專利名稱：真空濺射帶狀導(dǎo)電薄膜的在線處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及導(dǎo)電薄膜的在線處理裝置，具體涉及真空濺射帶狀導(dǎo)電薄膜的在 線處理裝置。
背景技術(shù)：
隨著真空鍍膜工業(yè)的飛速發(fā)展，各種鍍膜工藝也逐步完善，但是對于真空鍍膜前， 對于基材的處理工藝還是參差不齊，跟不上鍍膜工藝，使之整個生產(chǎn)工藝不完善，產(chǎn)品質(zhì)量 有缺陷。真空鍍膜前對基材的處理工藝是整個真空鍍膜工藝的重要組成部分，原有的真空 鍍前處理工藝是高壓電暈、輝光放電，還有的是用箱式或隧道式烘箱烘干除氣、除濕，鍍前 處理工藝與真空鍍膜工藝不是在線處理，且在大氣狀態(tài)下進行，達不到材料表面改性的高 質(zhì)量要求。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于提供真空濺射帶狀導(dǎo)電薄膜的在線處理裝置，在線處理 裝置安裝在同一真空室，在真空度、氣氛易于控制狀態(tài)下進行鍍前處理與真空鍍膜，增強鍍 層結(jié)合力，提高導(dǎo)電薄膜質(zhì)量。本實用新型的技術(shù)解決方案是真空室由隔板間隔成放料室和濺射室，真空室內(nèi) 安裝生產(chǎn)裝置，生產(chǎn)裝置包括輸送架、紅外加熱器、離子源、深冷捕集器、氣體發(fā)放器和濺射 靶，在放料室和濺射室內(nèi)排布連貫的輸送架，輸送架的首尾端都位于放料室，在輸送架的首 端安裝放料輥，在輸送架的尾端安裝收料輥，在放料室內(nèi)位于輸送架的兩側(cè)呈平面矩形安 裝離子源，在離子源之前安裝紅外加熱器，在濺射室內(nèi)位于輸送架的兩側(cè)呈平面矩形安裝 一組濺射靶，濺射室內(nèi)位于濺射靶的前方安裝氣體發(fā)放器，放料室、濺射室內(nèi)各放置一個深 冷捕集器和真空泵。其中，在輸送架的接近首尾端上分別安裝張力器。工作時，基材由放料輥放出，被輸送架輸送經(jīng)過放料室的紅外加熱器和離子源，再 經(jīng)過濺射室的氣體發(fā)放器、濺射靶，最后由放料室的收料輥將導(dǎo)電薄膜收集起來；其中，基 材在經(jīng)過紅外加熱器、離子源時，基材被清潔表面、消除水汽、克服張力；其中，預(yù)處理后的 基材在濺射室內(nèi)經(jīng)濺射靶直接濺射，形成ITO導(dǎo)電薄膜。本實用新型的優(yōu)點是放料室與濺射室是隔離的，離子源、紅外加熱器、深冷捕集器 安裝在同一放料室，氣氛易于控制，基材在進入濺射鍍膜之前在放料室內(nèi)對基材進行表面 改性、除氣、除濕、加熱等處理，且對所產(chǎn)生的水汽進行捕集，以免對鍍層產(chǎn)生影響，從而提 高鍍層結(jié)合力，降低了導(dǎo)電薄膜的表面電阻。

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖[0010]圖中1隔板，2放料室，3濺射室，4輸送架，5離子源，6、7深冷捕集器，8氣體發(fā)放 器，9濺射靶，10放料輥，11收料輥，12、13真空泵，14、15張力器，16紅外加熱器。
具體實施方式
