專利名稱：復合電極板及pecvd沉積盒和pecvd系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及薄膜太陽能電池、平板顯示等領域中的PECVD薄膜及相關器件的制備 設備，特別是一種具有復合電極板的PECVD薄膜及相關器件的制備設備。
背景技術：
PECVD (等離子體增強化學氣相沉積)通過等離子放電產(chǎn)生活性基團來促進薄膜生 成的反應，能顯著降低CVD薄膜制備的溫度，使某些原本需要在高溫下進行的CVD鍍膜反應 可以在較低溫度下進行。PECVD所使用的設備包含電極板，電極板間距顯著影響PECVD所制備的薄膜的性 能。電極板間距過大，則薄膜沉積的速度會明顯降低，成膜的質(zhì)量也會下降。電極板間距太 小，則薄膜沉積的均勻性會難以控制。對于PECVD制備的非晶硅鍺等薄膜來說，電極板間 距還可以明顯影響薄膜的光敏性等性能(參見J. V. Sali, et al·. Thin Solid Films 322 (1998) 1)。因此，根據(jù)不同的薄膜的特點調(diào)節(jié)PECVD電極板間距具有重要的意義。美國專利〈〈Discharge Electrode, RF Plasma Generation Apparatus Using the Same, And Power Supply Method))(Pub. No. : 2002/6353201 Bi)采用梯形電極的多點饋 入的方法來提高電極板放電和薄膜制備的均勻性，但此專利并未涉及電極板間距的調(diào)整方 法° 美國專利《Low-Cost and High Performance Solar Cell Manufacturing Machine》 (Pub. No. : 2007/0137574 Al)采用單點饋入并且電極板上打孔的方法來提高電極板放電 和薄膜制備的均勻性，但此專利中電極板的位置固定并且電極板的間距難以做靈活調(diào)整。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種復合電極板，其特征在于包括固定片和兩個活動片；所述活動片 設置在所述固定片的兩邊；所述活動片與所述固定片之間的距離可以調(diào)節(jié)。上述活動片和固定片之間既可以相互平行，也可以不平行。本發(fā)明還提供一種使用上述復合電極板的PECVD沉積盒和PECVD系統(tǒng)。使用上述復合電極板的PECVD系統(tǒng)可以靈活調(diào)整電極板的間距，實現(xiàn)電極板間均 勻放電。


圖1 第一實施例的PECVD設備外觀示意圖 圖2 第一實施例的PECVD沉積盒外觀示意圖 圖3 第一實施例的PECVD沉積盒剖視圖
圖4 第一實施例的陰極復合電極板外觀示意圖 圖5 第一實施例的復合電極板的橫向剖視圖 圖6 第一實施例的復合電極板的階梯軸的平面圖 圖7 第二實施例的具有傾角的復合電極板的縱向剖視8 第三實施例的陣列電極沉積盒示意圖
01、真空腔室，02、沉積盒，03、支架，1、沉積盒外殼，2、陽極電極板，3、作為陰極的復合 電極板，4、電極饋入線，5、基片支撐輪，6、基片，7、固定槽，8、絕緣槽，11、沉積盒側(cè)框架，12、 滾輪，13、沉積盒下固定板，14、沉積盒上固定板，31、復合電極板的固定片，32、復合電極板 的活動片，33、階梯軸，34、墊片，35、螺母。
具體實施例方式以下結(jié)合本發(fā)明的實施例參照例圖詳細敘述本發(fā)明的PECVD系統(tǒng)、PECVD沉積盒 以及復合電極板。實施例1:
