專利名稱：氣體噴灑模塊及其氣體噴灑掃描裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種氣體噴灑模塊，尤其涉及一種可藉由掃描方式將氣體均勻分布至基材上的一種氣體噴灑模塊及其氣體噴灑掃描裝置。
背景技術(shù)：
隨著薄膜工藝的進(jìn)步，在鍍膜的過程中沉積的面積越來越大，而在沉積過程中氣體的均勻度對于沉積的效果影響很大，而影響氣體均勻度的諸多因素中，氣體噴灑模塊扮演相當(dāng)重要的角色。如圖1所示，該圖是為現(xiàn)有的美國專利US. Pat. No. 7，270，713所教導(dǎo)的一種氣體噴灑模塊分解示意圖。在該技術(shù)中，氣體噴灑模塊主要是由多層板狀結(jié)構(gòu)10所構(gòu)成，一般而言，其在板體100上鉆設(shè)多個孔洞，使得氣體可以預(yù)先混合并且均勻的噴灑至腔體內(nèi)。在圖1的技術(shù)中，工藝氣體進(jìn)入混合腔11混合后，再從喇叭狀的出氣孔噴灑而出。此外，又如美國公開專利US. Pat. No. 6，478，872則揭露一種氣體不會預(yù)先混合的氣體噴灑模塊構(gòu)造， 其是由金屬圓板所構(gòu)成。該金屬噴灑模塊將兩種氣體分別導(dǎo)引，然后在噴灑模塊外部噴灑出兩種工藝氣體。不過隨著工藝能力的提升，待加工基材的面積變大，因此氣體噴灑模塊的長寬尺寸也必須隨著待加工基材的面積增加。由于噴灑模塊的尺寸增加，因此導(dǎo)致在加工時需要增加工時與成本。此外，在制造大面積的噴灑模塊時，隨著尺寸增加，則鉆孔數(shù)也增加，進(jìn)而在噴灑氣體的均勻度上控制不易。為了提高大尺寸基板工藝的氣體噴灑模塊均勻度以及降低其制作成本，簡化氣體噴灑模塊的結(jié)構(gòu)設(shè)計是一個重要的課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種氣體噴灑模塊，其是藉由單一層的結(jié)構(gòu)設(shè)計，并不要經(jīng)過復(fù)雜的加工以及組裝，不但可以降低制造以及組裝的成本，而且可以有效的將氣體均勻的混合。在一實施例中，本發(fā)明提供一種氣體噴灑模塊，其包括有一本體；一對擴散通道部，其形成于該本體內(nèi)；一對進(jìn)氣部，其分別與該對擴散通道部相連通；以及一出氣部，其設(shè)置于該本體內(nèi)且分別與該對擴散通道部相連接，該出氣部于該本體的一表面上具有至少
一出口。在另一實施例中，本發(fā)明提供一種氣體噴灑掃描裝置，其包括有一氣體噴灑模塊、一位移驅(qū)動單元，氣體噴灑模塊具有一本體；一對擴散通道部，其形成于該本體內(nèi)；一對進(jìn)氣部，其分別與該對擴散通道部相連通；以及一出氣部，其設(shè)置于該本體內(nèi)且分別與該對擴散通道部相連接，該出氣部于該本體的一表面上具有至少一出口 ；位移驅(qū)動單元提供至少一維度的線性位移運動，使該氣體噴灑模塊與設(shè)置于該氣體噴灑模塊一側(cè)的一基材產(chǎn)生相對運動。本發(fā)明的功效在于，本發(fā)明提供的氣體噴灑模塊，其采用擴散區(qū)與混合區(qū)分離的
4設(shè)計，首先將氣體噴入到小體積的擴散腔(或擴散孔)內(nèi)均勻擴散，均勻擴散的氣體可以被預(yù)先混合或者是分別導(dǎo)引出噴灑模塊再進(jìn)行混合，最后藉由本發(fā)明的噴灑模塊使得混合后的氣體可以均勻的灑布在基材上。本發(fā)明提供的氣體噴灑掃描模塊，該氣體噴灑模塊藉由線性位移運動的方式，通過基材上的表面，使得噴灑模塊所灑布的氣體可以均勻的分布于基材的表面，使得在大尺寸的基材上也可以均勻的將氣體灑布以提升工藝的良率。以下結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的限定。


