專利名稱：一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及到粉末冶金設(shè)備方面的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
中國(guó)實(shí)用專利號(hào)為93232981.0公開一種霧化裝置，包括安裝板、固定在安裝板 上的霧化器、與霧化器連通的氣體進(jìn)氣管和位于霧化器中心的輸送金屬液流的噴嘴，其特 征在于，有一個(gè)與霧化器連接的壓板將噴嘴壓緊在霧化器上；在噴嘴內(nèi)孔中有一個(gè)可更換 的輸液管。所說(shuō)的壓板與霧化器可以通過(guò)螺栓連接。常規(guī)的噴嘴是環(huán)孔狀，由導(dǎo)流管周圍設(shè)置的四個(gè)環(huán)孔噴出水流，對(duì)中間導(dǎo)流管噴 射出的高溫鋼液進(jìn)行冷卻，以達(dá)到生成由鐵和硅組成的細(xì)末。但現(xiàn)有技術(shù)由于水煮受到水 壓及重力影響無(wú)法對(duì)每個(gè)噴射出的粉末顆粒進(jìn)行冷卻，造成粉末制造成功率比較低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的旨在提供一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，該霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置 提高了金屬粉末制造的成功率。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，包 括噴射霧化器、霧化筒和水管，所述噴射霧化器下端設(shè)置有霧化筒，所述噴射霧化器一側(cè)設(shè) 置有水管，所述噴射霧化器另一側(cè)設(shè)置有霧化器主體，所述霧化器主體設(shè)置有環(huán)縫噴嘴，所 述環(huán)縫噴嘴設(shè)置在金屬液導(dǎo)流管的末端。所述一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，所述環(huán)縫噴嘴中間有一個(gè)孔，該孔四周設(shè)有一縫隙。所述一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，所述環(huán)縫噴嘴圍繞導(dǎo)流管設(shè)置縫隙。該霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置改進(jìn)的環(huán)縫噴嘴采用圍繞導(dǎo)流管設(shè)立縫隙，水流受萬(wàn)有 引力的影響由四周縫隙中流出，對(duì)導(dǎo)流管中生成的高溫鐵硅鋼液進(jìn)行冷卻處理，解決了無(wú) 法均勻的對(duì)每個(gè)粉末的冷卻問(wèn)題，提高了金屬粉末制造的成功率。環(huán)縫噴嘴是設(shè)置在鋼液導(dǎo)流管的末端，中間有一個(gè)孔是滲漏出合成的金屬粉末， 在該孔四周有設(shè)一縫隙，水流通過(guò)該縫隙受的萬(wàn)有引力引導(dǎo)不間斷的流出，淋在該粉末上 對(duì)該粉末進(jìn)行冷卻處理，解決環(huán)孔噴嘴方式中由于水壓造成的噴射效果的不穩(wěn)定。常規(guī)環(huán)孔噴嘴冷卻處理所生成的細(xì)末由于水壓不穩(wěn)定，造成噴射不充分，導(dǎo)致細(xì) 末細(xì)度不夠及冷卻處理不均勻造成的成功率偏低；環(huán)縫(改進(jìn))噴嘴制造出現(xiàn)粉末狀顆粒 細(xì)度達(dá)負(fù)400目細(xì)度，成功率達(dá)80%以上，是原有技術(shù)所達(dá)不到的。

圖1本實(shí)用新型實(shí)施例的剖視圖；具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。如圖1所示，粉末金屬冶金設(shè)備包括漏包1、噴射霧化器2、霧化筒3、水管4、霧化 器主體5、環(huán)縫噴嘴6、環(huán)縫噴頭7、殼體8、坩堝9、耐火材料10、扁平漏眼11、護(hù)套12、噴射 霧化器中孔13 ；其中一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，包括噴射霧化器2、霧化筒3和水管4，所 述噴射霧化器2下端設(shè)置有霧化筒3，所述噴射霧化器2 —側(cè)設(shè)置有水管4，所述噴射霧化 器2另一側(cè)設(shè)置有霧化器主體5，所述霧化器主體5設(shè)置有環(huán)縫噴嘴6，所述環(huán)縫噴嘴6設(shè) 置在金屬液導(dǎo)流管的末端。