圖1是第一實施例的PECVD系統(tǒng)設備外觀示意圖。如圖1所示，本發(fā)明相關的PECVD 系統(tǒng)主要由真空腔室01、沉積盒02和支架03組成。圖2是第一實施例的PECVD沉積盒外觀示意圖。如圖所示，沉積盒02由沉積盒外 殼1、陽極電極板2、作為陰極的復合電極板3、固定槽7和絕緣槽8組成。作為陰極的復合 電極板3和陽極電極板2放置在沉積盒外殼1的上固定板14和下固定板13的中間，分別 固定在焊接在其上的固定槽7內(nèi)。放置復合電極板3所含的固定片31的固定槽7內(nèi)裝有 絕緣槽8，與沉積盒外殼1絕緣開來。沉積盒外殼1通過滾輪12接地，陽極電極板2通過固 定槽7與沉積盒外殼1一起接地。圖3是第一實施例的PECVD沉積盒剖視圖；圖4是第一實施例的陰極復合電極 板外觀示意圖；圖5是第一實施例的復合電極板的橫向剖視圖；圖6是第一實施例的復合 電極板的階梯軸的平面圖。如圖3-5所示，作為陰極的復合電極板3由其所包含的固定片 31、活動片32、階梯軸33、墊片34和螺母35等組成。如圖6所示，階梯軸33兩端加工有螺 紋33-3。如圖5所示，階梯軸33中間軸面33-1與固定片31上對應過孔緊配合，軸面33_2 上套上墊片34，螺紋軸面33-3從活動片32上對應過孔伸出，在外端由螺母35與螺紋軸面 33-3旋入。通過調(diào)節(jié)墊片34的總厚度來調(diào)整活動片32與固定片31的距離，從而如圖4所 示，調(diào)整活動片32與陽極電極板2之間的相對距離，根據(jù)不同產(chǎn)品的需要在基片6上沉積 薄膜。PECVD制備非晶硅鍺薄膜時，通過調(diào)整墊片厚度使得電極板間距設定在15_20mm 范圍內(nèi)，且復合電極板的固定片和活動片之間有6處直徑4mm的圓形金屬墊片相連接。此 電極板間距所制備的非晶硅鍺薄膜可以具有較好的均勻性和光敏性。實施例2:
本實施例的PECVD系統(tǒng)、PECVD沉積盒和以及復合電極板與實施例1的相同，不同點在 于復合電極板的活動片保持一定程度的不平行(如圖7所示)，從而使得陽極板和陰極板 之間不平行，上端電極板間距25mm，下端電極板間距20mm，電極板放電的不均勻性能平衡 氣流的不均勻性，最終制備出較為均勻的薄膜。實施例3:
本實施例的PECVD系統(tǒng)、PECVD沉積盒和以及復合電極板與實施例1的相同，不同點在 于多個作為陰極的復合電極板3可和多個陽極電極板2相間排列構(gòu)成電極板陣列(如圖8 所示)。該電極板陣列技術能顯著提高PECVD薄膜制備的效率并降低成本。
實施例4:
本實施例的PECVD系統(tǒng)、PECVD沉積盒和以及復合電極板與實施例1的相同，不同點在 于位于中間的復合電極板是陽極，而兩端的電極板是陰極。在本發(fā)明的上書實施例中將電極饋入復合電極板，復合電極板由固定片和活動 片組成。固定片安裝在固定的絕緣槽內(nèi)，而活動片安裝在固定片上，并可以通過墊片等來調(diào) 整它們之間的連接，以達到陰極電極板與陽極板之間距離的簡便調(diào)整。所述復合電極板采用單點饋入并通過優(yōu)化其內(nèi)部各層電極板之間的墊片連接來 實現(xiàn)其外層活動片上均勻放電和薄膜沉積；
所述復合電極板所含的外層活動片可以與內(nèi)層固定片完全平行，也可保持一定程度的 不平行，能調(diào)制復合電極板上不同位置的電場強度及所制備的薄膜的性能。以上結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施例作了詳細說明，但是本發(fā)明并不限于上述實施 例，在本領域普通技術人員所具備的知識范圍內(nèi)，還可以在不脫離本發(fā)明宗旨的前提下作 出各種變化。
權(quán)利要求
一種復合電極板(3)，其特征在于， 包括固定片(31)和兩個活動片(32)；　所述活動片(32)設置在所述固定片(31)的兩邊；　所述活動片(32)與所述固定片(31)之間的距離可以調(diào)節(jié)。