圖1為現(xiàn)有的美國專利US. Pat. No. 7，270，713所教導(dǎo)的一種氣體噴灑模塊分解示意圖；圖2A與圖2B為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第一實施例局部立體透視與剖面示意圖；圖2C為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第一實施例立體示意圖；圖2D為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第一實施例先趨氣體混合示意圖；圖3A為本發(fā)明的圖2A所示出氣通道組的出氣通口排列示意圖；圖;3B與圖3C為本發(fā)明的出氣通道組的出氣通口排列另一實施例示意圖；圖4A至圖4D分別為本發(fā)明的出氣通道開口輪廓示意圖；圖5為本發(fā)明的出氣部另一實施例示意圖；圖6A至圖6C為出氣通道的出口輪廓示意圖；圖7A與圖7B為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第二實施例立體示意圖以及剖面示意圖；圖8A為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第三實施例立體與局部透視示意圖；圖8B為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第三實施例的剖面示意圖；圖9為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第四實施例剖面示意圖；圖10為本發(fā)明的第四實施例的出氣部另一實施例示意圖；圖11為本發(fā)明的氣體噴灑掃描裝置第一實施例示意圖；圖12A為本發(fā)明的氣體噴灑掃描裝置第一實施側(cè)視示意圖；圖12B為本發(fā)明的氣體噴灑掃描裝置第二實施側(cè)視示意圖。其中，附圖標(biāo)記10-多層板狀結(jié)構(gòu)10100-板體11-混合腔2-氣體噴灑膜組20-本體21、22-擴散通道部210、220_第一擴散通道211、221-第二擴散通道212、222_ 連絡(luò)通道213、223-鉆口214、224-柱塞
215、225_ 第一擴散槽216、226_ 第二擴散槽217、227-連絡(luò)通道218、228_ 連絡(luò)通道23、24-進(jìn)氣部230、240-氣體通道25-出氣部250、251-出氣通道組252-混合氣通道253-混合氣開槽2500、2510-出氣通道26-開槽27-混合槽體28、290、291、292-側(cè)板293-氣密組件90-法向量91、92_先趨氣體3-氣體噴灑掃描模塊30-位移驅(qū)動單元31-基材32-載臺33-基材
具體實施例方式為了能對本發(fā)明的特征、目的及功能有更進(jìn)一步的認(rèn)知與了解，下文特將本發(fā)明的裝置的相關(guān)細(xì)部結(jié)構(gòu)以及設(shè)計的理念原由進(jìn)行說明，本發(fā)明的特點詳細(xì)說明陳述如下請參閱圖2A與圖2B所示，該圖為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第一實施例立體與剖面示意圖。該氣體噴灑模塊2包括有一本體20、一對擴散通道部21與22、一對進(jìn)氣部23與 M以及一出氣部25。該本體20可以為一金屬或者是非金屬的結(jié)構(gòu)本體。在本實施例中，該本體雖為一長條狀的矩形本體，但其構(gòu)形并不以該形狀為限制。該對擴散通道部21與22， 其形成于該本體20內(nèi)的兩側(cè)。在本實施例中，該對擴散通道部21與22分別為一第一擴散通道210與220，其貫穿該本體20分別與該進(jìn)氣部23與M與該出氣部25相連通。該對進(jìn)氣部23與M，在本實施例中，為至少一個與該第一擴散通道210與220相連接的氣體通道 230與M0，其數(shù)量只要有至少一個或者是多個都可以實施。該出氣部25在本實施例中， 為一對分別與第一擴散通道210與220相連接的出氣通道組250與251。每一出氣通道組 250或251具有多個出氣通道2500與2510。請參閱圖3A所示，該圖為本發(fā)明的圖2A所示出氣通道組的出氣通口排列示意圖。根據(jù)圖2A與圖3A所示的實施例中，該出氣通道2500 與2510的開口呈現(xiàn)交錯重疊排列的分布方式，使噴出的氣體在該氣體噴灑模塊移動進(jìn)行掃描的過程中可以完整且均勻的將氣體噴灑在被掃描的平面(基材)上。當(dāng)然也可以呈現(xiàn)如圖:3B與圖3C所示的直線形的排列，其排列方式根據(jù)需要而定，并無一定的限制。如圖4A至圖4D所示，該圖分別為本發(fā)明的出氣通道開口輪廓示意圖。出氣通道 2500或2510的出口輪廓形狀可以有各種不同的形式，可以根據(jù)需要而定，并不以圖4A至 4D所示的實施態(tài)樣為限制。