專利名稱：一種免菲林陽圖ps版的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種免菲林陽圖PS版的制備方法。
背景技術(shù)：
陽圖型PS版是指采用陽圖正字原版，曝光的紫外光線透過原版上低密度和空白 部位到達(dá)PS版感光層，被感光劑吸收，至感光成字成圖。其原理是陽圖PS版在紫外光作用 下，發(fā)生分解和結(jié)構(gòu)重排反應(yīng)，使感光部位由稀堿不溶變?yōu)橄A可溶，同時(shí)隨著感光基團(tuán)的 消失，感光部位的顏色由綠色變?yōu)楦泄鈱又猩系念伾{(lán)色，目前在陽圖PS版的制作中需 要和菲林片配套使用，而菲林片成本較高，不適合普遍生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種免菲林陽圖PS版的制備方法，它不但不需要菲林片，而且擁有 多層次的砂目，氧化密度好，耐印率較高。本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案一種免菲林陽圖PS版的制備方法，它包括以下步 驟步驟一，首先選擇基片，讓基片在一定溫度下通過NaOH溶液進(jìn)行堿洗，然后再用清水 進(jìn)行清洗；步驟二，在常溫下對(duì)清洗后的基片用硫酸溶液進(jìn)行水中和，然后再用清水進(jìn)行 清洗；步驟三，對(duì)清洗后的基片表面進(jìn)行粗糙化處理；步驟四，將粗糙化后的基片用水進(jìn)行 沖洗，除去基片表面的電解灰，在一定溫度下通過堿溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻，化學(xué)蝕刻后進(jìn)行降 溫，再用酸溶液進(jìn)行第一次清洗，最后再用水進(jìn)行第二次清洗；步驟五，對(duì)清洗后的基片進(jìn) 行陽極氧化處理；步驟六，將經(jīng)過氧化處理后的基片在酸性溶液中浸漬封孔處理，然后進(jìn)行 烘干；步驟七，對(duì)烘干后的基片進(jìn)行涂布，形成感光層；步驟八，對(duì)形成感光層的基片，進(jìn)行 4道烘干處理，形成預(yù)制感光板；步驟九，將預(yù)制感光板進(jìn)行曝光成像，最后在成像后的預(yù) 制感光板上涂有顯影劑得到免菲林陽圖PS版。所述步驟一中的堿洗過程為用濃度為6-15%，溫度為45°C的NaOH溶液對(duì)基片 正反面進(jìn)行沖洗，時(shí)間為30秒左右；所述步驟二中的水中和過程為在常溫下，用濃度為 18-20%的硫酸溶液對(duì)基片正反面進(jìn)行沖洗，時(shí)間為30秒左右；所述步驟三中的粗糙化處理過程為將基片放入鹽酸、磷酸混合溶液中進(jìn)行三相 電解，形成多層砂目，混合溶液中鹽酸濃度為1. 2 % -1. 5 %，磷酸濃度為0. 6 %，混合溶液 溫度為26-32°C，交流電流為800A-900A，時(shí)間為1-120秒；所述步驟四中的化學(xué)蝕刻的溫 度為70°C，堿溶液包括26wt%的NaOH和6襯％鋁離子，化學(xué)蝕刻后溫度降至30°C，酸溶液 含有1襯％的硫酸和0. 5襯％的鋁離子；所述步驟五中的陽極氧化處理的過程為將基片 放入電解質(zhì)中通過直流電進(jìn)行電解反應(yīng)從而在基片的表面形成陽極氧化膜；電解質(zhì)為硫 酸、磷酸、鉻酸、氨基磺酸或者它們的混合物，電解溫度為10-40°C，電流密度為0. 5-60A/ dm2,電壓為l-50v，電解反應(yīng)時(shí)間為10-120秒；所述步驟六中封孔工藝為酸性溶液為磷 酸二氫鈉及氟化鈉混合溶液，比例為磷酸二氫鈉氟化鈉水=10 1 1000，電導(dǎo)率為 2800-3000 μ m, PH值為4_5，加熱到50°C -60°C，將基片在酸性溶液中浸漬20-30秒，然后用40-50°C的熱水進(jìn)行清洗；所述步驟七中的涂布液為普通PS版感光膠；所述步驟八中的四 道烘干的溫度為105°C、80°C、80°C、8(rC，通過遠(yuǎn)紅外加熱管進(jìn)行烘干，時(shí)間均為90秒；所 述步驟九中對(duì)預(yù)制感光板用寶利特機(jī)器進(jìn)行曝光處理，用普通PS版顯影液進(jìn)行顯影。本發(fā)明具有以下有益效果本發(fā)明提供了一種免菲林陽圖PS版的制備方法，它不 但不需要菲林片，而且擁有多層次的砂目，氧化密細(xì)致且密度好，耐印率較高。
