專利名稱：分子泵結(jié)構(gòu)鍍膜用單元式真空室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及到一種鍍膜緩沖裝置，尤其涉及到一種分子泵結(jié)構(gòu)真空磁控鍍膜 用單元式真空裝置，屬于金屬鍍膜加工裝置領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
隨著高真空鍍膜設(shè)備質(zhì)量和技術(shù)的提高，磁懸浮高速旋轉(zhuǎn)分子泵技術(shù)的不斷完 善，同時由于分子泵電耗少、不會產(chǎn)生真空油污染現(xiàn)象、可獲得真空度高，可滿足高質(zhì)量鍍 膜真空環(huán)境的要求，所以真空鍍膜設(shè)備使用分子泵的越來越多，但目前鍍膜真空室設(shè)計分 子泵組位置和濺射陰極位置不能互換，濺射陰極排布受到一定限制，造成產(chǎn)品工藝不太靈 活，鍍膜維護(hù)次數(shù)頻繁，獲得的產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定，產(chǎn)能效率低，使用成本高，不能滿足目前高 質(zhì)量鍍膜工藝生產(chǎn)的要求。

實用新型內(nèi)容本實用新型目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜真空室設(shè)計分子泵組位置和濺射陰 極位置不能互換的缺陷，提供一種分子泵結(jié)構(gòu)鍍膜用單元式真空室。為了達(dá)到上述的目的，本實用新型提供的技術(shù)方案是一種分子泵結(jié)構(gòu)鍍膜用單元 式真空室，包含一個大真空腔室，其中，所述大真空腔室通過隔板分割成若干個相同的真空 單元，所述每個真空單元邊側(cè)覆蓋有真空蓋板，所述真空蓋板為框架結(jié)構(gòu)，所述真空單元頂 端設(shè)置有陰極蓋板，所述陰極蓋板徑向中心線位置處從上至下均勻設(shè)置有至少一個以上的 分子泵安裝法蘭，所述分子泵安裝法蘭上安裝有分子泵，所述陰極蓋板四角邊沿上對稱安 裝有旋轉(zhuǎn)陰極安裝孔，所述旋轉(zhuǎn)陰極安裝孔安裝有濺射陰極。進(jìn)一步的技術(shù)方案是所述真空單元與所述真空蓋板連接處為雙道密封連接，在所 述雙封密封連接處設(shè)置有雙封密封圈。進(jìn)一步的技術(shù)方案是所述隔板上均勻排列設(shè)置有若干個通氣孔，其作為相鄰兩個 真空單元氣氛對流的通孔。優(yōu)先的方案是所述隔板與陰極蓋板連接處采用雙道密封連接，并在密封處開有一 個抽氣檢漏裝置孔，檢測孔連接到抽氣檢漏裝置，以便檢測真空單元的密封性。優(yōu)先的方案是所述真空單元內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)陰極端頭，所述端頭可帶動陰極蓋板轉(zhuǎn) 動，當(dāng)陰極蓋板轉(zhuǎn)到覆蓋濺射陰極時，分子泵工作，而濺射陰極停止工作，當(dāng)陰極蓋板轉(zhuǎn)到 覆蓋分子泵時，濺射陰極工作，而分子泵停止工作。優(yōu)先的方案是所述真空單元內(nèi)還設(shè)置有工藝氣管、固定夾板、冷卻擋板、輥道、可 調(diào)輥道支撐、冷卻擋板支撐，其中，所述輥道兩端設(shè)置在可調(diào)輥道支撐上。優(yōu)先的方案是所述冷卻擋板設(shè)置在輥道上端，所述冷卻擋板由冷卻擋板支撐固定。優(yōu)先的方案是在所述隔板上，通氣孔下端還設(shè)置有玻璃通道孔，所述玻璃通道孔 用于鍍膜基片的進(jìn)出口。[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的技術(shù)效果是提供一種可使分子泵組與濺射陰極位 置互換的分子泵結(jié)構(gòu)鍍膜用單元式真空室，實現(xiàn)分子泵組和濺射陰極互相備用，提高鍍膜 工藝的靈活性，減少鍍膜維護(hù)的次數(shù)，提高設(shè)備的產(chǎn)能，降低產(chǎn)品的成本。

