專利名稱：一種防著板表面處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空濺鍍技術(shù)，特別涉及真空濺鍍的防著板表面處理方法。
背景技術(shù)：
真空濺鍍是由電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞， 電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺 射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，而最終達(dá)到對(duì)基片 表面鍍膜的目的。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛 在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下 圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞 電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束 縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在基片上，或少量的沉積在真空室內(nèi)壁。然而，在上述真空濺鍍的過程中，濺射出的靶材原子或大尺寸的顆粒，會(huì)最終 飛向?yàn)R射機(jī)的內(nèi)壁表面，影響其清潔。為此，在濺射機(jī)的結(jié)構(gòu)中加入了防著板。相關(guān)技術(shù)另可參閱專利申請(qǐng)?zhí)枮?00720141077.6的中國(guó)專利文件，請(qǐng)參閱圖1， 圖1繪示為現(xiàn)有技術(shù)的濺鍍機(jī)的剖面示意圖。該濺鍍機(jī)主要包括靶材10，該靶材10采 用上述真空濺鍍?cè)?，產(chǎn)生靶材原子，而這些靶材原子最終沉積在基片15上完成濺鍍； 防著板11，該防著板11設(shè)于導(dǎo)軌12兩側(cè)，該防著板11用于防止原子沉積于置物板14以 外的機(jī)臺(tái)其他位置；導(dǎo)軌12，該導(dǎo)軌12設(shè)于輸送帶13的兩側(cè)，用以導(dǎo)引置物板14移動(dòng) 方向；輸送帶13，該輸送帶13輸送置物板14經(jīng)過靶材10 ；置物板14，提供給基片15 放置。通過上述組成，基片15置于置物板14上，再將置物板14置于輸送帶13上，經(jīng) 導(dǎo)軌12導(dǎo)引，而經(jīng)過濺鍍?cè)?0完成濺鍍。請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D2，圖2為圖1中防著板的正面視圖。由圖可以看出，防著板16的 防著面11光滑。采用上述濺鍍機(jī)在濺鍍過程中，由于防著板16的防著面11光滑，因此其沉淀能 力不強(qiáng)，一方面濺射出的靶材原子或大尺寸的顆粒仍然會(huì)飛向?yàn)R射機(jī)的內(nèi)壁表面，影響 其清潔；另一方面由于大尺寸顆粒飛向基片15會(huì)造成成膜率低的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是提供一種真空濺鍍的防著板表面處理技術(shù)，增強(qiáng)防著板的 沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度，同時(shí)提高濺鍍的成膜率。為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種防著板表面處理方法，所述方法包括提 供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著 面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理?？蛇x的，對(duì)所述防著面進(jìn)行噴砂處理后，還包括用純凈水或去離子水清洗防著 面的步驟。
可選的，所述防著板的材料為鋁或者鋁合金。可選的，所述防著面和噴砂槍噴嘴的直線距離范圍為14.5cm 15.5cm?？蛇x的，噴砂槍噴嘴所噴砂粒所作的直線運(yùn)動(dòng)方向和所述防著面呈80度 100