具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供了一種免菲林陽圖PS版的制備方法，它包括以下步驟步驟一，首先 選擇基片，讓基片在一定溫度下通過NaOH溶液進(jìn)行堿洗，然后再用清水進(jìn)行清洗；堿洗過 程為用濃度為6-15%，溫度為45°C的NaOH溶液對(duì)基片正反面進(jìn)行沖洗，時(shí)間為30秒左 右。步驟二，在常溫下對(duì)清洗后的基片用硫酸溶液進(jìn)行水中和，然后再用清水進(jìn)行清洗；水 中和過程為在常溫下，用濃度為18-20%的硫酸溶液對(duì)基片正反面進(jìn)行沖洗，時(shí)間為30秒 左右。步驟三，對(duì)清洗后的基片表面進(jìn)行粗糙化處理；粗糙化處理過程為將基片放入鹽 酸、磷酸混合溶液中進(jìn)行三相電解，形成多層砂目，混合溶液中鹽酸濃度為1.2% -1.5%, 磷酸濃度為0. 6%，混合溶液溫度為26-32°C，交流電流為800A-900A，時(shí)間為1-120秒。步 驟四，將粗糙化后的基片用水進(jìn)行沖洗，除去基片表面的電解灰，在一定溫度下通過堿溶液 進(jìn)行化學(xué)蝕刻，化學(xué)蝕刻后進(jìn)行降溫，再用酸溶液進(jìn)行第一次清洗，最后再用水進(jìn)行第二次 清洗；化學(xué)蝕刻的溫度為70°C，堿溶液包括26襯％的NaOH和6wt %鋁離子，化學(xué)蝕刻后溫 度降至30°C，酸溶液含有Iwt %的硫酸和0. 5wt%的鋁離子。步驟五，對(duì)清洗后的基片進(jìn) 行陽極氧化處理；陽極氧化處理的過程為將基片放入電解質(zhì)中通過直流電進(jìn)行電解反應(yīng) 從而在基片的表面形成陽極氧化膜；電解質(zhì)為硫酸、磷酸、鉻酸、氨基磺酸或者它們的混合 物，電解溫度為10-40°C，電流密度為0. 5-60A/dm2,電壓為l_50v，電解反應(yīng)時(shí)間為10-120 秒。步驟六，將經(jīng)過氧化處理后的基片在酸性溶液中浸漬封孔處理，然后進(jìn)行烘干；封孔 工藝為酸性溶液為磷酸二氫鈉及氟化鈉混合溶液，比例為磷酸二氫鈉氟化鈉水= 10 1 1000，電導(dǎo)率為2800-3000 μ m，PH值為4-5，加熱到50°C-60°c，將基片在酸性溶 液中浸漬20-30秒，然后用40-50°C的熱水進(jìn)行清洗。步驟七，對(duì)烘干后的基片進(jìn)行涂布， 形成感光層；涂布液為普通PS版感光膠。步驟八，對(duì)形成感光層的基片，進(jìn)行4道烘干處 理，形成預(yù)制感光板；四道烘干的溫度為105°C、80°C、8(TC、8(rC，通過遠(yuǎn)紅外加熱管進(jìn)行 烘干，時(shí)間均為90秒。步驟九，通過寶利特機(jī)器對(duì)預(yù)制感光板進(jìn)行曝光成像，最后在成像后 的預(yù)制感光板上涂有顯影劑得到免菲林陽圖PS版，顯影劑為普通PS版顯影液。
權(quán)利要求
一種免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是它包括以下步驟步驟一，首先選擇基片，讓基片在一定溫度下通過NaOH溶液進(jìn)行堿洗，然后再用清水進(jìn)行清洗；步驟二，在常溫下對(duì)清洗后的基片用硫酸溶液進(jìn)行水中和，然后再用清水進(jìn)行清洗；步驟三，對(duì)清洗后的基片表面進(jìn)行粗糙化處理；步驟四，將粗糙化后的基片用水進(jìn)行沖洗，除去基片表面的電解灰，在一定溫度下通過堿溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻，化學(xué)蝕刻后進(jìn)行降溫，再用酸溶液進(jìn)行第一次清洗，最后再用水進(jìn)行第二次清洗；步驟五，對(duì)清洗后的基片進(jìn)行陽極氧化處理；步驟六，將經(jīng)過氧化處理后的基片在酸性溶液中浸漬封孔處理，然后進(jìn)行烘干；步驟七，對(duì)烘干后的基片進(jìn)行涂布，形成感光層；步驟八，對(duì)形成感光層的基片，進(jìn)行4道烘干處理，形成預(yù)制感光板；步驟九，將預(yù)制感光板進(jìn)行曝光成像，最后在成像后的預(yù)制感光板上涂有顯影劑得到免菲林陽圖PS版。