專利名稱：鍍膜傘架的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜傘架，尤其涉及一種由平面載盤構成的可控制鍍膜元件膜層厚度的鍍膜傘架。
背景技術：
光學薄膜一般采用蒸鍍法(Evaporation Deposition)、離子助鍍法(Ion Assisteddeposition, IAD) ^ι^^ ΙΙ^ (Ion Beam Sputtering Deposition, IBSD) ^J 鍍制。在膜層鍍制過程中，通常使用鍍膜傘架來承載鍍膜元件，鍍膜元件放置于鍍膜傘架上，待鍍表面朝向設置于鍍膜傘架下方的靶材，通過蒸發(fā)或離子轟擊等方式將靶材材料沖至鍍膜傘架，并附著于待鍍表面形成鍍膜膜層。請參閱圖7，為傳統(tǒng)鍍膜傘架10的示意圖，傳統(tǒng)鍍膜傘架10為弧面結構，其上開設有多個承載孔12，傳統(tǒng)鍍膜傘架10可以繞其中心旋轉。鍍膜時，鍍膜元件(圖未示)容置于承載孔12，待鍍表面朝向設置于鍍膜傘架下方的靶材(圖未示)。但是，這種傳統(tǒng)鍍膜傘架一般體積及重量都較大，使用過程中需占據(jù)較大的空間，不易于收放保存。而且，傳統(tǒng)鍍膜傘架具有的弧度又使得鍍膜傘架的中心距離靶材較遠，易造成放置于鍍膜傘架中心位置的鍍膜元件鍍膜膜層厚度不夠，影響同一批次鍍膜元件鍍膜膜層的均勻性；再者，傳統(tǒng)鍍膜傘架上承載的鍍膜元件距離靶材的距離一般都是較為固定的，不易控制鍍膜元件鍍膜膜層的厚度。此外，對于需要在不同表面鍍膜的鍍膜元件來說，采用傳統(tǒng)的鍍膜傘架通常需要人工翻轉鍍膜元件，由此，易使鍍膜元件受到污染，影響鍍膜制品的良率。

發(fā)明內容
有鑒于此，有必要提供一種易于實現(xiàn)的、可有效解決現(xiàn)有技術中存在的問題的鍍膜傘架。一種鍍膜傘架包括一個中心支撐桿，一設置于中心支撐桿上的中心載盤，若干個圍繞并固定于所述中心支撐桿的外圍支撐桿，及若干個分別設置于所述若干個外圍支撐桿上的外圍載盤。所述中心支撐桿可以繞其長度方向的中心軸旋轉。所述中心載盤與所述若干個外圍載盤均至少由一個第一載盤及一個第二載盤組成，所述中心載盤的第一載盤與第二載盤通過一個中心連接軸相連接，且所述中心載盤的第一載盤與第二載盤可以繞所述中心連接軸相對于所述中心支撐桿旋轉而分別實現(xiàn)翻面。所述若干個外圍載盤的第一載盤與第二載盤通過一個外圍連接軸相連接，且所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤可以繞所述外圍連接軸相對于對應的外圍支撐桿旋轉而分別實現(xiàn)翻面。所述外圍支撐桿進一步沿其長度方向開設有一個貫穿所述外圍支撐桿外側面的貫通槽，所述外圍連接軸位于與其對應的所述貫通槽內，對應的所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤分別位于所述貫通槽的兩側， 所述外圍連接軸可以沿所述貫通槽滑動，使所述外圍載盤沿與其對應的外圍支撐桿上升或下降。相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明提供的鍍膜傘架具有如下優(yōu)點其一，鍍膜傘架為組合結構，區(qū)別于非傳統(tǒng)傘狀結構，便于收放保存，占據(jù)的空間較小，可以節(jié)省放置空間。其二，本發(fā)明的鍍膜傘架中的載盤除了可以整體旋轉以外，還可以旋轉變換鍍膜角度，可以有效地改善鍍膜膜層的均勻性、致密性及應力分布。其三，鍍膜傘架中可升降的外圍載盤，使得設置于其上的鍍膜元件在鍍膜加工時，可調節(jié)與靶材的距離，從而可以控制鍍膜元件鍍膜膜層的厚度。其四，本發(fā)明的鍍膜傘架整體結構簡單，便于安裝與拆卸，無需設計具有弧度的復雜曲面，有利于降低設計成本。其五，對于需要在不同表面鍍膜的鍍膜元件來說，采用本發(fā)明的鍍膜傘架便于實現(xiàn)自動翻轉鍍膜元件，可避免鍍膜元件受到污染，提高鍍膜制品的良率。