度夾角?？蛇x的，所述噴砂處理的壓縮空氣的壓強(qiáng)調(diào)節(jié)在0.35MPa 0.6MPa?？蛇x的，所述噴砂處理的砂粒型號(hào)為22號(hào) 24號(hào)白剛玉?？蛇x的，所述噴砂處理的砂粒重量為1千克?？蛇x的，所述熔射處理的溫度控制在1000攝氏度 3000攝氏度?？蛇x的，所述熔射處理的熔射距離為50mm 500mm。可選的，所述熔射處理的熔射粉末的供給量設(shè)定為30 180g/min。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)將防著板表面進(jìn)行圖案化，使得防著板表面粗糙化；將圖案化的防著板表面進(jìn) 行噴砂處理，可以使得防著板表面形成均勻的粗糙度；將噴砂后的防著板表面進(jìn)行熔射 處理，出了形成更均勻的粗糙度之外，還增加了防著板的耐腐蝕性。因此，總的來說， 在光滑的防著板的表面進(jìn)行圖案化、噴砂和熔射處理后，達(dá)到防腐蝕、防銹、耐磨、潤(rùn) 滑、表面粗糙化、吸附、絕緣、絕熱等目的，同樣可以使得防著板的防著面達(dá)到均勻的 粗糙度；使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，使其不掉落在基片上，從 而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度；提高了濺鍍的成膜率；延長(zhǎng)了防 著板的使用壽命。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)的濺鍍機(jī)的剖面示意圖；圖2是圖1中防著板的正面視圖；圖3是本發(fā)明真空濺鍍的防著板表面處理的工藝流程示意圖；圖4是本發(fā)明對(duì)所述防著板的光滑表面進(jìn)行圖案化處理的工藝流程示意圖；圖5是本發(fā)明的真空濺鍍的防著板結(jié)構(gòu)較佳實(shí)施例的防著面局部示意圖；圖6是圖5沿A-A方向的剖視圖。
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí) 發(fā)明的具體實(shí)施方式
做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可 以采用其他不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施例 的限制。正如背景技術(shù)所述，由于其防著板的表面光滑，其沉淀能力不強(qiáng)，一方面濺射 出的靶材原子或大尺寸的顆粒仍然會(huì)飛向?yàn)R射機(jī)的內(nèi)壁表面，影響其清潔；另一方面由 于大尺寸顆粒飛向基片會(huì)造成成膜率低的缺陷。參考圖3，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種真空濺鍍的防著板表面處理方法，包括如下 步驟
步驟Si，提供表面光滑的防著板；步驟S2，對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；步驟S3，在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；步驟S4，將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。下面結(jié)合附圖對(duì)于上述實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。如步驟Sl所述，提供表面光滑的防著板。所述防著板的材料可以是鋁或者鋁合 金，所述防著板對(duì)鋁材的組成沒有特別限定，根據(jù)用途的要求可使用各種材質(zhì)的鋁材。 另外，對(duì)鋁材的加工方法也無限定，可使用擠壓出的鋁材、壓延材、鑄成材以及替他種 類的材料。防著板的形狀，根據(jù)應(yīng)用環(huán)境、濺射設(shè)備的實(shí)際要求，可以為圓形、矩形、 環(huán)形、圓錐形或其他類似形狀(包括規(guī)則形狀和不規(guī)則形狀)中的任一種，本實(shí)施例中以 長(zhǎng)度為1300mm、寬度為226.5mm、厚度為13mm的方形防著板進(jìn)行說明。接著執(zhí)行步驟S2，對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防 著面。由于在所述光滑的防著板表面設(shè)有凹凸不平的結(jié)構(gòu)，使得防著板更加容易吸附靶 材原子或大尺寸的顆粒，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度。