由端2644靠近該第一面2645及該第三面2647的兩側(cè)。該兩個(gè)承載盤(pán)28相對(duì)的扇形列的磁鐵286的磁極也相異。本實(shí)施方式中，承載盤(pán)28內(nèi)裝設(shè)有三個(gè)扇形列的磁鐵286，且最內(nèi)圈的磁鐵286在兩個(gè)承載盤(pán)28的第六面2822上顯露出的磁極分別為S極與N極，中間圈分別為N極與S極，最外圈分別為S極與N極。該第二驅(qū)動(dòng)裝置29也與該控制器18電性連接?？梢岳斫?，該自由端2644可以不開(kāi)設(shè)第一通孔2641，此時(shí)，兩個(gè)第二定子292分別固設(shè)于該第一面2645及該第三面2647上，且兩個(gè)第二轉(zhuǎn)子294分別相對(duì)該第一面2645及該第三面2647伸出并分別與該突出部284固定連接以將兩個(gè)承載盤(pán)28活動(dòng)連接于該自由端2644靠近該第一面2645及該第三面2647的兩側(cè)。該轉(zhuǎn)動(dòng)臂22的底端222為自由端，其可以不裝設(shè)承載盤(pán)28，也可以裝設(shè)承載盤(pán) 28。本實(shí)施方式中，該底端222與該自由端2644相同的方式裝設(shè)有兩個(gè)承載盤(pán)28。鍍膜時(shí)，該控制器18控制該真空抽取單元16抽取真空，該鍍膜源14產(chǎn)生的離子沉積在收容于該第三通孔2826內(nèi)的待鍍組件上。在此過(guò)程中，該控制器18控制該第一轉(zhuǎn)子 244轉(zhuǎn)動(dòng)從而帶動(dòng)該四個(gè)懸臂26旋轉(zhuǎn)以使鍍膜均勻。當(dāng)待鍍組件的一個(gè)表面鍍膜完成，該控制器18則控制該第二轉(zhuǎn)子294轉(zhuǎn)動(dòng)從而帶動(dòng)承載盤(pán)28旋轉(zhuǎn)以實(shí)現(xiàn)承載盤(pán)28的自動(dòng)翻面。與此同時(shí)，位于一個(gè)自由端2644的兩個(gè)承載盤(pán)28上的相對(duì)扇形列的磁鐵286之間產(chǎn)生磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)能夠使待鍍組件附近的氣體解離出更多的離子而使離子能量及密度增加， 從而使薄膜更致密并防止脫膜，且還能提高鍍膜速率。本實(shí)施方式提供的鍍膜裝置10及鍍膜支架20通過(guò)該第二轉(zhuǎn)子294轉(zhuǎn)動(dòng)從而帶動(dòng)承載盤(pán)28旋轉(zhuǎn)以實(shí)現(xiàn)承載盤(pán)28的自動(dòng)翻面，節(jié)省了人力及時(shí)間。在鍍膜過(guò)程中，該第一轉(zhuǎn)子244轉(zhuǎn)動(dòng)從而帶動(dòng)該四個(gè)懸臂26旋轉(zhuǎn)以使鍍膜均勻。另外，位于一個(gè)自由端2644的兩個(gè)承載盤(pán)28上的相對(duì)扇形列的磁鐵286之間產(chǎn)生磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)能夠使待鍍組件附近的氣體解離出更多的離子而使離子能量及密度增加，從而使薄膜更致密并防止脫膜，并提高鍍膜速率。如圖4所示，為鍍膜完成后，該承載盤(pán)28旋轉(zhuǎn)到收納狀態(tài)，此狀態(tài)時(shí)的鍍膜支架20 所占空間較小。請(qǐng)一并參閱圖5及圖6，為第二實(shí)施方式的鍍膜支架40。本實(shí)施方式的鍍膜支架 40與第一實(shí)施方式的鍍膜支架20的不同之處在于該懸臂46為長(zhǎng)條形結(jié)構(gòu)，該懸臂46包一個(gè)連接端462及與該連接端462相對(duì)的自由端464。該連接端462垂直該轉(zhuǎn)動(dòng)臂42，該自由端464與該連接端462相對(duì)。該轉(zhuǎn)動(dòng)臂42的底端422為自由端，其沒(méi)有裝設(shè)承載盤(pán)以節(jié)省空間。本實(shí)施方式提供的鍍膜支架40通過(guò)該第二轉(zhuǎn)子494轉(zhuǎn)動(dòng)從而帶動(dòng)承載盤(pán)48旋轉(zhuǎn)以實(shí)現(xiàn)承載盤(pán)48的自動(dòng)翻面，節(jié)省了人力及時(shí)間。在鍍膜過(guò)程中，該第一轉(zhuǎn)子444轉(zhuǎn)動(dòng)從而帶動(dòng)該四個(gè)懸臂46旋轉(zhuǎn)以使鍍膜均勻。另外，位于一個(gè)自由端464的兩個(gè)承載盤(pán)48上的相對(duì)扇形列的磁鐵486之間產(chǎn)生磁場(chǎng)，該磁場(chǎng)能夠使待鍍組件附近的氣體解離出更多的離子而使離子能量及密度增加，從而使薄膜更致密并防止脫膜，且能提高鍍膜速率?？梢岳斫獾氖?，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜支架，其用于承載多個(gè)待鍍組件，該鍍膜支架包括一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)臂以及一個(gè)驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)動(dòng)臂旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，該鍍膜支架還包括多個(gè)懸臂、多個(gè)承載盤(pán)以及多個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置，該多個(gè)懸臂自該轉(zhuǎn)動(dòng)臂延伸，每個(gè)懸臂均包括遠(yuǎn)離該轉(zhuǎn)動(dòng)臂的自由端，該多個(gè)承載盤(pán)活動(dòng)連接于該多個(gè)自由端并用以裝設(shè)該多個(gè)待鍍組件，每個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置固設(shè)于對(duì)應(yīng)的自由端并與對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)連接以驅(qū)動(dòng)該對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)翻面。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，該懸臂為長(zhǎng)條形結(jié)構(gòu)，該懸臂包括一個(gè)連接端及該自由端，該懸臂通過(guò)該連接端而連接于該轉(zhuǎn)動(dòng)臂，該自由端與該連接端相對(duì)。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，該懸臂包括一個(gè)連接部及與該連接部相連的懸掛部，該連接部包括相對(duì)的第一端及第二端，該懸掛部包括相對(duì)的第三端及該自由端，該連接部通過(guò)該第一端而連接于該轉(zhuǎn)動(dòng)臂，該懸掛部通過(guò)該第三端而連接于該連接部。