圖1是本發(fā)明一實施例提供的鍍膜傘架的示意圖，所述鍍膜傘架包括中心載盤、 外圍載盤及升降裝置。圖2是圖1所示的鍍膜傘架的局部放大示意圖。圖3是圖1所示的升降裝置與外圍載盤的示意圖。圖4是圖1所示的鍍膜傘架中的外圍載盤調整至某一角度與某一高度時的狀態(tài)示意圖。圖5是圖1所示的鍍膜傘架中的外圍載盤調整至另一角度與另一高度時的狀態(tài)示意圖。圖6是圖1所示的鍍膜傘架中的中心載盤及外圍載盤翻面后的示意圖。圖7是傳統(tǒng)鍍膜傘架的示意圖。主要元件符號說明傳統(tǒng)鍍膜傘架10承載孔12、53支撐架30中心支撐桿31外圍支撐桿32橫桿34驅動器36中心載盤40外圍載盤50第一載盤51第二載盤52 間隙54連接塊55連接軸57第一表面58第二表面59升降裝置60主體部61
滾筒63監(jiān)測器65纜繩67鍍膜傘架100第一端311第二端312連接端321安裝端322貫通槽324導孔325驅動軸361監(jiān)測孔65具體實施例方式下面將結合附圖及實施例對本技術方案作進一步詳細說明。請參閱圖1，本發(fā)明一實施例提供一種鍍膜傘架100，其包括一個支撐架30，一個中心載盤40，四個外圍載盤50，及四個升降裝置60。所述支撐架30具有一個長條狀的中心支撐桿31及四個長條狀的外圍支撐桿32。 所述中心支撐桿31位于所述支撐架30的中心位置。所述四個外圍支撐桿32圍繞所述中心支撐桿31且以所述中心支撐桿31為軸呈中心對稱設置。所述中心支撐桿31具有相對的第一端311與第二端312。所述外圍支撐桿32具有相對的連接端321與安裝端322。所述四個外圍支撐桿32中同向的四個連接端321分別通過一個橫桿34與所述中心支撐桿31 的第一端311相連接，由此，所述中心支撐桿31與所述四個外圍支撐桿32及四個橫桿34 構成一個整體，即所述支撐架30。本實施例中，所述四個橫桿34處于同一平面，每一個所述橫桿34的形狀尺寸皆相同，且所述四個橫桿34在所述中心支撐桿31的第一端311相交。每一所述外圍支撐桿32 皆平行于所述中心支撐桿31，每一所述外圍支撐桿32的長度尺寸皆與所述中心支撐桿31 的長度尺寸相同。當然，所述外圍支撐桿32與所述中心支撐桿31之間的關系并不局限于本實施例，如，每一所述外圍支撐桿32與所述中心支撐桿31之間可設置一個傾斜角度。進一步地，所述中心支撐桿31的第一端311與一個驅動器36的驅動軸361相連接，所述驅動器36通過所述驅動軸361驅動所述支撐架30以所述中心支撐桿31長度方向的中心軸為旋轉軸并繞其進行旋轉。 本實施例中，所述中心載盤40與所述外圍載盤50的形狀、結構及尺寸皆相同，以下，本實施例以外圍載盤50為例對其結構進行說明。請參閱圖2，所述外圍載盤50為平板圓盤，其由一個第一載盤51及一個第二載盤 52組成。所述第一載盤51與所述第二載盤52均開設有多個承載鍍膜元件的承載孔53。每一所述承載孔53均收容一個鍍膜元件(圖未示)，所述承載孔53的具體形狀結構可根據(jù)所承載的鍍膜元件的具體形狀結構進行設計，如長方形、圓形。本實施例中，所述第一載盤51 與所述第二載盤52均為半圓結構，分別位于所述外圍支撐桿32兩側，且所述第一載盤51與所述第二載盤52處在一個平面上并相對于所述外圍支撐桿32對稱。所述第 一載盤51與所述第二載盤52之間具有一個間隙54，所述間隙54大于或等于所述外圍支撐桿32的寬度，以確保所述外圍支撐桿32能通過所述間隙54。所述第一載盤51的半圓圓心位置與所述第二載盤52的半圓圓心位置分別設置有一個連接塊55。所述外圍支撐桿32的安裝端322位于所述兩個連接塊55之間，且所述安裝端322與所述兩個連接塊55通過一個連接軸57連接起來，所述連接軸57垂直或基本垂直于所述外圍支撐桿32。由此，所述第一載盤51與所述第二載盤52可以繞所述連接軸57相對于所述外圍支撐桿32同時旋轉，使所述外圍載盤50相對的第一表面58與第二表面59可以翻轉，亦即翻面，如圖1與圖2所示。