開口的輪廓可以為多邊形，例如圖4A的矩形，或者是具有弧度的輪廓，例如圖4B的圓形開口、圖4C的橢圓形開口或者是如圖4D的長形狀的開口等。 除了通道形式的方式之外，如圖5所示，該圖為本發(fā)明的出氣部另一實施例示意圖。在圖5 的實施例中，為了方便說明只繪出了單一側(cè)的出氣部，而該出氣部為一開槽26，其與該擴散通道部21相連接。再回到圖2A與圖2B所示，在該出氣部25的出口處，還可以形成混合槽體27，使得出氣部25開口處的氣體更容易混合均勻。在本實施例中，該混合槽體27的截面形狀為三角形，但不以此為限，例如圖6A所示的矩形或者是具有弧形(如圖6B所示的半圓形或圖6C所示的半橢圓)的截面形狀都可以實施。要說明的是，即使是沒有混合槽體27的結(jié)構(gòu)，也不影響圖2A與圖2B所示的氣體噴灑模塊的噴灑氣體的效果。當(dāng)然，如果有該混合槽體27則可以增加氣體混合的均勻度。在圖2B中，可以看出兩側(cè)出氣通道組250與251所具有相對應(yīng)的出氣通道2500與2510的中心軸線具有一夾角Θ。由于具有夾角θ之故，可以使由出氣部25噴出的氣體相互撞擊進(jìn)而增加了均勻混合的效果。當(dāng)然，如果為圖5所示的開槽結(jié)構(gòu)的出氣部26時，則同樣在出口面的法向量90也是具有一夾角，以增加氣體混合的效果。如圖2C所示，該本體20的兩側(cè)還可以設(shè)置側(cè)板觀封住本體20兩端的第一擴散通道的開口以及混合槽體的開口，以形成一封閉的氣體擴散通道并避免氣體外泄。接下來說明，氣體噴灑模塊的運作方式，如圖2D所示，該氣體噴灑模塊2由兩側(cè)的進(jìn)氣部23與M送入不同的先趨氣體91與92。先趨氣體91與92的種類根據(jù)工藝需要而定，并無一定的限制，當(dāng)先趨氣體91與92由兩側(cè)的進(jìn)氣部23與M進(jìn)入本體20時，會先撞擊到該對擴散通道部21與22中的第一擴散通道210與220，由于出氣部25的通道與進(jìn)氣部23與M的通道具有一夾角，因此先趨氣體在轉(zhuǎn)折的過程中還可以增加先趨氣體分布的均勻度，避免先趨氣體集中在進(jìn)氣部23與M附近的出氣部25。當(dāng)先趨氣體分別由對應(yīng)的出氣通道組250與251噴出時，由于該對出氣通道組250與251相對應(yīng)的出氣通道2500 與2510的中心線具有夾角，因此可以讓由該對出氣部25噴出的氣體相互撞擊，增加氣體混合的均勻度。請參閱圖7Α與圖7Β所示，該圖為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第二實施例立體示意圖以及剖面示意圖。其氣體噴灑模塊的結(jié)構(gòu)基本上與圖2Α相似，差異的是在于該氣體噴灑模塊的擴散通道部的設(shè)計，也即本實施例中的每一個擴散通道部所具有的擴散通道可以為多個。在圖7Α與圖7Β所示的實施例中，每一個擴散通道部21與22具有一第一擴散通道210 與220以及一第二擴散通道211與221。每一第二擴散通道211與221藉由一連絡(luò)通道212 與222與對應(yīng)的第一擴散通道210與220相連接。由于形成連絡(luò)通道212與222的加工方式為鉆孔加工之故，因此在該第二擴散通道211與221上對應(yīng)每一個連絡(luò)通道212與222 處都有鉆口 213與223 (鉆孔加工所形成)，因此在每一個鉆口 213與223上可以柱塞214 與2Μ封住，以形成一封閉的氣體擴散通道并避免氣體外泄。至于連絡(luò)通道212與222的數(shù)量，根據(jù)需要而定并無一定的限制，連絡(luò)通道212與222的主要用意在于將第一擴散通道 210與220內(nèi)的氣體導(dǎo)引至第二擴散通道211與221。該第二擴散通道211與221還與出氣部25的出氣通道組250與251或者是出氣開槽26 (如圖5所示)相連接。同樣地，在該本體20的兩側(cè)還具有側(cè)板28，以封住本體20兩端的第一與第二擴散通道210、220、211與 221的開口以及混合槽體27的開口，以形成一封閉的氣體擴散通道并避免氣體外泄。