專利名稱：殼體的制作方法及由該方法制得的殼體的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種殼體的制作方法及由該方法制得的殼體。
背景技術(shù)：
隨著科技的不斷進步，手機及計算機等各式電子裝置也迅速發(fā)展，其功能亦愈來愈豐富。為了使電子裝置的外觀圖案設計更加豐富多彩，傳統(tǒng)上可通過移印、印刷或激光雕刻等方式在殼體表面形成圖案，或藉由噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成圖案層，使其呈現(xiàn)良好的外觀。磁控濺射技術(shù)因其環(huán)保、制備的薄膜的外觀極具金屬質(zhì)感等特點，在裝飾性鍍膜領域的應用越來越廣。目前，以磁控濺射技術(shù)在電子裝置的殼體上形成圖案層的做法通常是先于殼體上磁控濺射一顏色層，然后激光雕刻該顏色層形成所要的圖案或紋路。但是，此種方法在形成微小點狀的不規(guī)則圖案和紋路時，加工的效果不好，且整體上加工效率不高， 嚴重制約了產(chǎn)量的提升，限制了在電子裝置殼體裝飾領域的競爭力。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于此，有必要提供一種具有星芒狀圖案的殼體制作方法。另外，還有必要提供一種由上述方法所制得的殼體。一種殼體的制造方法，包括以下步驟提供基體；采用磁控濺射方法在基體的表面形成色彩層；在該色彩層上繼續(xù)以磁控濺射方法形成圖案層，在金屬靶材前端設置一移動的擋板，開啟靶材電源，該靶材為鈦靶、鉻靶或鋯靶中的任一靶材，加熱基體至500 800°C，調(diào)節(jié)該擋板至靶材正前方，沉積1 3分鐘，使靶材原子濺射到該擋板上，并使濺射的靶材原子數(shù)量和濺射速度穩(wěn)定，移開擋板，繼續(xù)濺射1 5分鐘后關閉靶材電源，使圖案層于色彩層表面的沉積停留于形核階段。一種由上述方法制得的殼體，該殼體包括一基體、一色彩層、一圖案層，所述色彩層形成于基體的表面，所述圖案層形成于色彩層的表面，所述圖案層為Ti、Cr或^ 膜層。本發(fā)明殼體的制作方法在形成圖案層時，通過鍍膜參數(shù)的控制基體使所述圖案層于色彩層表面的沉積停留于形核階段，在高溫作用下，形成圖案層的靶材原子持續(xù)向形核中心擴散使核心不斷長大，產(chǎn)生一種星芒的裝飾效果基體，豐富了磁控濺射層的表面裝飾效果，提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。


圖1是本發(fā)明較佳實施例的殼體的剖視示意圖。圖2是本發(fā)明較佳實施例制作所述殼體的流程圖。主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供基體；采用磁控濺射方法在基體的表面形成色彩層；在該色彩層上以磁控濺射方法形成圖案層，形成所述圖案層的主要步驟參數(shù)為在金屬靶材前端設置一移動的擋板，該靶材為鈦靶、鉻靶或鋯靶中的任一靶材；開啟靶材電源， 加熱基體至500 800°C，調(diào)節(jié)該擋板至靶材正前方，沉積1 3分鐘，使靶材原子濺射到該擋板上；待濺射的靶材原子數(shù)量和濺射速度穩(wěn)定后，移開擋板，靶材原子濺射至基體的色彩層上約1 5分鐘后關閉靶材電源，使靶材原子于色彩層表面的沉積停留于形核階段以形成所述圖案層。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體的制作方法，其特征在于磁控濺射形成所述圖案層的工藝參數(shù)具體為靶材功率為4 9kw，對基材施加偏壓為-100 -300V，占空比為30 70%。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體的制作方法，其特征在于所述圖案層為11、&或& 膜層。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體的制作方法，其特征在于磁控濺射形成色彩層的工藝參數(shù)為靶材為鈦靶、鉻靶或鋯靶中的任一靶材，以氬氣為工作氣體，鍍膜腔體的溫度保持在 100-2000C，鈦靶的功率為4 9kw，形成色彩層的膜層為Ti-N層、Cr-N層或&-N層。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體的制作方法，其特征在于所述方法還包括在所述圖案層上磁控濺射防護層的步驟，該防護層為Al-O層、Si-O層或&-0層。
6.如權(quán)利要求1所述的殼體的制作方法，其特征在于磁控濺射所述防護層的工藝參數(shù)為以氧氣為反應氣體，設定氧氣流量為200 150s ccm，濺射形成該防護層的時間為 5 30分鐘，靶材電源功率為5 12kw，對基體施加-100 -300V的偏壓，占空比為30 70%，鍍膜時間5 30分鐘。
7.如權(quán)利要求6所述的殼體的制作方法，其特征在于所述形成保護層的靶材為鈦靶、 鋁靶或鋯靶。
8.如權(quán)利要求1所述的殼體的制作方法，其特征在于所述基體為玻璃、陶瓷或不銹鋼。
9.一種由權(quán)利要求1-8中的任一項所述的方法制得的殼體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種殼體的制作方法，提供基體，采用磁控濺射方法在基體的表面形成色彩層，之后，在金屬靶材前端設置一移動的擋板，開啟靶材電源，該靶材為鈦靶、鉻靶或鋯靶中的任一靶材，調(diào)節(jié)該擋板至靶材正前方，沉積一定時間，使靶材原子濺射到該擋板上，并當濺射到靶材原子數(shù)量和濺射速度都穩(wěn)定時，移開擋板，使靶材原子濺射到基體上，繼續(xù)濺射一段時間后，關閉靶材電源，使圖案層于色彩層表面的沉積停留于形核階段，以在該色彩層上形成圖案層。由上述方法所制得的殼體，該殼體包括一基體、一色彩層、一圖案層，所述色彩層形成于基體的表面，所述圖案層形成于色彩層的表面，所述圖案層為Ti、Cr或Zr膜層。
文檔編號C23C14/35GK102477527SQ201010555189
公開日2012年5月30日 申請日期2010年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月23日
發(fā)明者張 成, 張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司