對(duì)所述防著板的光滑防著面采用機(jī)械加工的方法進(jìn)行圖案化處理請(qǐng)參考圖4， 具體分為如下幾個(gè)步驟首先，對(duì)防著板進(jìn)行毛坯下料作業(yè)(步驟100)；然后對(duì)防著板進(jìn)行油壓校正 (步驟101)，本實(shí)施例中，所述油壓校正較佳采用100噸油壓校正；之后對(duì)防著板的防著 面進(jìn)行粗銑(步驟102)；之后對(duì)防著板的防著面進(jìn)行精銑(步驟103)；之后對(duì)防著板的 防著面進(jìn)行凹凸結(jié)構(gòu)的加工(步驟104)；最后再對(duì)平面進(jìn)行校正(步驟105)。即在加 工過程中對(duì)平面進(jìn)行校正，可以減少防著板厚度較薄而對(duì)加工出的凹凸結(jié)構(gòu)均勻性的影 響。當(dāng)然，如上所述，防著板的側(cè)面也可以設(shè)置為凹凸不平的結(jié)構(gòu)，而在制作的過程中 增加對(duì)相應(yīng)面的精銑及凹凸結(jié)構(gòu)的制作。經(jīng)過上述步驟后，防著板的防著面形成了凹凸不平的結(jié)構(gòu)，使得防著板更加容 易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔 度，提高了濺鍍的成膜率。請(qǐng)參閱圖5，圖5是本發(fā)明的真空濺鍍的防著板結(jié)構(gòu)較佳實(shí)施例的防著面局部示 意圖。在本實(shí)施例里，所述凹凸不平的結(jié)構(gòu)為所述防著板1的防著面2設(shè)有多個(gè)凸臺(tái)3， 各所述凸臺(tái)3間存在間隙。所述防著面2是所述防著板1在濺鍍過程中面向?yàn)R射出的大 尺寸顆粒的面。由于采用在凸臺(tái)3間設(shè)置間隙，從而可以使得大尺寸顆粒更容易被沉淀 吸附于防著板1防著面2。當(dāng)然，如圖5所示。所述防著板1的側(cè)面也可以設(shè)置為凹凸 不平的結(jié)構(gòu)，也可以如上述的凸臺(tái)3間存在間隙的結(jié)構(gòu)。所述側(cè)面為濺鍍過程中大尺寸 顆粒易于濺射到的側(cè)面，從而增加了吸附沉淀大尺寸顆粒的幾率。圖6是圖5沿A-A方向的剖視圖。這里，所述凸臺(tái)3呈網(wǎng)格狀排列于所述防著 板1防著面2，相鄰的所述凸臺(tái)3間以溝槽4連接。具體地，所述網(wǎng)格狀排列的凸臺(tái)3的 外形及尺寸皆相同，所述溝槽4的為外形尺寸相同。采用外形尺寸皆相同的凸臺(tái)3以及 外形尺寸皆相同的溝槽4 一方面便于加工，另一方面，由于外形尺寸相同，因此，由所 述凸臺(tái)3及所述溝槽4形成的凹凸均勻，從而便于對(duì)各個(gè)角度濺射出來的大尺寸顆粒都 可以達(dá)到穩(wěn)定地被吸附沉淀。當(dāng)然，所述凸臺(tái)3也可以為尺寸外形不相同的結(jié)構(gòu)，所述溝槽亦可以為尺寸外形不相同的結(jié)構(gòu)。承上所述，于本實(shí)施例，優(yōu)選的所述溝槽4的底面為圓柱的側(cè)面形狀，所述溝 槽4與所述凸臺(tái)3頂面相交線為所述圓柱的母線(圓柱表面與底面的高度為圓柱的母 線)。所述溝槽4的底面為半圓柱的側(cè)面，從而使得所述溝槽4形成一個(gè)半圓柱形孔。 從而便于加工且可達(dá)到較好的吸附效果，且便于清洗。當(dāng)然，所述溝槽4并不限于為半 圓柱側(cè)面形狀，亦可加工成沿著圓柱的任兩條母線切割而得到的孔狀結(jié)構(gòu)。承上所述，所述凸臺(tái)3頂面為平面，具體而言，所述凸臺(tái)3頂面為矩形平面，優(yōu) 選為正方形平面。從而可以方便加工，同時(shí)凸臺(tái)3的頂面采用平面結(jié)構(gòu)，也便于清洗。 當(dāng)然，所述凸臺(tái)3的頂面也不限于為平面，也可以為曲面，甚至所述頂面可以收縮為一 點(diǎn)，而使得所述凸臺(tái)3形成一個(gè)椎體。當(dāng)然，所述溝槽4亦可以為長(zhǎng)方體，長(zhǎng)方體也是一種相對(duì)較容易加工的的結(jié) 構(gòu)，在這里可以為較佳的實(shí)施方式。承上所述，所述溝槽4的深度較佳為Imm 2mm，優(yōu)選為2mm。所述溝槽4 若超過2mm的深度會(huì)造成對(duì)所述防著板1的防著面2清洗的時(shí)候較不易清洗，且清洗后 防著面2易變形，重復(fù)使用次數(shù)低，從而降低了防著板1的使用壽命。