如圖1所示，真空室由隔板1間隔成放料室2和濺射室3，真空室內(nèi)安裝生產(chǎn)裝置， 生產(chǎn)裝置包括輸送架4、紅外加熱器16、離子源5、深冷捕集器6、7、氣體發(fā)放器8和濺射靶 9，在放料室2和濺射室3內(nèi)排布連貫的輸送架4，輸送架4的首尾端都位于放料室2，在輸 送架4的首端安裝放料輥10，在輸送架4的尾端安裝收料輥11，在放料室2內(nèi)位于輸送架 4的兩側(cè)呈平面矩形安裝離子源5，在離子源5之前安裝紅外加熱器16，在濺射室3內(nèi)位于 輸送架4的兩側(cè)呈平面矩形安裝一組濺射靶9，濺射室3內(nèi)位于濺射靶9的前方安裝氣體發(fā) 放器8，放料室2、濺射室3內(nèi)各放置一個深冷捕集器6、7和真空泵12、13。其中，在輸送架4的接近首尾端上分別安裝張力器14、15。工作時，基材由放料輥10放出，被輸送架4輸送經(jīng)過放料室2的紅外加熱器16和 離子源5，再經(jīng)過濺射室3的氣體發(fā)放器8、濺射靶9，最后由放料室2的收料輥11將導(dǎo)電薄 膜收集起來；其中，基材在經(jīng)過紅外加熱器16、離子源5時，基材被清潔表面、消除水汽、克 服張力；其中，預(yù)處理后的基材在濺射室3內(nèi)經(jīng)濺射靶9直接濺射，形成ITO導(dǎo)電薄膜。
權(quán)利要求1.真空濺射帶狀導(dǎo)電薄膜的在線處理裝置，其特征在于真空室由隔板(1)間隔成 放料室(2)和濺射室(3)，真空室內(nèi)安裝生產(chǎn)裝置，生產(chǎn)裝置包括輸送架(4)、紅外加熱器 (16)、離子源(5)、深冷捕集器(6、7)、氣體發(fā)放器(8)和濺射靶(9)，在放料室(2)和濺射室 (3)內(nèi)排布連貫的輸送架(4)，輸送架(4)的首尾端都位于放料室(2)，在輸送架(4)的首端 安裝放料輥(10)，在輸送架(4)的尾端安裝收料輥(11)，在放料室(2)內(nèi)位于輸送架(4) 的兩側(cè)呈平面矩形安裝離子源(5)，在離子源(5)之前安裝紅外加熱器(16)，在濺射室(3) 內(nèi)位于輸送架⑷的兩側(cè)呈平面矩形安裝一組濺射靶(9)，濺射室(3)內(nèi)位于濺射靶(9)的 前方安裝氣體發(fā)放器(8)，放料室(2)、濺射室(3)內(nèi)各放置一個深冷捕集器(6、7)和真空 泵(12、13)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空濺射帶狀導(dǎo)電薄膜的在線處理裝置，其特征在于其中， 在輸送架(4)的接近首尾端上分別安裝張力器(14、15)。
專利摘要本實用新型公開了真空濺射帶狀導(dǎo)電薄膜的在線處理裝置，在放料室(2)和濺射室(3)內(nèi)排布連貫的輸送架(4)，在放料室(2)內(nèi)位于輸送架(4)的兩側(cè)安裝紅外加熱器(16)、離子源(5)，在濺射室(3)內(nèi)位于輸送架(4)的兩側(cè)安裝氣體發(fā)放器(8)、一組濺射靶(9)，放料室(2)、濺射室(3)內(nèi)各放置一個深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。本實用新型的放料室與濺射室是隔離的，離子源、紅外加熱器、深冷捕集器安裝在同一放料室，氣氛易于控制，基材在進入濺射鍍膜之前進行表面改性、除氣、除濕、加熱等處理，且對水汽進行捕集，以免對鍍層產(chǎn)生影響，增強鍍層結(jié)合力，降低導(dǎo)電薄膜的表面電阻。
文檔編號C23C14/56GK201778104SQ20102025796
公開日2011年3月30日 申請日期2010年7月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月13日
發(fā)明者傅青炫, 夏慎領(lǐng), 陳先鋒, 馬爾松 申請人:淮安富揚電子材料有限公司