可以理解的是，所述第一載盤51與所述第二載盤52也可以繞所述連接軸57分別朝不同方向進行旋轉，由此，可分別控制所述第一載盤51與所述第二載盤52各自所承載的鍍膜元件的鍍膜加工?？梢岳斫獾氖牵鐾鈬螚U32的安裝端322可以直接通過連接軸57分別連接在第一載盤51與第二載盤52之間，而不需要連接塊55。優(yōu)選地，所述橫桿34的截面尺寸小于或等于所述外圍支撐桿32的截面尺寸，由此，當所述外圍載盤50的半徑大于所述連接軸57與所述橫桿34的距離時，可確保所述橫桿34能通過所述間隙54。對于需要在不同表面鍍膜的鍍膜元件來說，當其承載于所述外圍載盤50的承載孔53時，驅動所述第一載盤51與所述第二載盤52繞所述連接軸57相對于所述外圍支撐桿32旋轉，即可改變鍍膜元件朝向靶材(圖未示)的角度，由此，可調節(jié)鍍膜元件鍍膜膜層的厚度；并且，通過驅動所述第一載盤51與所述第二載盤52繞所述連接軸57相對于所述外圍支撐桿32旋轉，還可使鍍膜元件相對的表面接受鍍膜，實現(xiàn)鍍膜元件不同表面的鍍膜加工?？梢岳斫獾氖?，所述連接軸57可以與驅動器(圖未示)連接，由此，通過控制驅動器，即可實現(xiàn)自動驅動所述第一載盤51與所述第二載盤52繞所述連接軸57相對于所述外圍支撐桿32旋轉，即可實現(xiàn)自動翻面。本實施例中，所述外圍載盤50由一個半圓結構的第一載盤51及一個半圓結構的第二載盤52組成。當然，所述外圍載盤50也可以由四個四分之一圓結構的載盤組成，由此， 所述外圍載盤50可以在兩個相互垂直的方向相對于所述外圍支撐桿32旋轉，實現(xiàn)不同方向的自動翻面。請一并參閱圖1與圖2，形狀、結構及尺寸皆與所述外圍載盤50相同的中心載盤 40，連接于中心支撐桿31的第二端312，所述中心載盤40與中心支撐桿31的連接結構皆相同于所述外圍載盤50與所述外圍支撐桿32的連接結構，即，中心載盤40與中心支撐桿31 的第二端312也通過兩個連接塊55及一個連接軸57連接起來，由此，所述中心載盤40中相對的兩個表面都可以實現(xiàn)翻轉。請參閱圖3，所述升降裝置60包括一個主體部61、一個滾筒63、一個監(jiān)測器65、及一條纜繩67。所述滾筒63收容于所述主體部61的收容空間內，所述滾筒63可以繞其轉軸 (圖未示)相對于所述主體部61旋轉。所述監(jiān)測器65具有一個監(jiān)測孔651，本實施例中， 所述監(jiān)測孔651的中心軸朝向所述滾筒63且垂直于所述滾筒63的轉軸。所述纜繩67穿過所述監(jiān)測孔651且繞過所述滾筒63。相應地，為實現(xiàn)所述升降裝置60與所述外圍支撐桿 32的連接，所述外圍支撐桿32沿其長度方向開設有一個貫通槽324及一個與所述貫通槽 324相通的導孔325。所述貫通槽324貫穿所述外圍支撐桿32外側面，所述連接軸57位于所述貫通槽324內且經由所述貫通槽324穿過所述外圍支撐桿32，同時，所述連接軸57可沿所述貫通槽324滑動，由此，所述外圍載盤50的第一載盤51及第二載盤52可隨所述連接軸57沿所述貫通槽324相對于對應的外圍支撐桿32上升或下降。所述纜繩67穿過所述監(jiān)測孔651且繞過所述滾筒63，并從所述導孔325穿出至所述貫通槽324與對應的所述外圍載盤50的連接軸57相連接。通過所述升降裝置60收放所述纜繩67，可以使所述外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32上升或下降?？?以理解的是，所述主體部61內部可以設置另一個滾筒63 (圖未示)用于纏繞所述纜繩67，由此，所述纜繩67可繞過主體部61內部的滾筒63且依次穿過所述監(jiān)測孔651 及所述導孔325與對應的所述外圍載盤50的連接軸57相連接。本實施例中，所述貫通槽324垂直于所述外圍支撐桿32的長度方向。所述導孔 325設于所述外圍支撐桿32的連接端321，且所述導孔325從所述連接端321的端面沿所述外圍支撐桿32的長度方向通至所述貫通槽324。本實施例中，所述升降裝置60設置于所述外圍支撐桿32的連接端321，即遠離所述外圍載盤50的一端。