所述溝槽4采用 小于Imm的深度，在機(jī)械加工時(shí)，由于尺寸較小，不易加工，同時(shí)，深度太低，會(huì)降低 對(duì)濺鍍過程中產(chǎn)生的大尺寸顆粒吸附沉淀作用。通過驗(yàn)證，Imm 2mm的深度會(huì)在上 述問題間產(chǎn)生一個(gè)平衡，達(dá)到一個(gè)較佳效果。承上所述，所述凸臺(tái)3間的距離為小于等于5mm。所述凸臺(tái)3間的距離過大(大 于5mm)，會(huì)較大地影響對(duì)濺鍍過程中產(chǎn)生的大尺寸顆粒吸附沉淀作用。在其它實(shí)施例中，經(jīng)過加工處理使防著板的光滑防著面也可以形成其它凹凸不 平的結(jié)構(gòu)，只要使得防著板的防著面不再光滑，防著板就會(huì)更加容易吸附靶材原子或大 尺寸的顆粒，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度，提高了濺鍍的成 膜率。例如防著面的凹凸不平的結(jié)構(gòu)可以為菱形花紋圖案結(jié)構(gòu)、蜂窩形花紋圖案結(jié)構(gòu) (Lava-coating)等。接著執(zhí)行步驟S3，在所述防著面進(jìn)行噴砂處理。噴砂是采用壓縮空氣為動(dòng)力， 以形成高速噴射束將噴料(銅礦砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂)高速噴射到需要處 理的工件表面，使工件表面的外表面的外表或形狀發(fā)生變化，由于噴料對(duì)工件表面的沖 擊和切削作用，使工件的表面獲得一定的清潔度和不同的粗糙度。對(duì)防著板的防著面進(jìn) 行噴砂處理的作用是使得防著面的機(jī)械性能得到改善，提高了防著面的抗疲勞性，在后 續(xù)的噴射工藝中，增加了防著板防著面與涂層附著力，延長(zhǎng)了涂膜的耐久性。影響噴砂質(zhì)量的主要因素有砂粒材料、砂粒大小、砂粒重量、空氣壓力、噴 射角度、噴射距離。任何一個(gè)參數(shù)的變化都會(huì)不同程度地影響噴砂的效果。如果在本實(shí) 施中的具有凹凸不平結(jié)構(gòu)的防著面上進(jìn)行噴砂處理，會(huì)出現(xiàn)噴砂處理后的防著面上表面 粗糙度不均勻、顏色深淺不一等缺陷。因此，下面詳細(xì)說明本實(shí)施例中提供的一種噴砂 的方法，采用此噴砂技術(shù)在具有凹凸不平結(jié)構(gòu)的防著面上進(jìn)行處理，可以使得具有凹凸 不平結(jié)構(gòu)的防著板的防著面粗糙度均勻、色差小。在本實(shí)施方式中選擇每平方英寸內(nèi)含有22 24粒白剛玉的22號(hào) 24號(hào)白剛 玉作為使用的砂粒。將1千克左右的22號(hào) 24號(hào)白剛玉倒入噴砂機(jī)，噴砂機(jī)空氣壓力范圍控制在0.35MPa 0.6MPa，空氣壓力如果大于0.6MPa，則噴砂的動(dòng)力太足，使靶材 表面坑的平均深度加大，影響后續(xù)的熔射的涂層與防著面的結(jié)合力。如果空氣壓力小于 0.35MPa,則噴砂的動(dòng)力不夠，使防著板的防著面坑的平均深度太小，同樣影響后續(xù)的 熔射的涂層與防著面的結(jié)合力。被噴砂表面即防著板的防著面和噴砂槍噴嘴的直線距離根據(jù)不同的粗糙度要求 進(jìn)行調(diào)節(jié)，本實(shí)施例中距離范圍為14.5 15.5cm，而且噴砂槍噴嘴所噴砂粒所作的直線 運(yùn)動(dòng)方向和被噴砂表面呈80度 100度范圍的夾角，使得噴砂槍噴嘴固定不動(dòng)的前提下 產(chǎn)品做勻速運(yùn)動(dòng)，也是所述防著面噴砂后表面粗糙度和均勻性一致的一個(gè)條件，即可以 保證噴砂的均勻性和有一定的覆蓋范圍。噴砂后所述防著板的防著面形成平均深度為 5 8μιη的均勻粗糙層。需要說明的是，在執(zhí)行步驟S3中，可以將防著板全部進(jìn)行噴砂處理，可以僅將 防著板的防著面進(jìn)行噴砂，也可以在防著板的防著面進(jìn)行噴砂處理的同時(shí)在防著板的連 接(所述防著板的連接處是指防著板不同結(jié)構(gòu)之間的連接或者防著板與其他裝置的連接) 處進(jìn)行噴砂處理。本實(shí)施例中，為了減少工藝步驟，不僅將防著板的防著面進(jìn)行噴砂處 理，而且在防著板不同結(jié)構(gòu)之間的連接處進(jìn)行噴砂處理，在防著板的連接處進(jìn)行噴砂處 理，可以增加防著板表面的粗糙度，使得防著板更好的進(jìn)行連接。