當(dāng)先趨氣體經(jīng)由進(jìn)氣部進(jìn)入到擴散通道部21與22的第一擴散通道210與220以及第二擴散通道211與221時，由于該第一擴散通道210與220要進(jìn)入該第二擴散通道211與221以及該第二擴散通道211與221要進(jìn)入出氣部25的出氣通道這兩個區(qū)域具有轉(zhuǎn)折的效果，因此可以讓先趨氣體藉由該第一擴散通道210與220以及該第二擴散通道211與221的輔助而擴散，進(jìn)而增加分布的均勻度。至于出氣部25的出氣通道出口的部分如前所述，在此不作贅述。請參閱圖8A與圖8B所示，其中圖8A為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第三實施例立體與局部透視示意圖；圖8B為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第三實施例的剖面示意圖。在本實施例中，該氣體噴灑模塊的結(jié)構(gòu)基本上與圖7A與圖7B相似，差異的是在于該氣體噴灑模塊的擴散通道部21與22的加工方式與形成的結(jié)構(gòu)不同。在圖2B或圖7B的實施例中，第一擴散通道210與220與第二擴散通道211與221是利用鉆孔加工所形成的通道，而這類型的通道實施例會受限于鉆孔加工所使用的鉆頭的長度。因為鉆孔加工所使用的鉆頭在長度上還是有其極限，無法隨著基材尺寸增大而無限增加。因此，如果利用圖8A與圖8B的槽體結(jié)構(gòu)則可以使長度大幅加長，克服擴散通道長度的限制而適用于大型的氣體噴灑模塊以對大尺寸基材進(jìn)行加工。在圖8A與圖8B所示的實施例中，是為利用本體20上形成第一擴散槽215 與225以及一第二擴散槽216與226。第一擴散槽215與225與第二擴散槽216與226的形式可以與本體長度相近，也即為一整條的槽體結(jié)構(gòu)或者是由多個槽體排列而成。而形成槽體結(jié)構(gòu)的方式可利用銑床加工而成。該第一擴散槽215與225，其開設(shè)的位置是位于該本體20的兩側(cè)表面上，該本體 20上對應(yīng)該第一擴散槽215與225的位置上還分別覆蓋有一第一蓋體290與四1。而該第二擴散槽216與226，其開設(shè)的位置是位于該本體20的上表面上，藉由至少一連絡(luò)通道217 與227與該第一擴散槽215與225相聯(lián)接，該第二擴散槽216與2 上還覆蓋有一第二蓋體四2。為了避免漏氣，在第一蓋體四0與以及第二蓋體四2與本體20之間分別具有氣密組件四3，例如0形環(huán)等組件。本實施例的氣體擴散均勻分布以及混合均勻的功效如前所述，在此不作贅述。至于進(jìn)氣部23與M則分別開設(shè)于側(cè)板290與291上。前述的氣體噴灑模塊的第一至第三實施例皆為氣體非預(yù)先混合的實施例，也就是先趨氣體在本體內(nèi)都是獨立流動與擴散，而到該本體外才混合。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)計精神， 也可以應(yīng)用于預(yù)先混合的實施例中。請參閱圖9所示，該圖為本發(fā)明的氣體噴灑模塊第四實施例剖面示意圖。在本實施例中，該進(jìn)氣部23與M、擴散通道部21與22的結(jié)構(gòu)基本上與圖2B與圖7B的實施例類似，差異的是該出氣部為多個分別獨立的混合氣通道252，其藉由開設(shè)于該本體20上的一混合腔200與該對擴散通道部21與22相連接。該混合腔200， 藉由連絡(luò)通道218與2 與擴散通道部21與22的第一擴散通道210與220相連接。在另一實施例中，如圖10所示，該出氣部25為一混合氣開槽253所構(gòu)成。藉由第四實施例的結(jié)構(gòu)，當(dāng)兩側(cè)的不同先趨氣體分別藉由兩側(cè)的進(jìn)氣部23與M進(jìn)入本體20之后，藉由該擴散通道部21與22的導(dǎo)引使得氣體擴散均勻度增加，再進(jìn)入到混合腔200內(nèi)進(jìn)行混合，混合之后，再藉由該出氣部25的通道或開槽噴出。要說明的是，雖然圖9的結(jié)構(gòu)中的擴散通道部21與22的氣體擴散通道僅有一個，但是也可以根據(jù)圖7A與圖7B所示的結(jié)構(gòu)予以變化。請參閱圖11所示，該圖為本發(fā)明的氣體噴灑掃描裝置實施例示意圖。該氣體噴灑掃描裝置3包括有一位移驅(qū)動單元30以及一氣體噴灑模塊2。該位移驅(qū)動單元30，其是提供至少一維度的線性位移運動，本實施例中可進(jìn)行三維的線性位移運動。