圖1、本實用新型的真空單元剖面示意圖；圖2、本實用新型大真空腔室俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3、本實用新型隔板與陰極蓋板連接示意圖；圖4、本實用新型雙道密封結(jié)構(gòu)局部放大示意圖。1-真空蓋板；2-固定夾板；3-工藝氣管；4-冷卻擋板；5-輥道；6_真空單元；7_可 調(diào)輥道支撐；40-冷卻擋板支撐；8-隔板；9-陰極蓋板；10-通氣孔；11-玻璃通道孔；12-雙 道密封圈；13-旋轉(zhuǎn)陰極端頭；14-抽氣檢漏裝置；15-分子泵安裝法蘭；16-旋轉(zhuǎn)陰極安裝 孔；18-觀察窗；19-抽氣檢漏裝置孔；100-大真空腔室。
具體實施方式
為了更好的、更清楚的表達(dá)本實用新型的技術(shù)方案，
以下結(jié)合附圖對本實用新型 做進(jìn)一步的說明。參照圖1、圖4，圖1為單個真空單元剖面示意圖，圖4為雙道密封結(jié)構(gòu)示意圖，真 空單元6上端設(shè)置有真空蓋板1，真空蓋板1與真空單元6采取雙道密封連接，在雙道密封 連接處設(shè)置有雙道密封圈12，在雙道密封處設(shè)置有密封漏氣檢測孔19，密封漏氣檢測孔19 上安裝有抽氣檢漏裝置14。在真空單元6內(nèi)設(shè)置有固定夾板2、工藝氣管3、冷卻擋板4、輥 道5、可調(diào)輥道支撐7、冷卻擋板支撐40、旋轉(zhuǎn)陰極端頭13，所述冷卻擋板4以真空單元6徑 向線為對稱分布在兩側(cè)，并設(shè)置在冷卻擋板支撐40上，所述冷卻擋板支撐40使用螺栓固定 在真空單元6底端上，在對稱的冷卻擋板4形成的空腔中間布置有兩個旋轉(zhuǎn)陰極端頭13，所 述旋轉(zhuǎn)陰極端頭13設(shè)置在陰極蓋板9上，固定夾板2設(shè)置在冷卻擋板4上端，并通過固定 夾板2把工藝氣管3固定在冷卻擋板4上。在冷卻擋板4的底端下部，單個真空單元6內(nèi) 的徑向兩頭設(shè)置有兩個可調(diào)輥道支撐7，可調(diào)輥道支撐7固定在真空單元6底端上，在一個 真空單元兩個可調(diào)輥道支撐7上安裝有輥道5，所述輥道5的作用為傳動需鍍膜的基片，在 真空蓋板1上還設(shè)置有觀察窗18。參照圖1、圖2，兩個相鄰的真空單元6通過隔板8隔離，在所述隔板8上設(shè)置有若 干個通氣孔10，通氣孔的作用為加強真空單元內(nèi)的氣氛對流，使真空單元內(nèi)的氣壓穩(wěn)定、一
致。在所述隔板8上還設(shè)置有玻璃通道孔11，所述玻璃通道孔11的作用為鍍膜基片的出入□。參照圖2所示，一個大真空腔室100通過隔板8分隔成若干個相同的真空單元6， 在每個真空單元6上設(shè)置陰極蓋板9，所述陰極蓋板9徑向中心線上設(shè)置有若干個分子泵安 裝法蘭15，所述分子泵安裝法蘭15上安裝有分子泵，所述陰極蓋板9邊端上還設(shè)置有旋轉(zhuǎn) 陰極安裝孔16，所述旋轉(zhuǎn)陰極安裝孔16可安裝有濺射陰極，所述濺射陰極與分子泵工作狀 態(tài)可互換，當(dāng)陰極蓋板9覆蓋濺射陰極時，分子泵工作，當(dāng)陰極蓋板9覆蓋分子泵時，濺射陰 極工作。
4[0022]參照圖3，在隔板8上設(shè)置有若干個通氣孔10，隔板8與陰極蓋板9采用雙道密封 連接。參照圖4，本圖為隔板8與陰極蓋板9的雙道密封結(jié)構(gòu)局部放大圖。在此圖中，雙 道密封處墊有雙道密封圈12，在兩個雙道密封圈12中間設(shè)置有抽氣檢漏裝置孔19，所述抽 氣檢漏裝置孔19上設(shè)置有抽氣檢漏裝置14，所述抽氣檢測裝置14檢測真空單元6內(nèi)的密 封性。