一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，包括噴射霧化器2、霧化筒3和水管4，所述噴射霧化 器2下端設(shè)置有霧化筒3，所述噴射霧化器2 —側(cè)設(shè)置有水管4，所述噴射霧化器2另一側(cè) 設(shè)置有霧化器主體5，所述霧化器主體5設(shè)置有環(huán)縫噴嘴6，所述環(huán)縫噴嘴6設(shè)置在金屬液 導(dǎo)流管的末端。所述環(huán)縫噴嘴6中間有一個(gè)孔，該孔四周設(shè)有一縫隙。一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，包括噴射霧化器2、霧化筒3和水管4，所述噴射霧化 器2下端設(shè)置有霧化筒3，所述噴射霧化器2 —側(cè)設(shè)置有水管4，所述噴射霧化器2另一側(cè) 設(shè)置有霧化器主體5，所述霧化器主體5設(shè)置有環(huán)縫噴嘴6，所述環(huán)縫噴嘴6設(shè)置在金屬液 導(dǎo)流管的末端。所述環(huán)縫噴嘴6圍繞導(dǎo)流管設(shè)置縫隙。該霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置改進(jìn)的環(huán)縫噴嘴采用圍繞導(dǎo)流管設(shè)立縫隙，水流受萬(wàn)有 引力的影響由四周縫隙中流出，對(duì)導(dǎo)流管中生成的高溫鐵硅鋼液進(jìn)行冷卻處理，解決了無(wú) 法均勻的對(duì)每個(gè)粉末的冷卻問(wèn)題，提高了金屬粉末制造的成功率。環(huán)縫噴嘴是設(shè)置在鋼液導(dǎo)流管的末端，中間有一個(gè)孔是滲漏出合成的金屬粉末， 在該孔四周有設(shè)一縫隙，水流通過(guò)該縫隙受的萬(wàn)有引力引導(dǎo)不間斷的流出，淋在該粉末上 對(duì)該粉末進(jìn)行冷卻處理，解決環(huán)孔噴嘴方式中由于水壓造成的噴射效果的不穩(wěn)定。常規(guī)環(huán)孔噴嘴冷卻處理所生成的細(xì)末由于水壓不穩(wěn)定，造成噴射不充分，導(dǎo)致細(xì) 末細(xì)度不夠及冷卻處理不均勻造成的成功率偏低；環(huán)縫(改進(jìn))噴嘴制造出現(xiàn)粉末狀顆粒 細(xì)度達(dá)負(fù)400目細(xì)度，成功率達(dá)80%以上，是原有技術(shù)所達(dá)不到的。
權(quán)利要求1.一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，包括噴射霧化器、霧化筒和水管，所述噴射霧化器下端 設(shè)置有霧化筒，所述噴射霧化器一側(cè)設(shè)置有水管，其特征在于，所述噴射霧化器另一側(cè)設(shè)置 有霧化器主體，所述霧化器主體設(shè)置有環(huán)縫噴嘴，所述環(huán)縫噴嘴設(shè)置在金屬液導(dǎo)流管的末端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，其特征在于，所述環(huán)縫噴嘴中間 有一個(gè)孔，該孔四周設(shè)有一縫隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，其特征在于，所述環(huán)縫噴嘴圍繞導(dǎo)流管設(shè)置縫隙。
專利摘要本實(shí)用新型涉及到粉末冶金設(shè)備方面的技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置，包括噴射霧化器、霧化筒和水管，所述噴射霧化器下端設(shè)置有霧化筒，所述噴射霧化器一側(cè)設(shè)置有水管，所述噴射霧化器另一側(cè)設(shè)置有霧化器主體，所述霧化器主體設(shè)置有環(huán)縫噴嘴，所述環(huán)縫噴嘴設(shè)置在金屬液導(dǎo)流管的末端。該霧化器的環(huán)縫噴嘴裝置提高了金屬粉末制造的成功率。
文檔編號(hào)B22F9/08GK201855947SQ20102022827
公開日2011年6月8日 申請(qǐng)日期2010年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月13日
發(fā)明者羅志敏 申請(qǐng)人:深圳市鉑科磁材有限公司