該氣體噴灑模塊2 其是與該位移驅(qū)動單元30相耦接，且設(shè)置于一基材31的一側(cè)，藉由該位移驅(qū)動單元30所提供的線性位移運動，使得該氣體噴灑模塊2進(jìn)行線性位移的掃描運動。該氣體噴灑模塊 2可以選擇前述的第一至第四個實施例所示的氣體噴灑模塊。如圖12A所示，利用本發(fā)明的氣體噴灑掃描裝置3可以在大面積的平板基材31上，將先趨氣體91與92均勻的混合而且噴灑在基材31上，以完成真空鍍膜的工藝。在圖11與12A為氣體噴灑模塊移動，而基材 31不動的實施例，在另一實施例中，該移驅(qū)動單元30也可以與承載基材31的載臺32相耦接，以驅(qū)動載臺32產(chǎn)生線性位移運動，而氣體噴灑模塊不移動。另外，該基材除了為平板基材之外，如圖12B所示，該圖為基材另一實施例示意圖。在本實施例中，該基材33為卷對卷 (roll-to-roll)的基材。當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種氣體噴灑模塊，其特征在于，包括有一本體；一對擴散通道部，其形成于該本體內(nèi)；一對進(jìn)氣部，其分別與該對擴散通道部相連通；以及一出氣部，其設(shè)置于該本體內(nèi)且分別與該對擴散通道部相連接，該出氣部于該本體的一表面上具有至少一出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，每一擴散通道部還具有至少一第一擴散通道，其分別設(shè)置于該本體內(nèi)部，其中該本體的兩側(cè)還可以分別設(shè)置一側(cè)板封住本體兩端對應(yīng)該至少一第一擴散通道的開口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，該對進(jìn)氣部分別設(shè)置于該本體的兩側(cè)，每一進(jìn)氣部具有至少一進(jìn)氣通道。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，每一擴散通道部還具有一第一擴散通道；以及一第二擴散通道，其藉由至少一連絡(luò)通道與該第一擴散通道相聯(lián)接；其中該本體的兩側(cè)還可以分別設(shè)置一側(cè)板封住本體兩端對應(yīng)該第一擴散通道與第二擴散通道的開口。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，該出氣部具有一對開槽，其分別與該對擴散通道部相連接，該對開槽所具有的槽口的法向量具有一夾角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，該出氣部具有一對出氣通道組， 每一出氣通道組具有多個出氣通道，其中該對出氣通道組中相對應(yīng)的氣體通道中心線具有一夾角，該多個出氣通道呈現(xiàn)一直線排列或者是交錯排列。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，該本體的表面上還具有一混合槽體，其與該對出氣部的至少一出氣口相連接，該混合槽體的截面為一三角形、矩形或者是弧形截面，其中該至少一出氣口的輪廓為多邊形或者是具有弧度的輪廓。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，該出氣部為一混合氣開槽或者是多個混合氣通道，其藉由開設(shè)于該本體上的一混合腔與該對擴散通道部相連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，每一擴散通道部還具有一第一擴散槽，其開設(shè)位置位于該本體的表面上，該本體上對應(yīng)該第一擴散槽的位置上還覆蓋有一第一蓋體；以及一第二擴散槽，其開設(shè)位置位于該本體的表面上，藉由至少一連絡(luò)通道與該第一擴散槽相聯(lián)接，該第二擴散槽上還覆蓋有一第二蓋體。