2.權(quán)利要求1所述的復合電極板(3)，其特征在于，還包括階梯軸(33)、墊片(34)和螺 母(35);所述墊片(34)設置在所述固定片(31)和所述活動片(32)之間；所述固定片(31)、 活動片(32)和墊片(34)設置有過孔；所述階梯軸(33)兩端具有螺紋(33-3)；所述階梯軸 (33)穿過所述固定片(31)、活動片(32)和墊片(34)的過孔，兩端旋入螺母(35)。
3.權(quán)利要求1所述的復合電極板(3)，其特征在于，所述固定片(31)和所述活動片 (32)相互平行。
4.權(quán)利要求1所述的復合電極板(3)，其特征在于，所述固定片(31)和所述活動片(32)相互不平行。
5.—種PECVD沉積盒(2)，包括外殼(1 )、至少一個陽極電極板(2)和至少一個陰極電 極板，所述陽極電極板(2)和所述陰極電極板(3)間隔設置成電極板陣列，其特征在于，所 述陰極電極板是復合電極板(3)，包括固定片(31)和兩個活動片(32)，所述活動片(32)設 置在所述固定片(31)的兩邊，所述活動片(32)與所述固定片(31)之間的距離可以調(diào)節(jié)。
6.權(quán)利要求5所述PECVD沉積盒(2)，其特征在于，所述復合電極板還包括階梯軸(33)、墊片(34)和螺母(35)；所述墊片(34)設置在所述固定片(31)和所述活動片(32)之 間；所述固定片(31)、活動片(32)和墊片(34)設置有過孔；所述階梯軸(33)兩端具有螺紋 (33-3)；所述階梯軸(33)穿過所述固定片(31)、活動片(32)和墊片(34)的過孔，兩端旋入 螺母(35)。
7.—種PECVD沉積盒(2 )，包括外殼(1)、至少一個陽極電極板(2 )和至少一個陰極電 極板，所述陽極電極板(2)和所述陰極電極板(3)間隔設置成電極板陣列，其特征在于，所 述陽極電極板是復合電極板(3)，包括固定片(31)和兩個活動片(32)，所述活動片(32)設 置在所述固定片(31)的兩邊，所述活動片(32)與所述固定片(31)之間的距離可以調(diào)節(jié)。
8.權(quán)利要求7所述PECVD沉積盒(2)，其特征在于，所述復合電極板還包括階梯軸 (33)、墊片(34)和螺母(35)；所述墊片(34)設置在所述固定片(31)和所述活動片(32)之 間；所述固定片(31)、活動片(32)和墊片(34)設置有過孔；所述階梯軸(33)兩端具有螺紋 (33-3);所述階梯軸(33)穿過所述固定片(31)、活動片(32)和墊片(34)的過孔，兩端旋入 螺母(35)。
9.一種PECVD系統(tǒng)，包括真空腔室(01)和權(quán)利要求5所述的PECVD沉積盒(02)，所述 PECVD沉積盒(02)設置在所述真空腔室(01)內(nèi)。
10.權(quán)利要求9所述的PECVD系統(tǒng)，其特征在于，還包括支架(03)，所述支架(03)與所 述真空腔室(01)連接。
全文摘要
本發(fā)明提供一種復合電極板，其特征在于包括固定片和兩個活動片；所述活動片設置在所述固定片的兩邊；所述活動片與所述固定片之間的距離可以調(diào)節(jié)?；顒悠凸潭ㄆg既可以相互平行，也可以不平行。本發(fā)明還提供一種使用上述復合電極板的PECVD沉積盒和PECVD系統(tǒng)。使用上述復合電極板的PECVD系統(tǒng)可以靈活調(diào)整電極板的間距，實現(xiàn)電極板間均勻放電。
文檔編號C23C16/50GK101988192SQ20101054596
公開日2011年3月23日 申請日期2010年11月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月16日
發(fā)明者李志堅, 李毅, 胡盛明, 虞曉江 申請人:深圳市創(chuàng)益科技發(fā)展有限公司