權(quán)利要求一種分子泵結(jié)構(gòu)鍍膜用單元式真空室，包含一個大真空腔室(100)，其特征在于，所述大真空腔室(100)通過隔板(8)分割成若干個相同的真空單元(6)，所述每個真空單元(6)邊側(cè)覆蓋有真空蓋板(1)，所述真空蓋板(1)為框架結(jié)構(gòu)，所述真空單元(6)頂端設(shè)置有陰極蓋板(9)，所述陰極蓋板(9)徑向中心線位置處從上至下均勻設(shè)置有至少一個以上的分子泵安裝法蘭(15)，所述分子泵安裝法蘭(15)上安裝有分子泵，所述陰極蓋板(9)四角邊沿上對稱安裝有旋轉(zhuǎn)陰極安裝孔(16)，所述旋轉(zhuǎn)陰極安裝孔(16)安裝有濺射陰極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單元式真空室，其特征在于，所述真空單元(6)與所述真空蓋 板(1)連接處為雙道密封連接，在所述雙道密封連接處設(shè)置有雙封密封圈(12)。
3.根據(jù)根據(jù)權(quán)利要求1所述的單元式真空室，其特征在于，所述隔板(8)上均勻排列設(shè) 置有若干個通氣孔(10)，其作為相鄰兩個真空單元(6)氣氛的對流通孔。
4.根據(jù)根據(jù)權(quán)利要求1所述的單元式真空室，其特征在于，所述隔板(6)與陰極蓋板 (9)連接處采用雙道密封連接，并在密封處開有一個抽氣檢漏裝置孔(19)，抽氣檢漏裝置 孔(19)連接到抽氣檢漏裝置(16)，以便檢測真空單元(6)的密封性。
5.根據(jù)根據(jù)權(quán)利要求1所述的單元式真空室，其特征在于，所述真空單元(6)內(nèi)設(shè)置有 旋轉(zhuǎn)陰極端頭(13)，所述端頭(13)可帶動陰極蓋板(9)轉(zhuǎn)動，當(dāng)陰極蓋板(9)轉(zhuǎn)到覆蓋濺 射陰極時，分子泵工作，而濺射陰極停止工作，當(dāng)陰極蓋板(9)轉(zhuǎn)到覆蓋分子泵時，濺射陰 極工作，而分子泵停止工作。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單元式真空室，其特征在于，所述真空單元(6)內(nèi)還設(shè)置有工 藝氣管(3)、固定夾板(2)、冷卻擋板(4)、輥道(5)、可調(diào)輥道支撐(7)、冷卻擋板支撐(40)， 其中，所述輥道(5)兩端設(shè)置在可調(diào)輥道支撐(7)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的單元式真空室，其特征在于，所述冷卻擋板(4)設(shè)置在輥道 (5)上端，所述冷卻擋板⑷由冷卻擋板支撐(40)固定。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的單元式真空室，其特征在于，在所述隔板(8)中間位置、 通氣孔(10)下端還設(shè)置有玻璃通道孔(11)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單元式真空室，其特征在于，所述真空蓋板(1)上還設(shè)置有觀 察窗(18)。
專利摘要本實用新型涉及到一種分子泵結(jié)構(gòu)鍍膜用單元式真空室，屬于磁控鍍膜機械領(lǐng)域，技術(shù)方案是一個大真空腔室通過隔板分為若干個小真空單元，在每個真空單元的隔板上覆蓋有陰極蓋板，所述陰極蓋板徑向中心線位置上設(shè)置有分子泵安裝法蘭，同時，其上端和下端還分別設(shè)置有至少四個以上的濺射陰極安裝孔，所述分子泵安裝法蘭上安裝有分子泵，濺射陰極安裝孔上安裝有濺射陰極，當(dāng)陰極蓋板覆蓋分子泵時，陰極濺射工作；當(dāng)陰極蓋板覆蓋陰極濺射時，分子泵工作，解決了以前濺射陰極和分子泵不能同時工作的缺陷。本實用新型提高了鍍膜的靈活性，減少了鍍膜的維護(hù)次數(shù)，提高了設(shè)備的產(chǎn)能。
文檔編號C23C14/35GK201686741SQ20102019000
公開日2010年12月29日 申請日期2010年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月12日
發(fā)明者李桂良, 蘇宜龍 申請人:上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司