優(yōu)選地，所述升降裝置60由一個馬達(圖未示)驅動實現(xiàn)收放所述纜繩67，通過所述纜繩67帶動所述外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32上升或下降。由此，可以實現(xiàn)所述外圍載盤50相對于所述支撐架30的升降運動。所述監(jiān)測器65用于監(jiān)測并測量穿過所述監(jiān)測孔651的纜繩67所移動的距離，即， 所述監(jiān)測器65可以間接地測量所述外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32運動的距離?？梢岳斫獾氖?，測量所述纜繩67的移動距離的實現(xiàn)方式并不局限于本實施例中的所述監(jiān)測器65?？梢岳斫獾氖牵鐾鈬螚U32沿其長度方向可以設置對應所述外圍載盤50 上升或下降的距離的刻度。由此，通過所述外圍支撐桿32上的刻度，即可直觀地獲取所述外圍載盤50運動距離的信息。當然，所述外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32上升或下降的距離也可以由與所述監(jiān)測器65相連的顯示屏直接顯示出來。將所述鍍膜傘架100設置于鍍膜腔內時，通過所述升降裝置60控制所述外圍載盤 50沿與其對應的外圍支撐桿32上升或下降，即可調節(jié)所述外圍載盤50與靶材的距離。進一步地，固定所述中心載盤40上承載的鍍膜元件與靶材的位置關系，如鍍膜元件與靶材的角度、距離，并以所述中心載盤40上承載的鍍膜元件的鍍膜厚度為參考值，通過控制所述外圍載盤50與靶材的位置關系，即可以調節(jié)所述外圍載盤50上承載的鍍膜元件的鍍膜厚度?？梢岳斫獾氖?，為實現(xiàn)監(jiān)控外圍載盤50上承載的鍍膜元件的鍍膜厚度及均勻性， 也可以在所述中心載盤40上安裝檢測膜層厚度的比例控制器，通過比例控制器檢測出中心載盤40所承載的鍍膜元件的鍍膜厚度訊號，并反饋至控制中心，由控制中心根據(jù)相應的信息，控制外圍載盤50升降或旋轉，即可調節(jié)外圍載盤50上承載的鍍膜元件的鍍膜厚度。請一并參閱圖4與圖5，為所述鍍膜傘架100中的四個外圍載盤50旋轉至不同角度并調節(jié)至不同高度時的狀態(tài)示意圖?？芍ㄟ^控制所述外圍載盤50相對于各自對應的所述外圍支撐桿32的旋轉角度，即可使所述外圍載盤50以不同的角度朝向靶材，由此，可控制所述外圍載盤50上承載的鍍膜元件的鍍膜角度，同時，通過所述升降裝置60，又可以調節(jié)所述外圍載盤50相對于靶材的距離。由此，可控制所述外圍載盤50上承載的鍍膜元件的鍍膜厚度。 請參閱圖6，為所述鍍膜傘架100中的中心載盤40及外圍載盤50翻面后的示意圖，其中，中心載盤40與外圍載盤50各自的兩個相對的第一表面58與第二表面59已經翻轉至相對的方位，即，圖1中中心載盤40與外圍載盤50朝向靶材的第二表面59，已經翻轉至背離靶材，而圖1中中心載盤40與外圍載盤50背離靶材的第一表面58，已經翻轉至朝向靶材。由此，所述中心載盤40與所述外圍載盤50上承載的鍍膜元件可以進行不同表面的鍍膜加工?？梢岳斫獾氖牵鲥兡慵?00的具體形狀結構并不局限于本實施例，根據(jù)實際的鍍膜加工，中心支撐桿31與外圍支撐桿32，中心載盤40與外圍載盤50，皆可以設計為不同的尺寸及形狀。如，外圍支撐桿32的長度可以大于或小于中心支撐桿31的長度，外圍載盤50的尺寸可以大于或小于中心載盤40的尺寸，且中心載盤40與外圍載盤50可以設計為方形或橢圓形或不對稱的形狀。只要所述鍍膜傘架100中的中心載盤40與外圍載盤 50可以實現(xiàn)翻轉，同時外圍載盤50可以沿其對應的外圍支撐桿32上升或下降即可?？梢岳斫獾氖?，所述鍍膜傘架100中也可以設置其他數(shù)量的所述外圍載盤50，如在所述中心載盤40的周圍設計兩個、三個、五個或六個所述外圍載盤50，具體可以根據(jù)實際需要進行設置。