接著，可以對(duì)所述噴砂后的防著面進(jìn)行清洗，也可以對(duì)所述噴砂后的防著面不 進(jìn)行清洗。本實(shí)施例中，對(duì)所述噴砂后的防著面進(jìn)行清洗，使得后續(xù)的熔射效果更好； 具體過程為用純凈水沖洗靶材表面5 lOmin，目的是為了將所述防著面的砂粒清洗干 凈。步驟S4，將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。熔射，又稱熱噴涂或噴焊，其基本原理是將材料(粉末或線材)加熱熔化，在氣 體帶送高速下沖擊附著于底材(或工件)表面、堆積、凝固形成膜厚或涂層，達(dá)到防腐 蝕、防銹、耐磨、潤(rùn)滑、表面粗糙化、吸附、絕緣、絕熱....等目的。影響熔射質(zhì)量的主要因素有熔射材料、熔射材料的形狀、熔射材料的大小、 熔射溫度、熔射距離和熔射粉末的供給量。任何一個(gè)參數(shù)的變化都會(huì)不同程度地影響噴 砂的效果。在本實(shí)施例中，在噴砂后的防著面進(jìn)行熔射材料為粉末，可以為ΑΙ-si系合金構(gòu) 成的焊接材料粉末，也可以使用鋁粉和硅粉的混合粉末(si的含量保持在5 50wt% )。 如果硅的含量小于者大于50^^%在防著面進(jìn)行熔射處理變的很困難。為了使上述熔射粉末在防著面部分的接觸，為了使熔射粉末能光滑地通過熔射 槍的細(xì)噴嘴，需要保持50%以上的熔射粉末為球狀。所述熔射粉末的粒徑范圍最好在10 微米 200微米，如果上述熔射粉末的粒徑大于200微米。在相鄰的顆粒之間就會(huì)出現(xiàn) 間隙，使得熔射處理后的防著板表面太粗糙；如果上述熔射粉末的粒徑小于10微米，上 述熔射粉末在熔射的過程中很容易被熔化，不利于涂層的附著。在防著板上進(jìn)行熔射處理的溫度控制在1000攝氏度 3000攝氏度，如果在防著 板上進(jìn)行熔射處理的溫度小于1000攝氏度，防著面上的熔射粉末表面的熔化就不充分， 涂層與防著面的附和性較差。如果在防著板上進(jìn)行熔射處理的溫度超過了 3000攝氏度， 就會(huì)使上述粉末內(nèi)部會(huì)完全熔化，會(huì)使得防著板的防著面形成堅(jiān)硬的氧化層，該氧化層會(huì)阻礙涂層與防著面的附和。本實(shí)施例中，較好的是把溫度設(shè)定在2300攝氏度 2900 攝氏度。在防著板上進(jìn)行熔射處理的熔射距離(即熔射槍頭到防著面之間的距離)范圍為 50mm 500mm，若熔射距離不到50mm，不但熔射粉末過度熔化，使得表面氧化，而且 防著面因加熱會(huì)出現(xiàn)形狀和組織發(fā)生變化的情況。另外，如果熔射距離超過500mm，熔 射粉末會(huì)再凝固，導(dǎo)致涂層的附著量下降。本實(shí)施例中，較佳距離為150mm 300mm。熔射粉末的供給量設(shè)定為30 180g/min。如果熔射粉末的供給量小于30g/ min,則涂層在防著面的附著性能下降，若熔射粉末的供給量大于180g/min，則防著面 上的附著層變厚，由于冷卻時(shí)的收縮差，使其附和性下降的同時(shí)，增加成本。本實(shí)施例 中，較佳供給量設(shè)定在90 150g/min。對(duì)防著板進(jìn)行熔射處理的過程中，防止防著面氧化和粉末粒子的氧化，在防著 板熔射處理的周圍形成一種氮?dú)獾姆茄趸瘹夥毡容^好。熔射后所述防著板的防著面形成平均深度為10 μ m 23 μ m的均勻粗糙層。需要說明的是，在執(zhí)行步驟S4中，可以將防著板全部進(jìn)行熔射處理，可以僅 將防著板的防著面進(jìn)行熔射處理，也可以在防著板的防著面進(jìn)行熔射處理的同時(shí)在防著 板的連接(所述防著板的連接處是指防著板與防著板之間的連接或者防著板與其他裝置 的連接)處進(jìn)行熔射處理。本實(shí)施例中，結(jié)合工藝成本和達(dá)到防著板的最佳防腐蝕的效 果，不僅將防著板的防著面進(jìn)行噴砂處理，而且在防著板的背面也進(jìn)行熔射處理。當(dāng)防 著板拆卸下來清洗時(shí)，可以達(dá)到較好的防腐蝕效果，提高防著板的重復(fù)利用率，降低成 本。將防著板表面進(jìn)行圖案化，使得防著板表面粗糙化；將圖案化的防著板表面進(jìn) 行噴砂處理，可以使得防著板表面形成均勻的粗糙度；將噴砂后的防著板表面進(jìn)行熔射 處理，出了形成更均勻的粗糙度之外，還增加了防著板的耐腐蝕性。