10.一種氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，包括有一氣體噴灑模塊，其具有一本體、一對擴散通道部、一對進(jìn)氣部、一出氣部，該對擴散通道部形成于該本體內(nèi)；該對進(jìn)氣部分別與該對擴散通道部相連通；該出氣部設(shè)置于該本體內(nèi)且分別與該對擴散通道部相連接，該出氣部于該本體的一表面上具有至少一出口 ；以及一位移驅(qū)動單元，其提供至少一維度的線性位移運動，使該氣體噴灑模塊與設(shè)置于該氣體噴灑模塊一側(cè)的一基材產(chǎn)生相對運動。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，每一擴散通道部還具有至少一第一擴散通道，其分別設(shè)置于該本體內(nèi)部，其中該本體的兩側(cè)還可以分別設(shè)置一側(cè)板封住本體兩端對應(yīng)該至少一第一擴散通道的開口。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該對進(jìn)氣部分別設(shè)置于該本體的兩側(cè)，每一進(jìn)氣部具有至少一進(jìn)氣通道。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，每一擴散通道部還具有一第一擴散通道；以及一第二擴散通道，其藉由至少一連絡(luò)通道與該第一擴散通道相聯(lián)接；其中該本體的兩側(cè)還分別設(shè)置一側(cè)板封住本體兩端對應(yīng)該第一擴散通道與第二擴散通道的開口。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該出氣部具有一對開槽， 其分別與該對擴散通道部相連接，該對開槽所具有的槽口的法向量具有一夾角。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該出氣部具有一對出氣通道組，每一出氣通道組具有多個出氣通道，其中該對出氣通道組中相對應(yīng)的氣體通道中心線具有一夾角，其中該多個出氣通道呈現(xiàn)一直線排列或者是交錯排列。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該本體的表面上還具有一混合槽體，其與該對出氣部的至少一出氣口相連接，其中該混合槽體的截面為一三角形、 矩形或者是弧形截面，其中該至少一出氣口的輪廓為多邊形或者是具有弧度的輪廓。
17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該出氣部為一混合氣開槽或者是多個混合氣通道，其藉由開設(shè)于該本體上的一混合腔與該對擴散通道部相連接。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，每一擴散通道部還具有一第一擴散槽，其開設(shè)位置位于該本體的表面上，該本體上對應(yīng)該第一擴散槽的位置上還覆蓋有一第一蓋體；以及一第二擴散槽，其開設(shè)位置位于該本體的表面上，藉由至少一連絡(luò)通道與該第一擴散槽相聯(lián)接，該第二擴散槽上還覆蓋有一第二蓋體。
19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該位移驅(qū)動單元驅(qū)動該氣體噴灑模塊產(chǎn)生線性位移運動或者是驅(qū)動該承載該基材的載臺產(chǎn)生線性位移運動。
20.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體噴灑掃描裝置，其特征在于，該基材為平板基材或者是卷對卷基材。
全文摘要
本發(fā)明公開一種氣體噴灑模塊及其氣體噴灑掃描裝置，氣體噴灑模塊，其可以提供導(dǎo)引多種氣體，并使該氣體在模塊內(nèi)藉由氣體通道的轉(zhuǎn)折產(chǎn)生均勻擴散，使得氣體可以均勻分布在氣體噴灑模塊內(nèi)，在經(jīng)由氣體出口通道的導(dǎo)引均勻噴灑至基材上。此外，本發(fā)明還提供一種氣體噴灑掃描裝置，其將氣體噴灑模塊或者是承載基材的承載臺耦設(shè)在可提供線性位移運動的位移驅(qū)動單元上，藉由線性位移運動將氣體均勻灑布在基材上。
文檔編號C23C16/455GK102443781SQ20101050398
公開日2012年5月9日 申請日期2010年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月30日
發(fā)明者江銘通 申請人:財團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院