可以理解的是，所述鍍膜傘架100承載鍍膜元件進行鍍膜加工時，一方面，所述中心載盤40與所述外圍載盤50可以一起隨所述支撐架30繞所述中心支撐桿31旋轉，以使鍍膜元件在不同方向接受靶材材料的鍍膜。另一方面，所述中心載盤40與所述外圍載盤50 也可以各自調節(jié)鍍膜角度或者翻面。同時，所述外圍載盤50可以在所述升降裝置60的控制下沿對應的外圍支撐桿32上升或下降，從而改變外圍載盤50與靶材的距離。由此，既可以調節(jié)承載于不同外圍載盤50上的鍍膜元件的鍍膜膜層，又可以調節(jié)承載于同一個外圍載盤50或中心載盤40上的鍍膜元件，還可以使同一個鍍膜元件相對的表面接受鍍膜加工?？梢岳斫獾氖?，外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32上升或下降的實現(xiàn)方式并不局限于本實施例中的升降裝置60，也可以利用其他結構控制外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32運動，如，將外圍支撐桿32設計為伸縮桿機構，使所述外圍支撐桿32可沿其長度方向伸縮，或者利用絲桿連接所述連接軸57，通過將絲桿的旋轉運動轉換為連接軸 57沿與其對應的外圍支撐桿32的直線運動，同樣可以實現(xiàn)控制外圍載盤50沿與其對應的外圍支撐桿32上升或下降，從而實現(xiàn)調節(jié)外圍載盤50與靶材的距離。相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明提供的鍍膜傘架具有如下優(yōu)點其一，鍍膜傘架為組合結構，區(qū)別于非傳統(tǒng)傘狀結構，便于收放保存，占據(jù)的空間較小，可以節(jié)省放置空間。其二，本發(fā)明的鍍膜傘架中的載盤除了可以整體旋轉以外，還可以旋轉變換鍍膜角度，可以有效地改善鍍膜膜層的均勻性、致密性及應力分布。其三，鍍膜傘架中可升降的外圍載盤，使得設置于其上的鍍膜元件在鍍膜加工時，可調節(jié)與靶材的距離，從而可以控制鍍膜元件鍍膜膜層的厚度。其四，本發(fā)明的鍍膜傘架整體結構簡單，便于安裝與拆卸，無需設計具有弧度的復雜曲面，有利于降低設計成本。其五，對于需要在不同表面鍍膜的鍍膜元件來說，采用本發(fā)明的鍍膜傘架便于實現(xiàn)自動翻轉鍍膜元件，可避免鍍膜元件受到污染，提高鍍膜制品的良率。
另外，本領域技術人員還可以在本發(fā)明精神內做其它變化，當然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內。
權利要求
1.一種鍍膜傘架，其包括一個中心支撐桿，所述中心支撐桿可以繞其長度方向的中心軸旋轉；一個中心載盤，所述中心載盤設置于所述中心支撐桿上；若干個外圍支撐桿，所述若干個外圍支撐桿圍繞并固定于所述中心支撐桿；及若干個外圍載盤，所述若干個外圍載盤分別設置于所述若干個外圍支撐桿上；其特征在于所述中心載盤與所述若干個外圍載盤均至少由一個第一載盤及一個第二載盤組成，所述中心載盤的第一載盤與第二載盤通過一個中心連接軸相連接，且所述中心載盤的第一載盤與第二載盤可以繞所述中心連接軸相對于所述中心支撐桿旋轉而分別實現(xiàn)翻面；所述若干個外圍載盤的第一載盤與第二載盤通過一個外圍連接軸相連接，且所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤可以繞所述外圍連接軸相對于對應的外圍支撐桿旋轉而分別實現(xiàn)翻面；所述外圍支撐桿進一步沿其長度方向開設有一個貫穿所述外圍支撐桿外側面的貫通槽，所述外圍連接軸位于與其對應的所述貫通槽內，對應的所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤分別位于所述貫通槽的兩側，所述外圍連接軸可以沿所述貫通槽滑動，使所述外圍載盤沿與其對應的外圍支撐桿上升或下降。