因此，總的來說， 在光滑的防著板的表面進(jìn)行圖案化、噴砂和熔射處理后，達(dá)到防腐蝕、防銹、耐磨、潤(rùn) 滑、表面粗糙化、吸附、絕緣、絕熱等目的，同樣可以使得防著板的防著面達(dá)到均勻的 粗糙度；使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，使其不掉落在基片上，從 而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度；提高了濺鍍的成膜率；延長(zhǎng)了防 著板的使用壽命。本發(fā)明雖然已以較佳實(shí)施例公開如上，但其并不是用來限定本發(fā)明，任何本領(lǐng) 域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，都可以利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì) 本發(fā)明技術(shù)方案做出可能的變動(dòng)和修改，因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依 據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均屬于本發(fā) 明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種防著板表面處理方法，其特征在于，所述方法包括提供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 處理后，還包括用純凈水或去離子水清洗防著面的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 或者鋁合金。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 嘴的直線距離范圍為14.5cm 15.5cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 作的直線運(yùn)動(dòng)方向和所述防著面呈80度 100度夾角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 氣的壓強(qiáng)調(diào)節(jié)在0.35MPa 0.6MPa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 號(hào)為22號(hào) 24號(hào)白剛玉。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 量為1千克。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于， 制在1000攝氏度 3000攝氏度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于，所述熔射處理的熔射 距離為50mm 500mm。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于，所述熔射處理的熔射 粉末的供給量設(shè)定為30 180g/min。對(duì)所述防著面進(jìn)行噴砂 所述防著板的材料為鋁 所述防著面和噴砂槍噴 噴砂槍噴嘴所噴砂粒所 所述噴砂處理的壓縮空 所述噴砂處理的砂粒型 所述噴砂處理的砂粒重 所述熔射處理的溫度控
全文摘要
一種防著板表面處理方法，所述方法包括提供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。在光滑的防著板的表面進(jìn)行圖案化、噴砂和熔射處理后，使得防著板表面達(dá)到防腐蝕、防銹、耐磨、潤(rùn)滑、表面粗糙化、吸附、絕緣、絕熱等目的。同樣可以使得防著板的防著面達(dá)到均勻的粗糙度；使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，使其不掉落在基片上，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度；提高了濺鍍的成膜率；延長(zhǎng)了防著板的使用壽命。
文檔編號(hào)C23C4/12GK102011085SQ20101052722
公開日2011年4月13日 申請(qǐng)日期2010年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月29日
發(fā)明者姚力軍, 潘杰, 王學(xué)澤, 陳玉蓉 申請(qǐng)人:寧波江豐電子材料有限公司