4.如權(quán)利要求3所述的鍍膜支架，其特征在于，該第一驅(qū)動(dòng)裝置為伺服馬達(dá)，該第一驅(qū)動(dòng)裝置包括一個(gè)第一定子及一個(gè)與該第一定子轉(zhuǎn)動(dòng)連接的第一轉(zhuǎn)子，該第一轉(zhuǎn)子與該轉(zhuǎn)動(dòng)臂固定連接。
5.如權(quán)利要求4所述的鍍膜支架，其特征在于，該多個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置為伺服馬達(dá)，每個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置包括一個(gè)第二定子及與該第二定子轉(zhuǎn)動(dòng)連接的第二轉(zhuǎn)子，每個(gè)第二轉(zhuǎn)子與該對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)固定連接。
6.如權(quán)利要求5所述的鍍膜支架，其特征在于，該自由端為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，該自由端包括第一面、第二面、與該第一面平行相對(duì)的第三面、與該第二面平行相對(duì)的第四面以及垂直連接該第一面、該第二面、該第三面及該第四面的第五面，該自由端開(kāi)設(shè)有貫穿該第一面及該第三面的第一通孔，每個(gè)承載盤(pán)包括一個(gè)本體及從該本體延伸的突出部，每?jī)蓚€(gè)第二定子固設(shè)于每個(gè)第一通孔內(nèi)，且兩個(gè)第二轉(zhuǎn)子分別從該第一通孔內(nèi)伸出并與該突出部固接以將兩個(gè)承載盤(pán)活動(dòng)連接于該自由端靠近該第一面及該第三面的兩側(cè)。
7.如權(quán)利要求5所述的鍍膜支架，其特征在于，該自由端為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，該自由端包括第一面、第二面、與該第一面平行相對(duì)的第三面、與該第二面平行相對(duì)的第四面以及垂直連接該第一面、該第二面、該第三面及該第四面的第五面，每個(gè)承載盤(pán)包括一個(gè)本體及垂直該本體延伸的突出部，每?jī)蓚€(gè)第二定子分別固設(shè)于該第三面及該第四面上，且兩個(gè)第二轉(zhuǎn)子分別相對(duì)該第一面及該第三面伸出并分別與該突出部固接以將兩個(gè)承載盤(pán)活動(dòng)連接于該自由端靠近該第一面及該第三面的兩側(cè)。
8.如權(quán)利要求6或7所述的鍍膜支架，其特征在于，該突出部開(kāi)設(shè)有一個(gè)第二通孔，該第二轉(zhuǎn)子螺合或者卡合于該第二通孔內(nèi)而與該突出部固接。
9.如權(quán)利要求8所述的鍍膜支架，其特征在于，每個(gè)承載盤(pán)為半圓形結(jié)構(gòu)，且每個(gè)承載盤(pán)上開(kāi)設(shè)有多個(gè)第三通孔以收容該多個(gè)待鍍組件，該承載盤(pán)上還裝設(shè)有多個(gè)與該多個(gè)第三通孔相間隔的磁鐵以產(chǎn)生磁場(chǎng)。
10.一種鍍膜裝置，其包括一個(gè)腔體、一個(gè)設(shè)于腔體的鍍膜源，以及一個(gè)如權(quán)利要求1 所述的鍍膜支架，該鍍膜支架位于該腔體內(nèi)并與該鍍膜源相對(duì)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種鍍膜支架，其用于承載多個(gè)待鍍組件。該鍍膜支架包括一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)臂、一個(gè)驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)動(dòng)臂旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動(dòng)裝置、多個(gè)懸臂、多個(gè)承載盤(pán)以及多個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置。該多個(gè)懸臂自該轉(zhuǎn)動(dòng)臂延伸。每個(gè)懸臂均包括遠(yuǎn)離該轉(zhuǎn)動(dòng)臂的自由端。該多個(gè)承載盤(pán)活動(dòng)連接于該多個(gè)自由端并用以裝設(shè)該多個(gè)待鍍組件。每個(gè)第二驅(qū)動(dòng)裝置固設(shè)于對(duì)應(yīng)的自由端并與該對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)連接以驅(qū)動(dòng)對(duì)應(yīng)的承載盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)翻面。本發(fā)明還涉及一種鍍膜裝置。該鍍膜裝置及該鍍膜支架通過(guò)該第二驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)承載盤(pán)旋轉(zhuǎn)以實(shí)現(xiàn)承載盤(pán)的自動(dòng)翻面，節(jié)省了人力及時(shí)間。本發(fā)明還涉及一種鍍膜裝置。
文檔編號(hào)C23C14/50GK102220564SQ20101014670
公開(kāi)日2011年10月19日 申請(qǐng)日期2010年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月14日
發(fā)明者裴紹凱 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司