2.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述鍍膜傘架進一步包括至少一個升降裝置，所述至少一個升降裝置與至少一個所述外圍載盤的外圍連接軸相連接，所述升降裝置用于驅動對應的所述外圍載盤沿與其對應的外圍支撐桿上升或下降。
3.如權利要求2所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述升降裝置包括一個滾筒、一個具有監(jiān)測孔的監(jiān)測器、及一條纜繩；所述外圍支撐桿進一步從端部沿其長度方向開設有一個與所述貫通槽相通的導孔；所述纜繩繞過所述滾筒且依次穿過所述監(jiān)測孔及所述導孔與對應的所述外圍載盤的外圍連接軸相連接；所述升降裝置收放所述纜繩，使所述外圍載盤隨所述外圍連接軸沿所述貫通槽相對于對應的外圍支撐桿上升或下降；所述監(jiān)測器監(jiān)測所述纜繩的收放長度。
4.如權利要求3所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述升降裝置設置于所述外圍支撐桿中遠離所述外圍載盤的一端，所述升降裝置由一個馬達驅動實現(xiàn)收放所述纜繩，使所述外圍載盤沿與其對應的外圍支撐桿上升或下降。
5.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述鍍膜傘架進一步包括若干個橫桿， 所述若干個外圍支撐桿相對于所述中心支撐桿對稱設置，所述外圍支撐桿平行于所述中心支撐桿，且所述中心支撐桿與所述外圍支撐桿之間通過所述橫桿連接。
6.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述中心連接軸垂直于所述中心支撐桿，所述外圍連接軸垂直于對應的所述外圍支撐桿。
7.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述中心載盤的第一載盤與第二載盤相對于所述中心支撐桿對稱，所述若干個外圍載盤的第一載盤與第二載盤相對于與其對應的所述外圍支撐桿對稱。
8.如權利要求1至7中任一項所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述中心載盤與所述外圍載盤為平板圓盤，所述中心支撐桿與所述外圍支撐桿分別在所述中心載盤與所述外圍載盤的中心位置與所述中心載盤或所述外圍載盤連接。
9.如權利要求1至7中任一項所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述中心載盤或所述外圍載盤的第一載盤與第二載盤均為半圓結構，且分別對稱設置于所述中心支撐桿或所述外圍支撐桿的兩側。
10.如權利要求9所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述中心載盤或所述外圍載盤的第一載盤的半圓圓心位置與第二載盤的半圓圓心位置分別設置有一個連接塊，且所述連接塊通過所述中心連接軸或所述外圍連接軸與所述中心支撐桿或所述外圍支撐桿連接起來。
全文摘要
一種鍍膜傘架包括一中心支撐桿，一設置于中心支撐桿上的中心載盤，若干圍繞并固定于中心支撐桿的外圍支撐桿，及若干分別設置于所述若干外圍支撐桿上的外圍載盤。中心支撐桿可繞其長度方向的中心軸旋轉。中心載盤與外圍載盤均至少由一第一載盤及一第二載盤組成，中心載盤或外圍載盤的第一載盤與第二載盤分別通過連接軸相連接，且可繞連接軸相對于中心支撐桿或外圍支撐桿旋轉而分別實現(xiàn)翻面。外圍支撐桿進一步沿其長度方向開設有一貫穿外圍支撐桿外側面的貫通槽，外圍連接軸位于與其對應的貫通槽內，對應的外圍載盤的第一載盤與第二載盤分別位于貫通槽的兩側，外圍連接軸可以沿貫通槽滑動，使外圍載盤沿與其對應的外圍支撐桿上升或下降。
文檔編號C23C14/50GK102268652SQ20101019223
公開日2011年12月7日 申請日期2010年6月4日 優(yōu)先權日2010年6月4日
發(fā)明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司