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟一中的 堿洗過程為用濃度為6-15%，溫度為45°C的NaOH溶液對(duì)基片正反面進(jìn)行沖洗，時(shí)間為30秒左右。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟二中的 水中和過程為在常溫下，用濃度為18-20%的硫酸溶液對(duì)基片正反面進(jìn)行沖洗，時(shí)間為30秒左右。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟三中的 粗糙化處理過程為將基片放入鹽酸、磷酸混合溶液中進(jìn)行三相電解，形成多層砂目，混合 溶液中鹽酸濃度為1. 2% -1. 5%，磷酸濃度為0. 6%，混合溶液溫度為26-32°C，交流電流為 800A-900A，時(shí)間為 1-120 秒。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟四中的 化學(xué)蝕刻的溫度為70°C，堿溶液包括26wt%的NaOH和6襯％鋁離子，化學(xué)蝕刻后溫度降至 30°C，酸溶液含有Iwt %的硫酸和0. 5wt%的鋁離子。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟五中的 陽極氧化處理的過程為將基片放入電解質(zhì)中通過直流電進(jìn)行電解反應(yīng)從而在基片的表 面形成陽極氧化膜；電解質(zhì)為硫酸、磷酸、鉻酸、氨基磺酸或者它們的混合物，電解溫度為 10-40°C，電流密度為0. 5-60A/dm2,電壓為l_50v，電解反應(yīng)時(shí)間為10-120秒。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟六中封 孔工藝為酸性溶液為磷酸二氫鈉及氟化鈉混合溶液，比例為磷酸二氫鈉氟化鈉水= 10 1 1000，電導(dǎo)率為2800-3000 μ m，PH值為4-5，加熱到50°C-60°c，將基片在酸性溶 液中浸漬20-30秒，然后用40-50°C的熱水進(jìn)行清洗。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟七中的涂布 液為普通PS版感光膠。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟八中的四道 烘干的溫度為105°C、80°C、80°C、8(rC，通過遠(yuǎn)紅外加熱管進(jìn)行烘干，時(shí)間均為90秒。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的免菲林陽圖PS版的制備方法，其特征是所述步驟九中對(duì)預(yù) 制感光板用寶利特機(jī)器進(jìn)行曝光處理，用普通PS版顯影液進(jìn)行顯影。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種免菲林陽圖PS版的制備方法，選擇基片讓其通過NaOH溶液進(jìn)行堿洗后進(jìn)行清洗；對(duì)清洗后的基片用硫酸溶液進(jìn)行水中和，然后再進(jìn)行清洗；對(duì)清洗后的基片表面進(jìn)行粗糙化處理；將粗糙化后的基片用水進(jìn)行沖洗，除去基片表面的電解灰，在一定溫度下通過堿溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻，化學(xué)蝕刻后進(jìn)行降溫，再用酸溶液進(jìn)行第一次清洗，最后用水進(jìn)行第二次清洗；對(duì)清洗后的基片進(jìn)行陽極氧化處理；將經(jīng)過氧化處理后的基片在酸性溶液中浸漬封孔處理，然后進(jìn)行烘干；對(duì)烘干后的基片進(jìn)行涂布，形成感光層；對(duì)形成感光層的基片，進(jìn)行4道烘干處理，形成預(yù)制感光板；將預(yù)制感光板進(jìn)行曝光成像，在成像后的預(yù)制感光板上涂有顯影劑得到免菲林陽圖PS版。
文檔編號(hào)C23F1/32GK101881928SQ20101020464
公開日2010年11月10日 申請(qǐng)日期2010年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月22日
發(fā)明者劉華禮 申請(qǐng)人:劉華禮